Оптические методы
УДК 620.179.118.4
ИССЛЕДОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК СВЕТА, ОТРАЖЕННОГО
ЗАЩИТНЫМИ ПОКРЫТИЯМИ
© 2019 г. А.И. Потапов1, В.Е. Махов2, В.Т. Прокопенко3, Я.Г. Смородинский4,5,**
1Санкт-Петербургский горный университет, Россия 199106 Санкт-Петербург,
Васильевский остров, 21 линия, 2
2Военно-космическая академия им. А. Ф. Можайского, Россия 197198
Санкт-Петербург, ул. Ждановская, 13
3Санкт-Петербургский государственный университет информационных технологий, механики и оптики,
Россия 197101 Санкт-Петербург, Кронверкский пр-т, 49
4ИФМ УрО РАН, Россия 620108 Екатеринбург, ул. С. Ковалевской, 18
5Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н.Ельцина, Россия 620002
Екатеринбург, ул. Мира, 19
Е-mail: *wmahov@gmail.ru; **sm@imp.uran.ru
Поступила в редакцию 11.03.2019; после доработки 26.04.2019
Принята к публикации 17.05.2019
Проведены исследования зависимости поляризационных характеристик отраженного света различными поверхно-
стями. Проведен анализ неоднородной системы методом секционирования и физико-математического моделирования
структуры, при этом используются модели «эффективной подложки» или «эффективного слоя». Разработана методика
измерений поляризации отраженного излучения и проведены экспериментальные исследования их поляризационных
характеристик. Показано, что для всех образцов азимут поляризации отраженного света уменьшается с увеличением угла
падения излучения. Экспериментально установлено, что отраженный от исследуемых образцов свет остался практиче-
ски линейно поляризованным.
Ключевые слова: поляризационная характеристика, эффективная подложка, эффективный слой, напряженно-дефор-
мированное состояние, метод физико-математического моделирования неоднородной структуры.
DOI: 10.1134/S0130308219070042
ВВЕДЕНИЕ
Контроль качества продукции позволяет оперативно определять отклонения технологических по-
казателей от норм и своевременно принимать меры по их устранению. Именно контроль, как одно из
эффективных средств достижения намеченных целей и важнейшая функция управления, способству-
ет правильному использованию объективно существующих, а также созданных человеком предпо-
сылок и условий выпуска продукции высокого качества. От степени совершенства контроля качества,
его технического оснащения и организации во многом зависит эффективность производства в целом.
Одним из широко распространенных методов контроля является визуальный контроль каче-
ства. Такого рода задачи возникают в системах неразрушающего контроля качества, требующих
выделения неоднородности физико-технических параметров изделия. В подавляющем большин-
стве известных устройств, решающих эту задачу, положен принцип измерения мощности сигнала,
определяемой свойствами отражающей поверхности объекта и фона, на котором этот объект нахо-
дится [1]. Вследствие возможного сходства отражательной способности объектов, отличающихся
физико-техническими характеристиками, выделение неоднородности на общем фоне, может быть
затруднено. Такого рода ситуация определяет необходимость поиска дополнительных отличитель-
ных признаков, одним из которых может служить поляризация отраженного излучения.
Действительно, если рассматривать различные наиболее часто используемые способы описа-
ния векторных характеристик световой волны с помощью вектора Стокса, то можно заметить, что
энергетическая характеристика — интенсивность является лишь одним из параметров, отобража-
ющих полную характеристику поляризации [2]. Дополнив информацию об объекте, построенную
на основе энергетических характеристик, информацией, использующей векторные характеристики
световой волны, появляется возможность увеличить надежность (вероятность) обнаружения не-
однородности свойств контролируемого объекта.
При проектировании оптико-электронных систем (ОЭС), обеспечивающих высокопроизводи-
тельный объективный контроль качества, необходима информация о состоянии поляризации света,
отраженного различного рода объектами.
Исследование оптических характеристик света, отраженного защитными покрытиями
31
С целью повышения достоверности информации об объекте учет векторных характеристик
световой волны ставят в разряд актуальных задач проведения неразрушающего контроля. При
определении качества защитных покрытий актуально иметь результаты исследования зависимости
поляризационных характеристик отраженного света от различных поверхностей в зависимости от
характеристик поверхности. Установленные различия в поляризации отраженного излучения по-
зволят разработать принципы и построения оптико-электронных средств неразрушающего кон-
троля покрытий и создать методики измерений поляризации отраженного излучения от таких объ-
ектов.
ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ ИССЛЕДОВАНИЯ
Подавляющее большинство изделий, с которыми приходиться иметь дело в повседневной жиз-
ни, как правило, имеют защитные покрытия. Часто это связано с необходимостью защиты поверх-
ности от внешнего воздействия либо с необходимостью придания этой поверхности определенных
эстетических свойств. Качество покрытий при неразрушающем контроле определяется ОЭС, осно-
ванное на анализе величины отраженной энергии, в том числе с учетом спектральных характери-
стик (цвета). Однако этих двух параметров может быть недостаточно для получения достоверной
и своевременной информации об исследуемом объекте.
Широкий класс лакокрасочных покрытий с точки зрения объекта, подлежащего оптическим
исследованиям, можно представить в виде плоского диэлектрического слоя, толщина которого зна-
чительно превышает длину волны инструментального источника излучения.
В силу технологических особенностей нанесения покрытий в диэлектрическом слое возникают
напряжения, присутствие которых может оказывать воздействие на характер поляризации отра-
женного излучения.
Это приводит к необходимости решения целого ряда взаимосвязанных задач, в том числе:
выбора метода математического моделирования напряженно-деформированного и физико-хими-
ческого состояния многослойной системы «однородная подложка (ОП1) — неоднородный слой
(ПС1) — зона оптического контакта (ЗОК) поверхности элементов (I, II) — неоднородный слой
(ПС2) — однородная подложка (ОП2)» и методики определения ее поляризационно-оптических
характеристик, которые, в общем случае, должны решаться в рамках теории эллипсометрии не-
однородных анизотропных оптических систем [3—6].
МОДЕЛЬ НАПРЯЖЕННО-ДЕФОРМИРОВАННОГО СОСТОЯНИЯ
ОПТИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ
На рис. 1 представлены основные оптические схемы для анализа напряженно-деформирован-
ного состояния и поляризационно-оптических характеристик оптических соединений элементов
оптоэлектроники методами просветной, отражательной (рис. 1а) эллипсометрии (рис. 1б).
В используемых интерференционных методах технологического контроля напряженно-дефор-
мированного состояния прозрачного изотропного диэлектрика, как правило, применяется упро-
а
б
Z
X
N
A
Z′
I
Z
F
1
φ
φ
q
ОП1
2
N
φ
II
X
d
ПС1
Y
S
ЗОК
n*
ок
*
d
ок
Q
ПС2
P
F′
ОП2
Рис. 1. Оптические схемы напряженно-деформированного состояния оптических соединений элементов оптоэлек-
троники.
Дефектоскопия
№ 7
2019
32
А.И. Потапов, В.Е. Махов, В.Т. Прокопенко, Я.Г. Смородинский
щенная модель плоскопараллельной пластинки одноосного кристалла, оптическая ось которого
перпендикулярна световому пучку света и находится в плоскости ее параллельных поверхностей
[7—9]. В пределах границ применимости теории упругой деформации и напряженного состояния
оптической детали изменение показателя преломления Δn(σ) для одностороннего «растяжения»
или «сжатия» в первом приближении будет пропорционально величине напряжения σ [10]:
n-n
= ∆n
= ±C
σ,
n-n
= ∆n
= ±C
σ,
(1)
pN
pN
1
sN
sN
2
где п — показатель преломления силикатного стекла; npN, nsN — показатели преломления для поля-
ризованного света с электромагнитными колебаниями, параллельными (р) и перпендикулярными
(s) направлению действия напряжений; С1 и С2 — фотоупругие постоянные стекла для тех же
направлений электромагнитных колебаний. В теории упругой деформации детали напряжения
«сжатия» принято считать отрицательными, а напряжения «растяжения» — положительными,
pN
sN
∆n = n
−n
Метод эллипсометрии обладает высокой чувствительностью к изменению двулучепреломле-
ния
pN
sN
∆n = n
−n
, вызванного напряженно-деформированным состоянием детали в оптическом
узле, и позволяет определить направление воздействия напряжений q (или механической нагрузки
F) в области зоны оптического соединения (ОС) деталей (см. рис. 1а).
Для изотропных диэлектриков, находящихся в напряженно-деформированном состоянии, из-
мерение основных эллипсометрических параметров — азимута линейной восстановленной поля-
ризации Ψ и разности фаз Δ между р- и s- компонентами светового пучка — можно проводить в
отраженном световом пучке. Наибольшая точность измерения поляризационных параметров до-
стигается при использовании метода «нулевой» (компенсационной) эллипсометрии, суть которого
состоит в том, что азимуты поляризующих элементов прибора (поляризатора Р, компенсатора Q,
анализатора А) фиксируются в момент «гашения» светового пучка, прошедшего оптическую схему
прибора и объект измерения S (см. рис. 1а). В этом случае поляризационные характеристики объ-
екта S можно определить в результате решения нелинейного уравнения [7]:
−tgA
=ρ
[
ρ
+
tgQ
tgP
]⋅[
ρ
tgQ
−
tg
P
]1
,
(2)
1
s
c
1
1
c
1
1
( )p
( )p
T
T
s
c
A
= A-q,Q
=Q -q,P
=Q-P,
ρ
=
expiδ
,
ρ
=
expiδ
(3)
1
1
1
s
(
s
)
s
c
(
s
)
c
T
T
s
c
Здесь Tc(p,s), Ts(p,s) и δc, δs — коэффициенты пропускания и разность фаз между р- и s-поля-
ризацией светового пучка для компенсатора Q и объекта S соответственно; q — ориентация глав-
ной плоскости падения светового пучка в анизотропной оптической системе [10], где значение угла
q определяет направление действия сил F «растяжения» или «сжатия» относительно нормали N к
поверхности (см. рис. 1а, линия FF′). При азимуте ориентации осей компенсатора относительно
плоскости падения светового пучка (плоскость XOZ) Q = ±π/4 и значении ρc = i, основные эллип-
сометрические параметры объекта исследования (δs, q) при нормальном падении светового пучка
вдоль зоны ОС деталей определяются соотношениями:
−1
−1
q
=
(0,5tg[-cos2A(sin 2A+sin 2P)
],
δ
=
arctg[-(tg2Pcos2q)
].
(4)
1
Для модели напряженно-деформированного состояния изотропного прозрачного диэлектрика,
представленной в виде плоскопараллельной пластинки одноосного кристалла, фазовый сдвиг
определяется как δs=δs,0+δ1, где поправка δ1 учитывает многократные отражения от поверхностей
объекта исследования [8]. При малой величине ∆npN и ∆nsN значение фазового параметра δs,0>>δ1,
тогда для определения величины напряжений σ в исследуемом слое можно использовать следую-
щие соотношения:
∆n
=n
−n
=±
(C
−C
)
⋅σ=B⋅σ=δ
/(
k
L
),
(5)
p,s
pN
sN
1
2
s,0
0
где k0 = 2π/λ, В — оптический коэффициент напряжений; λ — длина волны излучения; L — длина
объекта измерений S вдоль оси X (см. рис. 1а).
Для оценки качества исследуемых элементов при различных технологических условиях их
изготовления определение поляризационно-оптических характеристик можно проводить двумя
Дефектоскопия
№ 7
2019
Исследование оптических характеристик света, отраженного защитными покрытиями
33
путями: методом секционирования и физико-математического моделирования структуры неодно-
родной системы, используя при этом модели «эффективной подложки» или «эффективного слоя»
[8, 9]. В методе «эффективной подложки» многослойная система ПС1—ЗОК—ПС2—ОП2 (см.
рис. 1б, луч 2) описывается эффективным показателем преломления N*
, который для анизотропной
ос
n n . Критерием применимости дан-
ного способа моделирования оптической системы является условие [9]:
(S)
(
p)
−1
Φ(N
)= (ρ
+cos2ϕ
)⋅(R
+
R
cos2ϕ
)
,
(6)
OC
s
s
s
s
s
(
p)
(s)
ρ
=R
/
R
= Ψ⋅exp(i∆),
s
s
s
где ρs, Rs(p), Rs(s) — эллипсометрическое отношение и коэффициенты отражения для р- и s-компоненты
поляризованного света от исследуемой поверхности; φs — угол падения светового пучка; ∆, Ψ —
основные эллипсометрические параметры многослойной системы ПС1—ЗОК—ПС2—ОП2.
Для однородной изотропной подложки выполняется условие | Ф(N*
) | =1 и отличие этого пара-
ос
метра для системы ПС1—ЗОК—ПС2—ОП2 от единицы будет свидетельствовать о влиянии опти-
ческой неоднородности, анизотропии или шероховатости элементов. Экспериментальная ошибка
измерения параметра, в пределах которой неоднородную отражающую систему можно заменить
моделью «эффективной подложки», — δФ(N*
) ~ 5∙10-4 [9].
ок
В методе «эффективного слоя» для системы ПС1—ЗОК—ПС2 вводятся эффективный показа-
тель преломления п* и толщина d* неоднородной оптической системы (см. рис. 1б). Физический
смысл этих параметров состоит в том, что модель однородного слоя с параметрами n* и d*
и ис-
ок
следуемое диэлектрическое покрытие по своим поляризационно-оптическим свойствам эквива-
лентны. В рамках этой модели можно описывать анизотропные свойства деталей, используя при
этом методы эллипсометрических измерений элементов нормированной матрицы отражения
М=(ρpp, ρps, ρsp) объекта S [10].
В общем случае эллипсометрические параметры элементов нормированной матрицы отраже-
ния ρpp, ρps, ρsp будут отличаться от измеренных значений ρизм (см. рис. 1б, луч 2) за счет преломле-
ния светового пучка на границах раздела «внешняя среда — ОП1» и «ОП1 — внешняя среда» на
величину эллипсометрического отношения ρ(Т) = Т(p)/Т(s). При малой величине анизотропии одно-
родной подложки ОП1 (Δn(p,s)<<10-6) и измеренном значении коэффициента эллиптичности от-
раженного светового пучка от однородной подложки ОП1) (см. рис. 1б, луч 1) эллипсометрические
соотношения для нахождения параметров ρpp, ρps, ρsp имеют вид:
(T
)
2
зм
(T
)
зм
(T
)
зм
ρ
(ρ
)
=ρи
,
ρ
=ρи
,
ρ
=ρи
,
(7)
pp
pp
ps
pp
sp
sp
(s)
(s)
2
2
2
n
(U
+U
)
n
(n
−
n
) sin
ϕ
(T
)
0
0
B
(T
)
B
0
B
tgΨ
=
,
∆
=±4χ
,
(8)
(s)
2
2
2
2
2
(s)
n
B
U
0
+n
0
cos
ϕ
n
+n
(n
cos
ϕ+n
U
)
B
0
0
B
0
(s)
(s)
2
1/2
U
= ε
cosϕ,
U
=
(ε
−ε
sin
ϕ
)
,
(9)
B
B
0
0
B
где nВ, n0 — показатель преломления внешней среды и однородной подложки; (φ — угол па-
дения светового пучка; χ — эллиптичность светового пучка, отраженного при угле Брюстера
φБ=arctg(n0/nВ ) (при изменении угла падения светового пучка φ > φБ значение Δ(Т) > 0 и при
φ < φБ - Δ(Т)<0 [10]). В том случае, когда главная плоскость анизотропной системы совпадает с
плоскостью падения светового пучка, то есть при q ≈ 0, параметры ρps = ρsp = 0, а эллипсометри-
ческое отношение ρs, входящее в уравнение (2), определяется как
(
p)
(s)
изм
(T
)
2
изм
(T
ρ
=ρ
=R
/
R
= Ψ⋅exp(i∆),
tgΨ=
tgΨ
/(tgΨ
)
,
(10)
a
pp
∆=∆
±∆
).
Из вышеизложенного видно, что с помощью техники эллипсометрии можно измерить даже
весьма незначительные изменения амплитудно-фазовых соотношений в отраженной волне, свя-
занных с особенностью исследуемого объекта. Однако эллипсометрические измерения сложны
и трудоемки, что не позволяет непосредственно их использовать в системах экспресс контроля
качества.
Дефектоскопия
№ 7
2019
34
А.И. Потапов, В.Е. Махов, В.Т. Прокопенко, Я.Г. Смородинский
ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ
Из вышеизложенного следует, что для разработки эффективных систем обнаружения дефектов
поверхности, построенных на поляризационном контрасте, необходима информация о влиянии за-
щитных покрытий на характер поляризации отраженного ими излучения.
В связи с этим, актуальной задачей исследования является разработка методики измерений по-
ляризации отраженного излучения от такого рода объектов.
Измерения поляризационных характеристик отраженного света выполняли на эксперименталь-
ной установке, собранной на основе гониометра ГС-5, функциональная схема которой представ-
лена на рис. 2. Излучение He-Ne лазера 1 с высокой степенью линейно-поляризованного света,
азимут которого по отношению к плоскости падения света на образец составляет 45°. Это обеспе-
чивает идентичность характеристик p- и s-компонент в падающем луче. В модуляторе Фарадея 2
под действием переменного магнитного поля азимут линейно-поляризованного света изменяется
относительно своего первоначального положения на угол ±1º с частотой 500 Гц. Если плоскость
поляризации призмы анализатора 5 ортогональна плоскости поляризации лазерного излучения, то
на фотоприемник падает минимальный поток модулированной интенсивности с удвоенной часто-
той, то есть f = 1000 Гц.
1
2
11
г
4
5
6
7
8
3
9
Г
10
мА
Рис. 2. Функциональная схема экспериментальной установки:
1 — лазер, 2 — модулятор (ячейка Фарадея), 3 — генератор, 4 — образец, 5 — анализатор (призма Глана), 6 — фотоприемник, 7 — блок
питания, 8 — усилитель избирательный 500 Гц, 9 — фазовый детектор, 10 — микроамперметр М-95, 11 — предметный столик
гониометра.
Равенство нулю электрического сигнала, поступающего на вход усилителя, указывает на то, что
плоскость пропускания поляризационной призмы ориентирована строго под углом 90° к плоскости
поляризации лазерного излучения. Если анализатор повернут вокруг своей оси на малый угол σ,
то возникает рассогласование системы, и в каждый полупериод на ФЭУ 8 поступает неодинаковое
количество излучения, которое преобразуется в ток с различной амплитудой. После соответству-
ющего усиления и преобразования сигнал поступает на регистрирующий прибор в виде информа-
ционного сигнала о рассогласованности системы. Этот (полезный) сигнал усиливается узкополос-
ным усилителем 8, настроенным на частоту полезного сигнала f = 500 Гц. Напряжение полезного
сигнала воздействует на фазовый детектор 9, основная задача которого состоит в том, чтобы по
фазе сигнала, поступающего на него, определить направление угла рассогласования относительно
скрещенного положения анализатора и плоскости поляризации излучения. Анализатор представ-
ляет собой призму Глана, азимут которого устанавливается с помощью оптического микрометра с
точностью 10 угловых минут. Ток ФЭУ регистрируется с помощью микроамперметра 10.
Образец 4 установлен на предметном столике гониометра 11, что позволяет изменять угол паде-
ния света на образец от 0 до 90°. Метод измерения заключается в изменении угла падения подаю-
щего излучения лазера на образец и регистрации азимута поляризации отраженного света от него.
В соответствие с задачей разработки методики для исследования влияния защитных покры-
тий на состояние поляризации отраженного излучения были исследованы образцы акриловых по-
крытий, оксидированная алюминиевая пластина. Для исключения влияния подложки на резуль-
Дефектоскопия
№ 7
2019
Исследование оптических характеристик света, отраженного защитными покрытиями
35
тат эксперимента, акриловые покрытия выполнены на стеклянной полированной подложке [11].
Покрытия выполнены по технологии естественного высыхания. В качестве первого образца вы-
бран бесцветный нитролак. Образцы 2, 3, 4 — это акриловые краски на водной основе белого,
красного и желтого цвета соответственно. В качестве пятого образца выбрана оксидированная
алюминиевая пластина.
Для первого образца зависимость азимута поляризации отраженного света от угла падения поч-
ти линейная. При изменении угла падения от 25 до 50° азимут поляризации изменяется на 25°.
Для углов падения 70 и 75° азимуты поляризации для всех образцов практически одинаковы.
Несмотря на цветовое различие образцов 2, 3, 4, графики зависимости очень схожи друг с другом.
График (рис. 3б) зависимости поляризационного контраста (Δ) образца 5 сильно отличается от всех
остальных. Это связано с тем, что в качестве образца 5 выбрана металлическая дюралевая оксиди-
рованная пластина.
а
б
Δ, град
Δ, град
280
190
270
180
260
170
250
φ, град
φ, град
160
50
55
60
65
70
75
80
50
55
60
65
70
75
80
Рис. 3. Зависимости поляризационного контраста от угла падения пучка света.
Неизбежным вопросом остается повышение точности измерения в условиях факторов шума.
Проведение измерения в условиях когерентного излучения [12] показало, что эффективными явля-
ются фазовые измерения [13], а так же интегральные методы обработки выборки сигналов (инфор-
мации) на основе вейвлет-анализа [14]. Другая проблема при построении ОЭС для практического
использования — механическая стабильность объекта контроля и оптико-электронной системы
[15], что требует введения дополнительных программных средств контроля и диагностики состо-
яния оптико-электронных системы [16] в процессе проведения измерений. В заключение можно
отметить, что результаты исследования можно применить к широкому классу материалов, в том
числе для газотермических покрытий [17].
ВЫВОДЫ
Исследование зависимости характеристик поляризации отраженного излучения от величины
угла падения позволяет сделать вывод: для всех образцов азимут поляризации отраженного све-
та уменьшается с увеличением угла падения излучения. При этом, отраженный от образцов свет
остался практически линейно поляризованным.
Установленные различия в поляризации отраженного исследуемыми образцами света показы-
вают, что векторные характеристики отраженного излучения могут быть использованы при раз-
работке автоматизированных оптико-электронных средств неразрушающего контроля покрытий.
Работа выполнена в рамках государственного задания МИНОБРНАУКИ России (тема
«Диагностика», № АААА-А18-118020690196-3).
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Волохатюк В.А. Кочетков В.М. Вопросы оптической локации. М.: Сов. радио, 1971. 256 с.
2. Азам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет / Пер. с англ. под ред. чл.-корр. АН
СССР А.В. Ржанова и К.К. Свиташева. М.: Мир, 1981. 583 с.
3. Обреимов И.В., Трехов Е.С. Оптический контакт полированных стеклянных поверхностей //
ЖЭТФ. 1957. Т. 32. Вып. 2. С. 185—192.
4. Абаев М.И., Лисицын Ю.В., Путилин Э.С. Исследование зоны оптического контакта стеклянных
поверхностей методом эллипсометрии // Письма в ЖТФ. 1984. Т. 4. Вып. 24. С. 1505—1507.
Дефектоскопия
№ 7
2019
36
А.И. Потапов, В.Е. Махов, В.Т. Прокопенко, Я.Г. Смородинский
5. Герасимов С.Ю., Компалова Л. А., Торбин И.Д. Прозрачность оптических клеев // ОМП. 1987.
№ 9. С. 40—44.
6. Левинок В.Е. Влияние условий полимеризации однокомпонентного оптического клея на свойства
склеивающего слоя // ОМП. 1980. № 6. С. 24—26.
7. Горшков М.М. Эллипсометрия. М.: Сов. радио, 1974. 200 с.
8. Эллипсометрия — метод исследования поверхности / Под ред. А.В. Ржанова. Новосибирск:
Наука, 1983. 180 с.
9. Эллипсометрия: теория, методы, приложение / Под ред. А.В. Ржанова и Л.А. Ильина. Новосибирск:
Наука, 1987.192 с.
10. Филиппов В.В., Тронин А.Ю., Константинов А.Ф. Эллипсометрия анизотропных сред /
Физическая кристаллография. М., 1992. С. 254—289.
11. Березина Е. Е. Фотоупругие постоянные оптических стекол // Оптич. журн. 1994. № 7.
С. 38—39.
12. Махов В.Е., Репин О.С., Потапов А.И. Измерение линейных размеров системами технического
зрения в когерентном свете // Контроль. Диагностика. 2014. № 4. С. 12—19.
13. Махов В.Е., Потапов А.И. Гетеродинно-растровый метод контроля качества изделий //АН СССР.
Дефектоскопия. № 10. 1989. С. 68—84.
14. Махов В.Е., Потапов А.И. Использование алгоритмов вейвлет-анализа для построения оптиче-
ских измерительных систем // Контроль. Диагностика. 2013. № 1. С. 12—21.
15. Махов В.Е., Потапов А.И. Исследование измерительной оптической системы в условиях меха-
нической нестабильности объекта контроля // Контроль. Диагностика. 2013. № 2. С. 12—23.
16. Махов В.Е., Потапов А.И. Использование вейвлет-анализа для диагностики системы техниче-
ского зрения // Контроль. Диагностика. 2011. № 9. С. 11—18.
17. Olt Y., Maksarov V.V. , Krasnyi V.A. Provision of adhesion strength of gasthermal coatings on piston
rings of quarry transport engines // Journal of Mining Institute. 2018. V. 229. P. 77—83.
Дефектоскопия
№ 7
2019
