Известия РАН. Серия физическая, 2023, T. 87, № 10, стр. 1434-1440

Электронная микроскопия и спектроскопия энергетических потерь электронов тонких пленок нитрида титана в TiNx/La: HfO2 (Hf0.5Zr0.5O2)/TiNx/SiO2

Е. И. Суворова 1*, О. В. Уваров 2, А. А. Клименко 3, К. В. Чиж 23

1 Федеральное государственное учреждение “Федеральный научно-исследовательский центр “Кристаллография и фотоника” Российской академии наук”, Институт кристаллографии имени А.В. Шубникова Российской академии наук
Москва, Россия

2 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр “Институт общей физики имени А.М. Прохорова Российской академии наук”
Москва, Россия

3 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки “Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук”
Москва, Россия

* E-mail: suvorova@crys.ras.ru

Поступила в редакцию 20.04.2023
После доработки 22.05.2023
Принята к публикации 28.06.2023

Аннотация

Методами электронной микроскопии и спектроскопии энергетических потерь электронов исследована структура и свойства электродов TiNx, полученных методом плазмо-стимулированного атомно-слоевого осаждения, в системе 20 нм TiNx/10 нм La: HfO2(Hf0.5Zr0.5O2)/20 нм TiNx/1 мкм SiO2. Показано, что материал электродов имеет состав TiNxOy, ширина запрещенной зоны изменяется в пределах 1.7–2.5 эВ, удельное сопротивление составляет 208 мкОм ⋅ см и значение температурного коэффициента сопротивления (20–100°C) равно –31.4 · 10–6 1/K.

Список литературы

  1. Müller J., Polakowski P., Polakowski S., Mikolajick T. // ECS J. Solid State Sci. Technol. 2015. V. 4. No. 5. P. N30.

  2. Park M.H., Lee Y.H., Mikolajick T. et al. // MRS Commun. 2018. V. 8. P. 795.

  3. Chernikova A.G., Kuzmichev D.S., Negrov D.V. et al. // Appl. Phys. Lett. 2016. V. 108. Art. No. 242905.

  4. Song G., Wang Y., Tan D.Q. // IET Nanodielectr. 2022. V. 5. P.1.

  5. Munde M.S., Mehonic A., Ng W.H. et al. // Sci. Reports. 2017. V. 7. Art. No. 9274.

  6. Suvorova E.I., Uvarov O.V., Chizh K.V. et al. // Nanomaterials. 2022. V. 12. Art. No. 3608.

  7. Abdallah I., Dupressoire C., Laffont L. et al. // Corros. Sci. 2019. V. 153. P. 191.

  8. Bertoni G., Beyers E., Verbeeck J. et al. // Ultramicroscopy. 2006. V. 106. P. 630.

  9. Matveyev Y., Negrov D., Chernikova A. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2017. V. 9. No. 49. P. 43370.

  10. Agustin M.P., Fonseca L.R.C., Hooker J.C., Stemmer S. // Appl. Phys. Lett. 2005. V. 87. Art. No. 121909.

  11. Graciani J., Hamad S., Sanz J. Fdez // Phys. Rev. B. 2009. V. 80. Art. No. 184112.

Дополнительные материалы отсутствуют.