ЖЭТФ, 2020, том 158, вып. 4 (10), стр. 605-612
© 2020
ОСОБЕННОСТЬ УГЛОВОЙ ЗАВИСИМОСТИ
КОМБИНАЦИОННОГО РАССЕЯНИЯ СВЕТА
В НАНОКРИСТАЛЛАХ КРЕМНИЯ
А. В. Иго*
Ульяновский государственный университет
432063, Ульяновск, Россия
Поступила в редакцию 15 апреля 2020 г.,
после переработки 5 мая 2020 г.
Принята к публикации 5 мая 2020 г.
Измерена угловая зависимость интенсивности комбинационного рассеяния света в нанокристаллах крем-
ния. Нанокристаллы кремния были созданы путем отжига аморфизированного ионной имплантацией
слоя кремния и поэтому могли образовываться только в одном упорядоченном направлении исходного
монокристалла. Обнаружено, что угловая зависимость поляризованных компонент интенсивности ком-
бинационного рассеяния света в нанокристаллах отличается от известной зависимости в монокристалле.
Введен и измерен параметр, характеризующий это отличие, найдена связь параметра с размером нано-
кристаллов. Исследованы спектры комбинационного рассеяния света кремния и нанокристаллов кремния
в конфигурации, запрещенной правилами отбора. Показано, что в этой конфигурации параметры спек-
тральной линии в значительной степени определяются неидеальностью кристаллической решетки.
DOI: 10.31857/S004445102010003X
1. ВВЕДЕНИЕ
Явление комбинационного рассеяния света
(КРС) [1] представляет собой процесс поглощения
падающего фотона (ki, ωi) с одновременным ис-
пусканием другого фотона (ks, ωs) с измененной
частотой. В кристаллах законы сохранения энер-
гии и импульса в акте рассеяния обеспечиваются
Рис. 1. КРС в монокристалле (а) и нанокристалле (б)
участием квантов колебания решетки — фононов,
квазичастиц с волновым вектором q и частотой
Ω(q):
В нанокристаллах размера L квантомеханичес-
кая неопределенность значения волнового вектора
ωs = ωi - Ω(q), ks = ki - q.
(1)
оптического фонона,
Если в эксперименте фиксировать направление ki
2π
падающего света и направление ks рассеянного све-
Δq =
,
(2)
L
та (угловое положение приемника), то условие (1)
оказывается сравнимой со значением q в акте рассе-
может быть выполнено только для фононов с волно-
яния света. Закону сохранения энергии и импульса
вым вектором q, как показано на рис. 1. В кристал-
будет соответствовать некоторый диапазон частот в
лах кремния для света видимого диапазона условие
рассеянном свете:
(1) выполнятся для континуума продольных и по-
перечных оптических фононов вблизи центра зоны
Δωs = Ω(q) - Ω(q + Δq).
Бриллюэна.
В спектрах КРС нанокристаллов кремния это про-
* E-mail: igoalexander@mail.ru
является в увеличении ширины спектральной ли-
605
А. В. Иго
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
нии. Увеличение составляет единицы обратных сан-
тиметров и связано с размером нанокристаллов.
Особенности КРС в нанокристаллах подробно ис-
следованы экспериментально и теоретически [2-6],
и установлена связь сдвига и ширины спектральной
линии КРС с размером и формой нанокристалла.
В дополнение к неопределенности величины вол-
нового вектора фонона, Δq, в нанокристалле воз-
никает и неопределенность его направлений. Это
должно приводить к ситуации, когда при рассеянии
света на фононе с волновом вектором q вместо опре-
деленного направления ks существует вероятность
рассеяния в некоторый диапазон направлений; на
рис. 1 этот диапазон показан углом Δθ.
Целью настоящей работы является определение
угла Δθ в эксперименте и установление связи зна-
чения этого угла с размером нанокристаллов и ши-
риной спектральной линии КРС в нанокристаллах
Рис. 2. Схема измерения спектров КРС в эксперименте
кремния.
Для такого эксперимента необходимо иметь мас-
сив нанокристаллов с одинаковой кристаллографи-
Рассеянный свет будем регистрировать в направ-
ческой ориентацией. Таким объектом является имп-
лении оси y в двух перпендикулярных плоскостях,
лантированный ионами углерода монокристалличе-
x и z. Свет до выхода на поверхность распростра-
ский кремний. При имплантации ионов в значитель-
нялся в кремнии под углом ψ′′ к нормали и имел
ных дозах кремний становится аморфным на всю
поляризацию
глубину проникновения ионов. При термическом от-
жиге образца кристалличность слоя восстанавлива-
esz = (0, sin(ψ - ψ′′), cos(ψ - ψ′′))
ется не одновременно во всем нарушенном объеме, а
или
в виде кластеров, разделенных аморфными проме-
esx = (1, 0, 0).
жутками. При небольших температурах отжига раз-
мер этих кластеров составляет несколько наномет-
Зарегистрированные интенсивности рассеянного
ров [7,8]. Очевидно, что все образованные кластеры
света обозначим как Iyz и Iyx. Углы ψ и ψ′′ связаны
имеют одинаковую кристаллографическую ориента-
с углом ψ законом преломления:
цию исходного монокристалла.
sinψ = n sinψ′′, sin(90 - ψ) = n sinψ.
Интенсивность рассеянного света, поляризован-
2. УГЛОВАЯ ЗАВИСИМОСТЬ
ного по направлению es, определяется тензором
ИНТЕНСИВНОСТИ КРС С УЧЕТОМ
КРС R и поляризацией ei падающего света по фор-
НЕОПРЕДЕЛЕННОСТИ НАПРАВЛЕНИЯ
муле [1]
ВОЛНОВОГО ВЕКТОРА ФОНОНА
I =A
[eiR(α)es]2.
(3)
Рассмотрим рассеяние света в лабораторной сис-
α
теме координат x, y, z в геометрии рассеяния, пока-
Тензор КРС для кремния в главных осях, совпада-
занной на рис. 2. Образец сначала ориентирован по
ющих с кристаллографическими направлениями ре-
главным осям, а затем повернут вокруг оси x на угол
шетки [100], [010], [001] для α = x, y, z, имеет вид
-ψ. Зададим направление падающего света по оси z
⎞ ⎛
⎞ ⎛
и поляризацию по оси y. Преломленный луч рас-
0
0
0
0
0
d
0
d
0
пространяется в кремнии под углом ψ к нормали
R=
0
0
d
0
0
0
d
0
0
.
образца, вектор поляризации в лабораторной систе-
0
d
0
d
0
0
0
0
0
ме координат приобретает компоненты
Для определения тензора R в лабораторной сис-
ei = (0, sin(ψ + ψ), cos(ψ + ψ)).
теме координат сначала расположим кристалл так,
606
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
Особенность угловой зависимости. . .
чтобы главные оси совпадали с лабораторной систе-
3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ОБРАЗЦЫ И
мой координат, повернем его на угол ϕ вокруг оси y,
МЕТОДИКА ИЗМЕРЕНИЙ ПАРАМЕТРОВ
а затем на угол вокруг оси x. Матрицу поворо-
СПЕКТРАЛЬНОЙ ЛИНИИ
та вокруг оси x обозначим Ux, а вокруг оси y
В работе исследованы образцы, полученные из
Uy, транспонированные матрицы обозначим знач-
пластины монокристаллического кремния с ориен-
ком тильда:
тацией (100), с одной стороны которой проведена
Rϕ(α) = Ux-ψUR(α)Ũ Ũx-ψ.
(4)
имплантация ионов углерода С+ дозой 5 · 1016 см-2
с энергией частиц E = 40 кэВ. Пластина была раз-
Проводя вычисления по формуле (3) с тензором (4)
резана на несколько образцов размера 5 × 5 мм, ко-
с помощью программы Wolfram Mathematica, полу-
торые отжигались в муфельной печи при темпера-
чим угловую зависимость компонент интенсивнос-
турах 770, 820, 930, 1100C в течение 1 ч. Обратная
ти [9]:
сторона пластины в измерениях использовалась как
Iyx(ϕ) =
[eiR(α)esx]2 =
референтный монокристаллический кремний.
α
Измерение спектров КРС образцов проводи-
= d2[cos2 ψcos2 2ϕ + sin2 ψ],
лось на модернизированном спектрометре ДФС-52
(5)
с ФЭУ H6240-01. Для возбуждения КРС исполь-
Iyz(ϕ) =
[eiR(α)esz ]2 =
зовался лазер с длиной волны 532 нм и мощнос-
α
тью 25 мВт. Рассеянный свет регистрировался в
= d2[cos2 ψcos2 ψ′′ sin2 2ϕ + sin2(ψ - ψ′′)].
геометрии, показанной на рис. 2. Ширина входной
Угол между поверхностью образца и направле-
щели монохроматора составляла 0.4 мм. Зареги-
нием падения луча в эксперименте оставался посто-
стрированные спектры анализировались с помощью
янным и был равен ψ = 25, а угол ϕ мог принимать
программы Origin 8 для определения параметров
любые значения в диапазоне от 0 до 360. Тензор R
спектральной линии. Интенсивность спектральной
определяет правила отбора КРС. Если правила от-
линии определялась как площадь под спектраль-
бора для некоторого угла ϕ за счет квантовомеха-
ной линией, аппроксимированной контуром Фойг-
нической неопределенности допускают вероятность
та. Ширина спектральной линии определялась как
рассеяния для диапазона углов Δθ, то вместо опре-
лоренцова составляющая Γ спектрального конту-
деленного направления источник рассеяния сфор-
ра Фойгта с фиксированной гауссовой составляю-
мирует поток световой энергии Φ в угол Δθ:
щей Γg, равной 3.1 см-1, которая является инстру-
ментальной спектральной шириной монохроматора
Φ(ϕ) = I(ϕθ.
ДФС-52 со щелью 0.4 мм. Значение инструменталь-
Поляризация рассеянного света и направление
ной спектральной ширины монохроматора получено
его распространения перпендикулярны, и, соот-
экспериментально по измерению материалов с из-
ветственно, считаем, что их разбросы равны Δθ.
вестными ширинами спектральных линий. В част-
Величина I(ϕ) — это сумма компонент:
ности, при использовании Γg = 3.1 см-1 спектраль-
ная ширина Γ линии монокристаллического крем-
1
ния составляет 3.4 см-1.
Iyx(ϕ) =
Iyx(ϕ + θ) =
Δθ
Такая методика измерений (с широкой щелью
-Δθ/2
0.4 мм) является вынужденной, так как интенсив-
= d2[0.48(1 + η cos4ϕ) + 0.05],
ность сигнала от имплантированных и нарушенных
(6)
слоев кремния мала, а использование более мощного
1
лазера может приводить к локальному нагреву об-
Iyz(ϕ) =
Iyz (ϕ + θ) =
Δθ
разца и, как результат, к неправильному измерению
-Δθ/2
ширины спектральной линии.
= d2[0.47(1 - η cos4ϕ) + 0.01],
Ионная имплантация дозой 5 · 1016 см-2 приво-
где
дит к полной аморфизации кристаллического слоя
sin2Δθ
на всю глубину b проникновения ионов. Примем для
η=
θ
оценок значение b = Rp + 3ΔRp 195 нм. Средняя
Измерение угловых зависимостей Iyx(ϕ) и Iyz(ϕ)
глубина проникновения Rp и дисперсия ΔRp для
в эксперименте и формула (6) позволяют рассчитать
ионов С+ с энергией 40 кэВ в кремнии составляют
величину η и определить угол Δθ.
соответственно 93 нм и 34 нм [7].
607
А. В. Иго
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
ном слое приводит к появлению КРС из монокрис-
таллической области за нарушенным слоем. Сум-
марная интенсивность КРС от двух областей равна
b
+I(1)s =CI(0)d2
e-2δx dx+
Is =
s
0
+I(0)e-2δbd2
e-2αx dx.
Рис. 3. Интенсивность КРС от монокристалла (а) и от мо-
0
нокристалла с нарушенным слоем, в котором присутству-
Проводя интегрирование, получим
ют нанокристаллы (б)
α
Is =
s
C
(1 - e-2δb) + I(0)se-2δb.
δ
Коэффициент поглощения монокристаллическо-
В результате измеренная интенсивность Is зави-
го кремния для света с длиной волны λ = 532 нм
сит от объемной доли кристаллической фазы в на-
равен α = 1.1 · 104 см-1. Тогда глубина проникно-
рушенном слое, C, и выражена в долях от интен-
вения света 1/α ≈ 900 нм, что значительно больше
сивности КРС монокристаллического образца,
s
,
оценки глубины нарушенного слоя. С другой сто-
которая тоже измерялась в эксперименте. Решение
роны, коэффициент поглощения аморфного крем-
этого уравнения позволяет определить C в образце.
ния для λ = 532 нм составляет k = 21 · 104 см-1
По значению C можно определить
s и
s
и долю
[8]. В такой среде свет проникает на глубину поряд-
интенсивности от нанокристаллов в общей интен-
ка 1/k ≈ 40 нм и не доходит до края нарушенного
сивности,
s
/Is. Результаты измерений параметров
слоя. Согласно таким оценкам, спектральная линия
спектральных линий образцов приведены в таблице.
КРС монокристаллического кремния в имплантиро-
Наблюдаемая в эксперименте спектральная линия
ванном образце отсутствует.
интенсивности Is с шириной Γ и положением макси-
Отжиг образцов приводит к частичному вос-
мума ν0 является суммой двух спектральных линий:
становлению кристаллической фазы в нарушенном
слое. Исследования показывают, что восстановле-
Is/2)2
=
ние происходит в виде образования кристалличес-
(ν - ν0)2 + (Γ/2)2
ких кластеров размером в несколько нанометров,
s/2)2
s1/2)2
которые с увеличением температуры отжига укруп-
=
+
(ν - ν02)2 + (Γ/2)2
(ν - ν01)2 + (Γ1/2)2
няются [7,8]. Кристаллические кластеры с объемной
долей C уменьшат коэффициент поглощения этого
Линия интенсивностью
s является спектраль-
частично восстановленного слоя до величины
ной линией монокристаллического кремния из-под
нарушенного слоя, имеет ширину Γ1 = 3.4 см-1 и
δ = αC + k(1 - C).
положение максимума ν01 = 520 см-1. Вторая ли-
Интенсивность КРС в поглощающей среде мо-
ния интенсивностью
s
— это спектральная линия
жет быть рассчитана на основании закона Бугера,
от кластеров кристаллического кремния, она имеет
как показано на рис. 3. Для монокристалла интен-
ширину Γ и положение максимума ν02. С использо-
сивность в геометрии обратного рассеяния выража-
ванием значений Is и Γ, полученных в эксперименте,
ется через интенсивность I(0) падающего света, ком-
и данных для
s
/Is (см. таблицу) с помощью про-
поненту тензора КРС кремния, d2, и коэффициент
граммы Origin 8 численным моделированием был
поглощения α в монокристалле кремния:
проведен расчет значений Γ. Используя эмпиричес-
кую связь ширины спектральной линии с размером
I(0)d2
нанокристаллов [5,6,10], получим оценку размера L
I(0)s = I(0)d2 e-2αx dx =
2α
нанокристаллов:
0
A
Для образца с нанокристаллами интенсивность
ΔΓ =
,
(7)
L1.5
КРС пропорциональна объемной доле кристалличе-
ской фазы в нарушенном слое и глубине слоя. До-
где ΔΓ = Γ - 3.4 и A = 22. Результаты расчета
полнительно, уменьшение поглощения в нарушен-
приведены в таблице.
608
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
Особенность угловой зависимости. . .
Таблица. Экспериментальные образцы и расчетные параметры
Температура
Is,
Γ,
C,
s
Γ,
L,
Δθ,
Образец
η
отжига,C
отн. ед.
см-1
об. доля
Is
см-1
нм
рад.
1
770
2187
5.4
0.69
0.62
7.7
3.0
0.57
0.84
2
820
4288
4.4
0.81
0.50
6.6
3.6
0.65
0.73
3
930
7645
4.2
0.91
0.42
5.5
4.8
0.76
0.58
4
1100
13412
3.7
0.98
0.36
4.2
9.2
0.90
0.30
5
mono
15754
3.4
1
-
-
-
0.96
-
сти Iyz(ϕ) и Iyx(ϕ) становятся более резкими. На
рис. 4 они не показаны, чтобы не загромождать
рисунок; они занимают промежуточное положение
между кривыми 1 и 3, 2 и 4. Величины η были опре-
делены для всех образцов, результаты расчета при-
ведены в таблице.
Расчет для монокристалла дал значение η
=
= 0.96; отличие от единицы является суммарной
погрешностью эксперимента и связано с минималь-
ной эллиптичностью поляризации лазера, погреш-
ностями его ориентирования и установки углов об-
разца, неидеальностью поляризатора и самого моно-
кристалла и другими факторами. По полученным
Рис. 4. Угловые зависимости поляризованных компонент
значениям η с использованием уравнения (6) был
интенсивности КРС образца 1 (кривые 3 и 4) и монокри-
проведен расчет Δθ, для чего использовались скор-
сталла (кривые 1 и 2); точки — эксперимент, линии расчет
по уравнению (6)
ректированные значения η= η/0.96. Результаты
расчета для всех образцов представлены в таблице.
Неопределенность направления волнового векто-
4. УГЛОВЫЕ ЗАВИСИМОСТИ
ра фонона в нанокристалле может быть связана с
ПОЛЯРИЗОВАННЫХ КОМПОНЕНТ
дискретностью направлений в кристалле размером
ИНТЕНСИВНОСТИ КРС ОБРАЗЦОВ
L и периодом a решетки:
a
В эксперименте были проведены измерения уг-
Δγ ≈
L
ловых зависимостей интенсивности поляризован-
ных компонент КРС образцов в диапазоне углов
В этом случае вместо определенного направления
ϕ = 80-190 с шагом 10 для всех образцов и для
волнового вектора фонона q можно говорить о на-
образца 1 с шагом 4.
правлении в некоторый телесный угол с плоским уг-
На рис. 4 представлены результаты измерений
лом раствора Δγ. Соответственно, рассеянный свет,
для образцов 1 и 5 (референтного монокристалла).
распространяющийся под углом ψ′′ к нормали об-
Сплошные линии — расчет по уравнению (6). Пара-
разца, при выходе из образца будет иметь разброс
метр η определялся подгонкой теоретической кри-
направлений Δθ:
вой к экспериментальным точкам методом наимень-
ших квадратов. Значения параметра η для обеих ли-
n sin(ψ′′ ± Δγ/2) = sin(ψ ± Δθ/2).
ний приведено в таблице. Образец с нанокристалла-
ми имеет более плавную зависимость и описывается
Преобразовывая уравнение и ограничиваясь линей-
уравнением (6) с меньшим значением параметра η.
ным членом разложения, получим
Образец 1 содержит нанокристаллы с наимень-
шим размером (см. таблицу). С увеличением раз-
cosψ′′
Δθ = n
Δγ = nKΔγ.
мера нанокристаллов (образцы 2, 3, 4) зависимо-
cosψ
609
3
ЖЭТФ, вып. 4 (10)
А. В. Иго
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
Рис. 5. Размеры нанокристаллов в образцах имплантиро-
ванного кремния для разных температур отжига: 1 — рас-
Рис. 6. Спектры КРС поляризованной компоненты Iyz
чет по (7); 2 — расчет по (8); 3 — расчет по уширению
образца
2
для различных углов поворота образца ϕ:
дифракционного пика ХRD из работы [7]
1 130; 2 120; 3 110; 4 100
Используя это соотношение, получим оценку разме-
углов поворота кристалла ширина суммарной спект-
ра нанокристалла по измеренной в эксперименте ве-
ральной линии должна быть разной.
личине Δθ:
На рис. 6 приведены спектры КРС поляризован-
nKa
ной компоненты Iyz
образца 2 для нескольких углов
L=
(8)
поворота образца. Так, для угла 130 интенсивность
Δθ
монокристаллического слоя должна уменьшиться
Для условий эксперимента ψ = 25 и n = 4,
относительно максимальной до 0.05 (η = 0.96), а от
K = 1.1. На рис. 5 представлен результат расче-
слоя с нанокристаллами — до 0.36 (η = 0.65). Это
та размера нанокристалла L по формулам (7) и (8)
приводит к тому, что наблюдаемая ширина спект-
в зависимости от температуры отжига. Для срав-
ральной линии для этого угла в большей степени
нения приведены измерения из работы [7], полу-
определяется более широкой линией от области с на-
ченные методом рентгеновской дифракции (XRD).
нокристаллами.
Надежными результатами измерения размера на-
На рис. 7 представлены зависимости ширины ли-
нокристаллов традиционно считаются расчеты по
нии поляризованной компоненты Iyz КРС от угла
формуле Шеррера, связывающей ширину дифрак-
поворота для образцов 1 и 4 и референтного моно-
ционного пика рентгеновского излучения с разме-
кристалла (образец 5). Для образца 1 ширина спек-
ром нанокристалла. Формула (7) является эмпири-
тральной линии, измеренной без поляризатора, для
ческой; коэффициент A и показатель степени 1.5
любого угла поворота ϕ составляет 5.4 см-1. Шири-
подбирались так, чтобы размер нанокристаллов со-
на спектральной линии поляризованной компонен-
ответствовал расчетам по формуле Шеррера. Фор-
ты интенсивности Iyz изменяется от 4.5 до 10 см-1
мула (8) в этом смысле является независимым ис-
в зависимости от угла поворота. Как показано на
точником данных о размере нанокристалла.
рис. 6, наибольшая ширина наблюдается при угле
поворота, соответствующем наименьшей интенсив-
ности этой компоненты.
5. ШИРИНА СПЕКТРАЛЬНОЙ ЛИНИИ КРС
Образец, отожженный при 1100C по оценкам
В ИССЛЕДОВАННЫХ ОБРАЗЦАХ
(см. таблицу) на 98 %, имел восстановленную кри-
Как показано на рис. 3, интенсивность КРС об-
сталличность нарушенного слоя, интенсивность по-
разца состоит из суммы интенсивностей от двух
рядка
85 % от интенсивности КРС референтно-
областей — частично восстановленного слоя и мо-
го монокристалла и ширину спектральной линии
нокристаллического кремния, расположенного под
3.7 см-1, измеренную без поляризатора, что незна-
этим слоем. Эти компоненты имеют разные шири-
чительно отличается от ширины линии исходного
ны спектральной линии. Интенсивности этих ком-
монокристалла (3.4 см-1). Тем не менее для угла
понент имеют разную угловую зависимость (отли-
поворота образца 134 ширина линии значительно
чаясь величиной η), и следовательно, для разных
увеличивается (до 8.3 см-1), что удивительно. Если
610
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
Особенность угловой зависимости. . .
Рис. 8. Спектры КРС образца 1 для угла ϕ = 134: 1 Iyz;
2 Iyх
Рис. 7. Зависимости ширины спектральной линии поляри-
зованной компоненты Iyz КРС образца от угла поворота
(экспериментальные точки): 1 — образец 1; 2 — образец 4;
лицу). На графиках (рис. 8) видно, что широкая
3 — образец 5. Сплошные линии — аппроксимации (при-
компонента спектра присутствует в обеих поляриза-
ведены для наглядности)
циях, но в разрешенной поляризации присутствует
еще и интенсивная разрешенная узкая компонента.
То же самое можно предположить и для монокри-
соотносить эту ширину с размером нанокристалла
сталлического образца. Из-за наличия дефектов в
по формуле (7), то это порядка 3 нм, что не согла-
кристаллической решетке всегда присутствует неко-
суется со сделанными ранее оценками (9 нм). Еще
торое количество фононов, описываемых не идеаль-
более удивительно, что и в случае монокристалла
ными плоскими волнами, а суперпозицией плоской
для этого угла ширина возрастает от 3.4 до 4.7 см-1
волны и расходящийся сферической [9]. Амплитуда
(кривая 3 на рис. 7).
расходящейся волны пропорциональна количеству
дефектов.
Традиционно, это направление рассеяния (кон-
Такой подход эквивалентен представлению о ко-
фигурация рассеяния) для Iyz называется запре-
нусе направлений волнового вектора фонона за счет
щенным, т. е. такое рассеяние запрещено правилами
неопределенности направления в малом кристал-
отбора. Правила отбора сформулированы для иде-
ле (нанокристалле). Представление о сферической
альных фононов, а в системе с дефектами фоно-
компоненте волновой функции фонона удобны для
ны перестают быть идеальными плоскими волнами.
оценки степени дефектности монокристалла по от-
Для неидеальных фононов правила отбора ослабля-
носительной интенсивности рассеянного света в за-
ются и резкие угловые зависимости сглаживаются.
прещенном правилами отбора направлении (по свя-
В формулах (6) неидеальность фонона может быть
занной с этой величиной Δθ). В эксперименте в этом
включена в параметр η. Чем более дефектный кри-
случае в запрещенном направлении также должна
сталл, тем интенсивнее рассеяние в запрещенном на-
наблюдаться увеличенная ширина спектральной ли-
правлении (меньше параметр η) и больше ширина
нии. Исключая из уравнений (7) и (8) размер на-
спектральной линии, и именно ширина спектраль-
нокристалла, получим связь между шириной спек-
ной линии для запрещенного направления оказыва-
тральной линии и неопределенностью угла рассея-
ется наиболее чувствительным инструментом изме-
ний:
рения дефектности.
(
)3/2
Δθ
На рис. 8 приведены спектры поляризованных
ΔΓ = A
nKa
компонент Iyz и Iyx для образца 1 для угла 134.
Компонента Iyz для этого угла является полностью
В этой формуле величина Δθ может быть вызвана
запрещенной правилами отбора, а Iyx — полностью
как малостью нанокристалла, так и дефектностью
разрешенной. Ширина спектральной линии Iyz рав-
крупного кристалла, а угол в кристалле Δγ ≈ Δθ/n
на 10 см-1, а Iyx — 4.6 см-1. Спектр, измеренный
эквивалентен отношению сферической и продоль-
без поляризатора, т. е. сумма двух компонент, име-
ной компонент волнового вектора фонона в дефект-
ет ширину спектральной линии 5.4 см-1 (см. таб-
ном кристалле.
611
3*
А. В. Иго
ЖЭТФ, том 158, вып. 4 (10), 2020
6. ВЫВОДЫ
ся чувствительным инструментом для определения
несовершенств кристаллической решетки рассеива-
В проведенном эксперименте обнаружено отли-
ющего объема, таких как малый размер кристалли-
чие угловых зависимостей интенсивности поляризо-
тов, составляющих этот образец, или других дефек-
ванных компонент интенсивности КРС в нанокрис-
тов идеальной кристалличности.
таллах кремния от известной зависимости в моно-
кристалле. Это отличие проявляется в более слабой
(сглаженной) угловой зависимости. Сглаженность,
ЛИТЕРАТУРА
по сути, является результатом усреднения резкой
зависимости интенсивности в случае монокристал-
1. М. Кардона, Г. Гюнтеродт, Р. Ченг и др., Рассея-
ла по некоторому диапазону углов рассеяния Δθ и
ние света в твердых телах, вып. II, Мир, Москва
может быть описана параметром сглаживания η. В
(1984).
работе определена связь диапазона углов рассеяния
2. H. Richter, Z. P. Wang, and L. Lеy, Sol. St. Comm.
Δθ с величиной неопределенности направления вол-
39, 625 (1981).
нового вектора фонона в нанокристалле.
В эксперименте значения параметра сглажива-
3. I. H. Campbell and P. M. Fauchet, Sol. St. Comm.
ния и диапазон углов рассеяния были определе-
58, 739 (1986).
ны для четырех образцов, различающихся размера-
4. В. С. Горелик, А. В. Иго, С. Н. Миков, ЖЭТФ
ми. Обнаружено, что для нанокристаллов меньше-
109, 2141 (1996).
го размера диапазон углов рассеяния больше, чем
для крупных. Так, образцу со средним размером на-
5. G. Faraci, S. Gibelisco, P. Russo et al., Phys. Rev.
нокристаллов 3 нм в эксперименте соответствовал
B 73, 033307 (2006).
диапазон углов рассеяния 0.84 рад, а образцу с на-
6. В. А. Володин, В. А. Сачков, ЖЭТФ 143, 100
нокристаллами размером 9 нм — 0.3 рад. В работе
(2013).
предложено соотношение, связывающее размер на-
нокристалла с определяемым в эксперименте диапа-
7. К. Х. Нусупов, Н. Б. Бейсенханов, С. К. Жариков
зоном углов рассеяния.
и др., ФТТ 56, 2231 (2014).
В работе обнаружено, что особенность КРС в на-
нокристаллах проявляется в том, что в запрещенной
8. А. В. Иго, Опт. и спектр. 129, 1115 (2020).
правилами отбора конфигурации рассеяния присут-
9. А. В. Иго, Опт. и спектр. 125, 25 (2018).
ствует большая доля интенсивности по сравнению
со случаем монокристалла. Ширина спектральной
10. А. К. Arora, М. Rajalakshmi, Т. R. Ravindran et al.,
линии в этой конфигурации рассеяния оказывает-
J Raman Spectrosc. 38, 604 (2007).
612