УДК 620.179.147

КОНТРОЛЬ УДЕЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ ДВУХСЛОЙНЫХ

НЕМАГНИТНЫХ ОБЪЕКТОВ ИМПУЛЬСНЫМ ВИХРЕТОКОВЫМ МЕТОДОМ

¹ НИУ «МЭИ», Россия 111250 Москва, ул. Красноказарменная, 14

E-mail: ^*terekhin.iv@mail.ru; ^**carpe_ugulum@mail.ru

Поступила в редакцию 12.07.2017; после доработки 14.01.2019;

принята к публикации 01.02.2019

Рассмотрен контроль удельной электропроводности двухслойных немагнитных объектов импульсным вихретоко-

вым методом. Сигналы вихретокового преобразователя исследованы с помощью конечно-элементной модели. По резуль-

татам моделирования в зависимости от соотношения параметров покрытия и основания объекта контроля предложены

два способа определения удельной электропроводности на основе интегрирования магнитного потока. Работоспособность

предложенной методики подтверждена в лабораторном опыте.

Ключевые слова: вихретоковый контроль, импульсное возбуждение, контроль электропроводности, двухслойный

объект контроля, конечно-элементное моделирование, магнитный поток.

DOI:10.1134/S0130308219040055

ВВЕДЕНИЕ

Одной из основных областей применения вихретокового контроля является измерение удель-

ной электропроводности металлических изделий. В настоящий момент эта задача решена для наи-

более распространенного случая однородного изотропного объекта контроля. По мере совершен-

ствования промышленных технологий все чаще вместо усредненного значения электропроводно-

сти требуется оценивать ее распределение по толщине объекта, а также проводить раздельный

контроль покрытия и основания. К таким задачам относится контроль свойств изделий после

термообработки, когда твердость (и электропроводность) изменяется по глубине объекта [1]; кон-

троль двухслойных немагнитных объектов [2], таких как алюминиевые листы с гальваническими

покрытиями. В металлургии распространена задача контроля заполнения жидкой сталью метал-

лургических емкостей через медную стенку формы. Вихретоковый преобразователь в этом случае

проектируется как измеритель электропроводности [3]. Также в металлургии необходимо контро-

лировать соотношение жидкой и твердой фаз непрерывнолитой заготовки в процессе ее кристал-

лизации для управления усилием при так называемом мягком обжатии слитка, то есть обжатии с

не полностью затвердевшей сердцевиной. Излишнее усилие приведет к выплескиванию жидкого

металла, а недостаточное — не позволит улучшить качество поверхности слитка [4]. Эту задачу

также можно решать на основе контроля электропроводности немагнитных материалов.

Для немагнитных объектов задача контроля электропроводности решается вихретоковым

методом при гармоническом или импульсном возбуждении преобразователя. Наиболее полные

сведения о гармоническом возбуждении содержатся в справочной литературе [5]. Приведены годо-

графы для частного случая двухслойного объекта с переменной электропроводностью покрытия и

основания, контроль предлагается вести с использованием известных способов выделения инфор-

мации на комплексной плоскости. Работа [6] посвящена оценке возможности получения профиля

остаточных напряжений и визуализации распределения электропроводности методом вихревых

токов c использованием двухчастотного возбуждения преобразователя.

По сравнению с гармоническим возбуждением импульсное более информативно и характери-

зуется отсутствием трансформаторной ЭДС [7], являющейся причиной дрейфа при гармоническом

возбуждении. Последнее очень важно с практической точки зрения при проведении контроля в

промышленных условиях, когда такие внешние факторы, как температура и давление, могут зна-

чительно изменяться, а калибровку приборов можно проводить с периодом, достигающим недели.

В справочнике [5] контроль электропроводности однородного объекта при импульсном воз-

буждении преобразователя предлагается вести, оценивая интеграл под кривой магнитного потока,

причем интегрирование за период возбуждения дает линейную зависимость интеграла от электро-

проводности. Опубликованные в периодической литературе работы по исследованию импульсного

возбуждения посвящены в основном толщинометрии покрытий. Толщина объекта влияет на пере-

ходный процесс сходно с электропроводностью, поэтому контроль толщины представляет опреде-

ленный интерес. В [8] и [9] рассмотрен контроль толщины покрытия на немагнитном и магнитном

Контроль удельной электропроводности двухслойных немагнитных объектов...

основаниях соответственно. В качестве информативных параметров вихретокового сигнала преоб-

разователя использовали пиковое значение, время появления пикового значения и координата

пересечения сигнала преобразователя с временной осью. Метод вычисления толщины покрытия

образца базируется на калибровочных характеристиках этих параметров и требует знания электро-

проводности обоих слоев. В [10] для контроля толщины стальных труб без покрытия авторами

предлагается использовать длительность вихретокового переходного процесса. Такие информа-

тивные параметры сигнала применимы только при оценке электропроводности покрытия и не

подходят для оценки электропроводности основания. В исследовании [11] рассмотрен способ

отстройки от влияния электропроводности при контроле зазора, основанный на определении инте-

гралов магнитного потока на выбранных интервалах времени. Отмечается, что возможно решение

обратной задачи: отстройки от зазора при контроле электропроводности. Публикация интересна

тем, что в ней предложено аналитическое выражение для оценки времени достижения вихревыми

токами определенной глубины, с помощью которого авторы определяли интервалы времени инте-

грирования.

Из анализа литературы можно сделать вывод, что в сравнении с гармоническим сведений об

импульсном способе возбуждения вихретоковых преобразователей на сегодняшний день мало:

известно, что контроль электропроводности покрытия можно осуществлять, используя набор при-

знаков вихретокового сигнала; для оценки свойств основания двухслойного объекта методик в

литературе нет. Применять методики, используемые при оценке электропроводности покрытия,

для контроля основания нельзя, так как они не учитывают влияние проводящего покрытия на про-

текание вихретокового процесса в основании.

В настоящей работе рассматривается общая задача раздельного контроля электропроводности

покрытия и основания двухслойного объекта с тем, чтобы изучить возможности и ограничения

импульсного способа возбуждения. Недостаток общих работ по импульсному вихретоковому кон-

тролю, а также обширность потенциальных областей применения раздельного контроля электро-

физических свойств покрытия и основания двухслойных объектов определяют актуальность тако-

го исследования. С точки зрения теоретической ценности полученные в работе результаты допол-

няют представления о вихретоковых процессах в многослойных биметаллических объектах при

импульсном возбуждении вихревых токов и дают общие представления о возможностях импульс-

ного контроля двухслойных объектов. В работе предложены способы определения электропровод-

ности основания плоского двухслойного немагнитного объекта контроля в зависимости от соот-

ношения параметров основания и покрытия.

В рамках поставленной задачи рассматривался не один конкретный образец, а модельный объ-

ект, соотношения электропроводностей покрытия и основания которого изменяются в широких

пределах. Во избежание излишнего усложнения в работе исследовался двухслойный объект с

известными постоянными толщинами покрытия и основания, а также постоянным зазором между

преобразователем и контролируемым образцом.

МАТЕМАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ И ЕЕ ДОСТОВЕРНОСТЬ

При моделировании рассматривался двухслойный объект контроля с электропроводностью

основания σ_осн= 38 - 58 МСм/м и толщиной T_осн= 20 мм и покрытием толщиной T_п = 4 мм с

переменной электропроводностью σ_п = 0 - 500 МСм/м. Глубина контроля при импульсном воз-

буждении определяется радиусом обмотки возбуждения и в разы превышает толщину покрытия,

чтобы обеспечить чувствительность к свойствам основания. Толщина нижнего слоя образца

была подобрана таким образом, чтобы не влиять на переходный вихретоковый процесс. При

иных значениях толщин результаты будут схожи качественно, но при этом отличаться количе-

ственно, так как толщина наряду с электропроводностью определяет длительность переходного

вихретокового процесса.

Для исследования сигналов вихретокового преобразователя над немагнитной двухслойной

пластиной в среде анализа электромагнитных процессов ANSYS Electromagnetics была построена

конечно-элементная трехмерная модель, ее геометрия показана на рис.1. Вихретоковый преобра-

зователь состоит из двух соосных обмоток возбуждения и измерения радиусом 7 и 9,5 мм соот-

ветственно. Расстояние до объекта контроля составляет 1 мм. Для устранения влияния краевого

эффекта размеры объекта контроля были выбраны много больше диаметра преобразователя.

Ток возбуждения задается в сечении преобразователя как идеальный единичный импульс.

Анализируемым сигналом является зависимость магнитного потока измерительной обмотки от

времени.

Дефектоскопия

№ 4

2019

И.В. Терехин, Е.А. Славинская

∅ 19

∅ 14

∅ 8

σ_п

σ_осн

Рис. 1. Геометрия модели:

1 — обмотка возбуждения; 2 — измерительная обмотка; 3 — покрытие; 4 — основание.

Для проверки математической модели использовался лабораторный опыт. Вихретоковый преоб-

разователь представлял собой две пары катушек, показанных на рис. 1, разнесенных по высоте на

30 мм. Катушки возбуждения включены согласно, измерительные катушки включены встречно для

компенсации трансформаторной ЭДС. Дифференциальный сигнал измерительных катушек пода-

вался непосредственно на вход 24-разрядного АЦП с частотой дискретизации 8 кГц. Были записаны

и рассчитаны ЭДС вихретокового преобразователя, установленного над объектом контроля в виде

медной пластины толщиной 10 мм, а затем на двухслойный объект в виде той же медной пластины

и помещенной под нею без зазора алюминиевой пластины толщиной также 10 мм. Период тока воз-

буждения 100 мс, скважность 0,5, постоянная времени катушки возбуждения 1,1 мс.

0,5

100

0,25

Модель

Эксперимент

-0,25

-0,5

-0,75

Модель

-1

Эксперимент

-1,25

2,5

7,5

–1,5

Время, мс

Рис. 2. Сигнал от двухслойного объекта.

Рис. 3. Сигнал, вносимый основанием.

На рис. 2 показаны зависимость ЭДС дифференциальных катушек на двухслойном объекте, а

на рис. 3 — разность между сигналом от двухслойного объекта и сигналом исключительно от

покрытия. Сигнал на рис. 3 соответствует внесению основания толщиной 10 мм. Получено хоро-

шее согласие расчетов и экспериментальных данных, за исключением области вблизи нуля на рис.

3, что вызвано неидеальной компенсацией трансформаторной ЭДС в лабораторном опыте.

РЕЗУЛЬТАТЫ МОДЕЛИРОВАНИЯ

На рис. 4 показаны временные диаграммы магнитного потока Φ(t), зарегистрированного изме-

рительной обмоткой, для нескольких сочетаний электропроводностей покрытия и основания.

Моменту времени t = 0 соответствует момент бесконечно быстрого уменьшения тока возбуждения

до нуля.

Зависимости 1 — 4 иллюстрируют переходный процесс для случая σ_п << σ_осн. Кривая 1 соот-

ветствует переходному процессу в покрытии с σ_п = 1 МСм/м. Кривая 2 — переходному процессу

в основании с σ_осн = 38 МСм/м, кривая 3 — двухслойному объекту с теми же электропроводностя-

ми и толщинами покрытия и основания. В начале переходного процесса имеется информация

Дефектоскопия

№ 4

2019

Контроль удельной электропроводности двухслойных немагнитных объектов...

Рис. 4. Зависимость магнитного потока от времени.

Φ, нВб

4,5

только о покрытии и возможно независи-

мое измерение его свойств. Вторая часть

3,5

переходного процесса несет информацию

как о покрытии, так и об основании. Третья

2,5

часть переходного процесса уже не зависит

от покрытия: кривые 2 и 3 сливаются, начи-

1,5

ная с момента времени t = 1 мс (около 10 %

длительности переходного процесса в

0,5

основании объекта контроля). Чем больше

t, мс

σ_п, тем продолжительнее будут первая и

0,01

0,1

100

вторая части переходного процесса, что

видно по кривой 4, соответствующей σ_п = 5 МСм/м и σ_осн = 38 МСм/м. Выделить в переходном

процессе участки, где имеется информация только об основании или покрытии возможно, если

длительность переходных процессов в слоях объекта (зависящая от электропроводности и толщи-

ны покрытия и основания) отличается более чем в 5 раз. При меньшем отличии переходный про-

цесс оканчивается на условно второй части: области одновременного влияния покрытия и основа-

ния (см. кривые 5 и 6 для σ_п = 58 МСм/м, σ_осн = 38 МСм/м и σ_п = 58 МСм/м, σ_осн = 0 МСм/м соот-

ветственно). Переходный процесс в покрытии с σ_п = 58 МСм/м (кривая 6) затухает в три раза

быстрее, чем в основании (кривая 1), но переходный процесс в двухслойном объекте (кривая 5)

длится дольше, чем в основании. Следовательно, независимо измерить параметры нижнего слоя в

данном случае уже нельзя.

Чем больше электропроводность покрытия, тем меньшее влияние будет оказывать основание

на переходный процесс. Кривые 7, 8 показывают гипотетический случай, когда σ_осн << σ_п: кривая

7 соответствует двухслойному образцу с σ_п = 500 МСм/м, σ_осн = 38 МСм/м, а кривая 8 — только

покрытию с σ_п =500 МСм/м. Говорить о переходном процессе в основании уже не корректно, так

как переходный процесс в нем становится вынужденным — вихревые токи в основном определя-

ются скоростью изменения магнитного потока в покрытии, а не постоянной времени основания.

Поэтому влияние основания будет наблюдаться, начиная с момента достижения вихревыми тока-

ми нижнего слоя и до завершения переходного процесса в покрытии. Проводимость основания

определяет только величину магнитного потока в последней части переходного процесса.

После фронта тока возбуждения вихревые токи распространяются с поверхности вглубь объ-

екта контроля. Поэтому электропроводность покрытия при любом соотношении проводимостей

следует определять за интервал времени от нуля до того момента, когда вихревые токи достигнут

основания. Оценить границу временного интервала можно с помощью кривых вносимого вектор-

ного потенциала А_вн(t), приведенных в [5], или расчетным путем по методике, предложенной в

публикации [11].

Как отмечалось выше, при σ_п << σ_осн переходный процесс в покрытии заканчивается так

быстро, что не оказывает влияния на затухание вихревых токов в основании в конце переходного

процесса. После окончания переходного процесса в покрытии объект контроля можно рассматри-

вать как однослойный. Для оценки σ_осн можно вычислять площадь под кривой магнитного потока

на последнем участке переходного процесса. Начало этого участка можно приближенно оценить

как 3 ∙ τ_п, где τп — длительность переходного процесса в покрытии.

При близких значениях длительности переходных процессов в покрытии и основании кон-

троль электрофизических свойств нижнего слоя усложняется, так как имеется одновременное

влияние обоих слоев, а значит, каждую задачу следует рассматривать как частный случай.

МЕТОДИКА ОЦЕНКИ ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ ДВУХСЛОЙНОГО ОБЪЕКТА С МАЛЫМ

РАЗЛИЧИЕМ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИХ СВОЙСТВ

В качестве основного информативного параметра для оценки электропроводности в работе

использовался интеграл кривой магнитного потока по времени. Это наиболее помехоустойчи-

вый параметр вихретокового сигнала, пропорциональный электропроводности и толщине объ-

екта контроля. Информация, поступающая с преобразователя, носит накопительный характер:

по мере проникновения вихревых токов по глубине объекта измеряемый сигнал в каждый

момент времени зависит от электрофизических свойств всех лежащих выше слоев. Основная

идея при определении электропроводности основания заключается в оценке интеграла под кри-

Дефектоскопия

№ 4

2019

И.В. Терехин, Е.А. Славинская

3,0

2,5

2,0

1,5

Int [t₁, t₂]

1,0

Int [t₃, t₄]

0,5

0,0

t₁

t₂

t, мс

t₃

t₄

Рис. 5. Интервалы интегрирования магнитного потока.

вой магнитного потока от времени на нескольких интервалах. Условно, начальный участок пере-

ходного процесса соответствует области влияния покрытия, а конечный временной промежуток

— совместному влиянию покрытия и основания. Чтобы выделить информацию об электропро-

водности основания из интеграла на конечном временном интервале вычитается поправка, опре-

деляемая с помощью интеграла за начальный временной интервал. Таким образом, информа-

тивный параметр для оценки электропроводности нижнего слоя объекта контроля можно опре-

делить как ∆Int = Int[t

- Int[t

· k, где ΔInt — информативный параметр, Int[t

, Int[t

— инте-

,t₄]

,t₂]

,t₄]

1,t2^]

гралы за конечный

и начальный временной участок переходного процесс

а соответственно

(см. поясняющий рис. 5), k — коэффициент пропорциональности. Коэффициент k подбирался

таким образом, чтобы при равенстве электропроводностей покрытия и основания ΔInt равнялся

бы нулю. В этом случае величина ΔInt оказывается пропорциональна разности электропровод-

ностей ∆σ = σ_п - σ_осн, и σ_осн вычисляется на основе измерения σ_пи разности электропроводностей

покрытия и основания ∆σ. По модулю и знаку ΔInt можно определить разницу между электро-

проводящими свойствами основания и покрытия. Выбор интервалов интегрирования можно

проводить, ориентируясь на кривые векторного потенциала A_вн(t_*) [5]. Для определения электро-

проводности покрытия следует выбирать интервал времени от t₁= 0 до t₂ = 0,3τ_п, где τ_п — дли-

тельность переходного процесса в покрытии с учетом его толщины. Конечный временной интер-

вал интегрирования целесообразно выбирать от t₃ = 3τ_п до t₄, где t₄ ограничивается общей дли-

тельностью переходного процесса во всем объекте контроля. Пределы интегрирования опреде-

ляют величину коэффициента k, поэтому для каждого объекта контроля требуется отдельная

математическая модель. Зависимость k от σ_п, построенная по модели, описанной выше, показана

на рис. 6. Зависимость линейна в заданном диапазоне электропроводности покрытия. Этот

результат важен, поскольку на практике настройка может проводиться с использованием мини-

мум двух образцов. Нужно заметить, что выбором пределов интегрирования можно в определен-

ной степени ослабить влияние толщины основания, если выбирать t₄ в несколько раз меньше

длительности переходного процесса в двухслойном объекте.

Описанная методика была применена к вихре-

токовым сигналам, полученным в процессе чис-

0,40

ленного моделирования и лабораторном экспери-

менте. Вихретоковый преобразователь соответ-

0,35

ствует рис. 1. В лабораторном эксперименте

исследовались сигналы от нескольких образцов в

виде пластин толщиной 7 мм из различного

0,30

металла — дюралюминий, алюминий и медь,

удельная электропроводность которых составляет

18, 38 и 58 МСм/м соответственно. Покрытие

0,25

моделировалось алюминиевой пластиной, мате-

риал основания менялся: дюралюминий и медь.

0,20

Зависимость ∆Int от ∆σ, рассчитанная с помощью

Рис. 6. Зависимость коэффициента пропорциональности от

электропроводности покрытия.

σ_п, МС/м

Дефектоскопия

№ 4

2019

Контроль удельной электропроводности двухслойных немагнитных объектов...

Рис.

7. Зависимость информативного параметра

Модель

от приращения электропроводности.

Эксперимент

модели, показана на рис. 7, она использовалась

в лабораторном опыте при оценке электропро-

водности основания. Пунктиром на рис. 7 обо-

значена зависимость, соответствующая лабора-

торному эксперименту, подтверждающая досто-

верность модели и работоспособность предло-

женной методики. При использовании расчет-

-1

ной зависимости ∆Int от ∆σ абсолютная погреш-

ность определения электропроводности основа-

-2

ния составила 2,5 МСм/м при разности элек-

тропроводностей

20 МСм/м. Погрешность

-20

-10

предложенного способа контроля электропро-

Δσ, МСм/м

водности основания, вероятно, можно снизить,

используя для настройки (получения зависимости ∆Int от ∆σ) стандартные образцы вместо матема-

тического моделирования, об этом говорит систематический характер отличия результатов модели

и эксперимента (см. рис. 7). Поэтому вопрос достижимых точности и разрешающей способности

является предметом дальнейшей работы.

Предложенная методика может использоваться и в случае, когда электропроводность основа-

ния заметно меньше электропроводности покрытия, но с некоторыми отличиями. Выбор интерва-

лов времени интегрирования t₃— t₄осуществляется иначе: t₃> 0,3τ_п, t₄ ограничено постоянной

времени переходного процесса в покрытии.

При любом соотношении электропроводностей контроль электропроводности основания под-

разумевает хотя бы приблизительное знание толщины слоев, так как толщинами слоев определя-

ются пределы интегрирования магнитного потока.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В настоящей работе рассмотрена задача контроля удельной электропроводности основания

двухслойных немагнитных объектов импульсным вихретоковым методом. Выяснено, что возмож-

ности импульсного вихретокового контроля электропроводностей покрытия и основания меняют-

ся в зависимости от соотношения электропроводности слоев. В работе предложены новые методи-

ки оценки электропроводности основания, различающиеся в зависимости от соотношения параме-

тров покрытия и основания.

Показано, что если длительность переходного процесса в покрытии меньше длительности про-

цесса в основании более чем в 5 раз, существуют интервалы времени в начале и в конце переход-

ного процесса, где магнитный поток измерительной катушки зависит только от параметров покры-

тия и основания соответственно. Возможен раздельный контроль электропроводности каждого

слоя по ранее известным методикам. Возможность независимого контроля σ_осн положительно

отличает импульсное возбуждение от гармонического.

Если электропроводность обоих слоев объекта контроля одного порядка, для контроля электро-

проводности основания авторами предложена новая методика. Она предусматривает определение

разности электропроводностей покрытия и основания по разности интегралов магнитного потока на

двух интервалах времени с использованием расчетной калибровочной зависимости. Интеграл на

конечном временном интервале несет информацию о покрытии и основании, а интеграл на началь-

ном интервале — только о покрытии. Верность методики подтверждена лабораторным опытом, полу-

ченная абсолютная погрешность определения электропроводности основания составила 2,5 МСм/м

при электропроводности основания 38 МСм/м, электропроводности покрытия 58 МСм/м. Вопрос

достижимых погрешностей и разрешающей способности требует дополнительного исследования.

При электропроводности основания много меньше электропроводности покрытия импульсный

контроль электропроводности основания крайне затруднен малостью полезного сигнала.

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Mercier D., Lesage J., Decoopman X., Chicot D. Eddy currents and hardness testing for evaluation of

steel decarburizing // NDT & E International. 2006. V. 39. I. 8. P. 652—660.

Дефектоскопия

№ 4

2019

И.В. Терехин, Е.А. Славинская

2. Атавин В.Г., Исхужин Р.Р., Терехов А.И. Измерение толщины токопроводящих покрытий с

отстройкой от зазора и электропроводности основания // Дефектоскопия. 2016. № 5. С. 33—35.

3. Катанкин Р.А., Покровский А.Д. Вихретоковый преобразователь для контроля уровня жидкой

стали // Дефектоскопия. 2010. № 3. С. 82—87.

4. Сотников А.А. Системы мягкого обжатия на МНЛЗ и их влияние на качество макроструктуры

заготовок // Сталь. 2011. № 2. С. 17—19.

5. Неразрушающий контроль / Справочник. В 7 т. Под общ. ред. В.В. Клюева. Т. 2. Кн. 2.

Вихретоковый контроль. М.: Машиностроение, 2003. 688 с.

6. Annamalai S., Fan Z., Castagne S. Residual stress profiling of sub-surface treated nickel-based

superalloy using electromagnetic NDE method // Non-Destructive Evaluation. 2016. P. 17—22.

7. Ali Sophian, Guiyun Tian, Mengbao Fan. Pulsed Eddy Current Non-destructive Testing and Evaluation:

A Review // Chinese Journal of Mechanical Engineering. 2017. V. 30. I. 3. P. 500—514.

8. Cheng-Chi Tai, Rose J.H., Moulder J.C. Thickness and conductivity of metallic layers from pulsed eddy

current measurements // Rev. Sci. Instrum. 1996. V. 67. No. 11. P. 3965—3972.

9. Hung-Chi Yang, Cheng-Chi Tai. Pulsed eddy-current measurement of a conducting coating on a

magnetic metal plate // Measurement Science and Technology. 2002. V. 13. No. 8. P. 1259—1265.

10. Angani C.S., Park D.G., Kim C.G., Leela P., Kollu P., Cheong Y.M. The pulsed eddy current differential

probe to detect a thickness variation in an insulated stainless steel // Journal of Nondestructive Evaluation.

2010. V. 29. I. 4. P. 248—252.

11. Li J., Wu X., Zhang Q. et al. Measurement of lift-off using the relative variation of magnetic flux in

pulsed eddy current testing // NDT & E International. 2015. V. 75. P. 57—64.

Дефектоскопия

№ 4

2019