Известия РАН. Энергетика, 2023, № 2, стр. 46-57

К вопросу о расчете напряжения обратного дугового пробоя высоковольтного термоэмиссионного диода и его предельной удельной электрической мощности

Е. В. Онуфриева 1*, В. В. Онуфриев 1

1 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)”
Москва, Россия

* E-mail: onufryev@bmstu.ru

Поступила в редакцию 29.11.2022
После доработки 16.01.2023
Принята к публикации 20.01.2023

Полный текст (PDF)

Аннотация

Вопросы создания мощных энергодвигательных установок (ЭДУ) на основе термоэмиссионного реактора-преобразователя (ТРП) и электроракетных двигательных установок (ЭРДУ) связаны с разработкой компактных высокотемпературных радиационно-стойких систем преобразования тока (СПТ), использующих в своем составе приборы плазменной электроэнергетики – сеточные ключевые элементы (СКЭ) и высоковольтные плазменные термоэмиссионные диоды (ВПТД). Основной проблемой разработки СКЭ и ВПТД является определение их рабочего напряжения (или напряжения обратного дугового пробоя в запертом состоянии), которое в совокупности с плотностью тока в проводящем состоянии характеризует плотность электрической мощности вентиля и является его основным параметром. В рамках данной работы авторами на основе исследования запертого состояния численным и аналитическим методом получены новые зависимости для расчета напряжения обратного дугового пробоя и определены предельные величины плотности электрической мощности ВПТД.

Ключевые слова: высоковольтный плазменный термоэмиссионный диод, напряжение обратного дугового пробоя, область возбужденных атомов, тепловой поток, плотность электрической мощности, межэлектродный зазор

ВВЕДЕНИЕ

Определение электрической прочности газоразрядных вентилей к обратному дуговому пробою необходимо для расчета их вентильных свойств, рабочей температуры, давления рабочего тела в межэлектродном зазоре (МЭЗ) и плотности электрической мощности, передаваемой на нагрузку. Паронаполненные вентили – СКЭ и ВПТД [1, 2] обладают повышенными выходными электрическими характеристиками по сравнению с газоразрядными в проводящем состоянии. В этой связи знание зависимости их электропрочностных свойств к обратному дуговому пробою от теплофизических параметров состояния позволит создать методики проектирования и оптимизации теплоэлектрических и массоэнергетических характеристик СКЭ и ВПТД.

К настоящему времени проектирование указанных вентилей возможно с использованием результатов экспериментальных исследований обратного дугового пробоя в ВПТД с цезиевым и бариевым наполнением [38]. Вместе с тем авторами данной работы в [9] найдено аналитическое решение относительно определения величины напряжения обратного дугового пробоя в ВПТД с неэмиттирующим анодом и цезиевым наполнением в виде формулы, которая в дальнейшем модифицирована для прямого расчета напряжения пробоя в режиме обратного тока.

ИССЛЕДОВАНИЕ ПАРАМЕТРОВ РАЗРЯДА В КАТОДНОМ СЛОЕ В РЕЖИМЕ ОБРАТНОГО ТОКА ДИОДА ЧИСЛЕННЫМ МЕТОДОМ

Авторами данной статьи ранее было получено аналитическое выражение для расчета напряжения зажигания обратного дугового разряда в межэлектродном зазоре высоковольтного термоэмиссионного диода с цезиевым наполнением [9]. В основе новой энергетической модели был рассмотрен режим токопереноса ионами с учетом энергообмена с атомами в катодной части плотного (аномального) тлеющего разряда – ионном слое, на основании чего было получено уравнение энергии для тяжелой компоненты (атомов) в катодном слое, выраженное через напряженность электрического поля Е(х), температуру атомов Та(х):

(1)
$\frac{e}{{{{n}_{a}}}}\left( {\frac{{{{n}_{i}}}}{{{{Q}_{{ia}}}}} + \frac{{{{n}_{e}}}}{{{{Q}_{{ea}}}}}} \right)\frac{{dE(x)}}{{dx}} + k{{n}_{a}}\frac{{d{{T}_{a}}(x)}}{{dx}} \cong - {{\varepsilon }_{0}}E(x)\frac{{dE(x)}}{{dx}},$
где ma – масса атома цезия; е – заряд электрона; k – постоянная Больцмана; ε0 – диэлектрическая постоянная; na, ni, ne – концентрация атомов, ионов и электронов соответственно в ионном слое у отрицательного электрода; Qia – сечение перезарядки; Qea – сечение столкновений электрон–атом.

Решение уравнения (1) показало, что распределение электрического поля в катодном слое носит гиперболический характер [9].

Вместе с тем, в отличие от существующих представлений о формировании области возбужденных атомов в катодном слое тлеющих разрядов, разработанная модель токо- и энергопереноса указывает на иной механизм возбуждения атомов пара, а именно – за счет перезарядки ионов на атомах в сильных полях и упругого рассеяния “быстрых” атомов. Эта область наблюдается в экспериментальных исследованиях по газовому разряду [1014]. Существование резкой границы этой области обусловлено тем, что вынос энергии потерь разряда происходит в направлении движения ионов к отрицательному электроду, при этом скорость ионов в этой области на два порядка превышает тепловую скорость атомов. Нагрев атомов, согласно выражению (3) [9]:

(2)
$\frac{{d{{T}_{a}}(x)}}{{dx}} \cong \frac{2}{5}\frac{{{{\varepsilon }_{0}}}}{{{{\chi }_{a}}}}{{\left( {\frac{{{{2}^{{1/2}}}e}}{{{{m}_{a}}{{n}_{a}}{{\Omega }_{{ia}}}}}} \right)}^{{1/2}}}\left[ {{{E}^{{5/2}}}(x) - {{E}^{{5/2}}}(0)} \right]$
наблюдается только при значительных электрических полях – 106 В/м и более [9].

Нагрев атомов пара цезия у поверхности отрицательного электрода (неэмиттирующего анода) при напряженности электрического поля у отрицательного электрода E(dК) = 106…107 В/м, dk – протяженность прикатодного слоя, концентрации атомов цезия nа = 1020…1021 м–3 может достигать 3500…5500 K.

Аналогичный результат был получен авторами при решении системы уравнений (1) и (2) для катодного слоя (режим обратного тока) численным методом в программном комплексе “Matlab/Simulink” [15], схема и алгоритм решения приведены на рис. 1.

Рис. 1.

Алгоритм решения системы дифференциальных уравнений, описывающих катодный ионный слой плотного тлеющего разряда (режим обратного тока) в программном комплексе “Matlab/Simulink”.

На рис. 2–3 представлены результаты численного расчета распределений напряженности электрического поля, температуры пара цезия в катодном ионном слое (в режиме обратного тока ВПТД).

Рис. 2.

Распределение напряженности электрического поля в катодном ионном слое. na = 1020 м–3, Та0 = 600 К.

Рис. 3.

Распределение температуры пара цезия в катодном ионном слое в режиме обратного тока. na = 1020 м–3, Та0 = 600 К.

Рис. 4.

Зависимость напряжения зажигания обратного дугового разряда в МЭЗ диода от давления пара цезия. 1 – Та0 = 600 К, q = 1 Вт/см2. 2 – (полуэмпирическая зависимость [9]) Та0 = 620 К, χar = 8 χa, χа по справочным данным, γiкр = 0.03.

Расчеты теплофизических и электрических характеристик в приэлектродном слое показали, что при давлениях пара цезия 10–2 Торр (1.33 Па) и характерной его длине dk ∼ (250–300) λаа [1013], где λаа – длина свободного пробега атома цезия при упругих столкновениях, электрическое поле сосредоточено в узкой области – порядка 0.1 dk, рис. 2. Именно в этой области наблюдается разогрев атомной компоненты (рассеяние “быстрых” атомов, образующихся вследствие резонансной перезарядки), рис. 3. Прикатодное падение потенциала также сосредоточено в этой области.

Таким образом, и результаты численного моделирования показали, что область возбужденных атомов формируется вследствие механизма перезарядки и рассеяния “быстрых” атомов и определяет устойчивость данной формы разряда при соблюдении энергобаланса между джоулевым энерговыделением в ионном слое и отводом тепла от слоя возбужденными атомами пара цезия.

РАСЧЕТ НАПРЯЖЕНИЯ ОБРАТНОГО ДУГОВОГО ПРОБОЯ ДИОДА ПО УТОЧНЕННОЙ АНАЛИТИЧЕСКОЙ ЗАВИСИМОСТИ

Выполненное численное расчетное исследование режима обратного тока в МЭЗ ВПТД также показало, что устойчивость плотного тлеющего разряда определяется способностью области возбужденных атомов и ионов к отводу энергии джоулевых потерь из слоя (балансом между притоком тепла и отводом – излучением и теплопроводностью ионного слоя) [9].

Исследование рабочего процесса высоковольтного термоэмиссионного диода в режиме обратного тока численно в данной работе позволило подтвердить ранее полученный в [9] новый результат:

– формирование области возбужденных атомов в приэлектродном слое связано с перезарядкой в сильных полях и термализацией быстрых атомов;

– электрическое поле в слое описывается гиперболой (4-го порядка – аналитическое решение);

– накопление внутренней энергии в атомной компоненте и ее отвод (теплопроводностью, излучением, конвекцией) обеспечивают существование аномального тлеющего разряда при повышенных температурах пара.

Значение обратного приложенного напряжения Uобр, которое выдерживает ионный слой, и остается тлеющая форма разряда, определяется только теплофизическими свойствами пара – теплопроводностью χа(Tа), давлением (концентрацией nа) атомов пара рабочего вещества (цезия) и практически не зависит от длины МЭЗ.

В [9] авторами на основе предложенной новой модели энергообмена и токопереноса в ионном слое тлеющего разряда (режим обратного тока ВПТД) была получена новая аналитическая зависимость для расчета напряжения зажигания обратного самостоятельного дугового разряда – обратного дугового пробоя, показывающего предельную вентильную способность диода:

(3)
${{U}_{{\text{п}}}} = {{\left( {(T_{{a\;{\text{кр}}}}^{{}} - {{T}_{{a0}}})\frac{{{{m}_{a}}\chi _{{ar}}^{2}}}{{ek{{\varepsilon }_{0}}{{n}_{a}}}}} \right)}^{{1/3}}},$
где χаr – “реактивная” теплопроводность; Та кр – критическая температура пара в области возбужденных атомов в момент обратного дугового пробоя; Та0 – температура пара цезия в МЭЗ.

В выражении (3) неизвестными величинами являются “реактивная” теплопроводность и критическая температура атомов пара в момент пробоя. В момент зажигания обратного самостоятельного дугового разряда теплофизические характеристики пара испытывают скачок (вследствие процессов диссоциации, ионизации), поэтому в формуле (3) учитывается “реактивная” теплопроводность пара – χаr, связанная с ионизацией и диссоциацией атомов и определяемая формулой [16]:

(4)
${{\chi }_{{ar}}} = \frac{{75}}{{64}}\sqrt {\frac{{\pi {{k}^{3}}{{T}_{{a\,{\text{кр}}}}}}}{{{{m}_{a}}}}} \frac{1}{{{{{\bar {\Omega }}}^{{\left( {2,2} \right)}}}}},$
где ${{\bar {\Omega }}^{{\left( {2,2} \right)}}}$ – столкновительный интеграл, [17]; ma – масса атома цезия.

Для использования формулы (3) при расчете напряжения обратного дугового пробоя необходимо определить такие величины, как критическая температура атомов в ионном слое –Та.кр и χаr – величина “реактивной” теплопроводности. Выражение (4) было аппроксимировано по табличным данным [16, 17]:

(5)
${{\chi }_{{ar}}} = \frac{{75}}{{64}}\sqrt {\frac{{\pi {{k}^{3}}{{T}_{{a\;{\text{кp}}}}}}}{{{{m}_{a}}}}} \frac{1}{{(a\ln {{T}_{{a\;{\text{кp}}}}} + b)с}},$
где a, b, c – константы, зависящие от щелочного металла, используемого в качестве парового наполнителя межэлектродного зазора.

Для цезия константы составляют [16, 17]: a = –10.69; b = 114.68; c = 10–20.

Расчет величины критической температуры атомов выполнен из условия баланса теплового потока в области возбужденных атомов ионного слоя. Исходя из результатов экспериментальных исследований режима обратного тока в МЭЗ ВПТД [35], величина теплового потока в предпробойном состоянии, связанная с джоулевыми потерями разряда и выносимого из слоя возбужденными атомами, составляет 1–2 Вт/см2. Оценка температуры атомов пара проведена из условия:

(6)
$q = \frac{3}{2}k{{T}_{{a\;{\text{кp}}}}}\frac{{{{n}_{a}}}}{4}\sqrt[{}]{{\frac{{8k{{T}_{{a\;{\text{кp}}}}}}}{{\pi {{m}_{a}}}}}}.$

Из выражения (6) получим выражение для расчета температуры атомов в области максимального нагрева (у поверхности отрицательного электрода):

(7)
${{T}_{{a\;{\text{кp}}}}} = {{\left[ {\frac{8}{9}\frac{{{{q}^{2}}\pi {{m}_{a}}}}{{{{k}^{3}}n_{a}^{2}}}} \right]}^{{{1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 3}} \right. \kern-0em} 3}}}}.$

Расчеты, выполненные по зависимости (7), показали, что величина температуры возбужденных атомов в ионном слое МЭЗ диода (в режиме обратного тока) составляет 4500–7100 К при концентрации атомов 1020 м–3 (давление пара в МЭЗ составляет 0.83 Па или 6.24 × 10–3 Торр) и 1000–1500 К при концентрации атомов 1021 м–3 (давление в МЭЗ составляет 8.28 Па или 6.24 × 10–2 Торр).

В результате выражение для расчета напряжения зажигания обратного дугового разряда (обратный дуговой пробой) в МЭЗ ВПТД примет вид:

(8)
${{U}_{{\text{п}}}} = {{\left( {\left\{ {{{{\left[ {\frac{8}{9}\frac{{{{q}^{2}}\pi {{m}_{a}}}}{{{{k}^{3}}n_{a}^{2}}}} \right]}}^{{1/3}}} - {{T}_{{a0}}}} \right\}\frac{{{{m}_{a}}}}{{ek{{\varepsilon }_{0}}{{n}_{a}}}}{{{\left[ {\frac{{75}}{{64}}\sqrt {\frac{{\pi {{k}^{3}}}}{{{{m}_{a}}}}} {{{\left( {\frac{8}{9}\frac{{{{q}^{2}}\pi {{m}_{a}}}}{{{{k}^{3}}n_{a}^{2}}}} \right)}}^{{1/6}}}\frac{1}{{\left( {a\ln {{{\left[ {\frac{8}{9}\frac{{{{q}^{2}}\pi {{m}_{a}}}}{{{{k}^{3}}n_{a}^{2}}}} \right]}}^{{1/3}}} + b} \right)с}}} \right]}}^{2}}} \right)}^{{1/3}}}.$

В данном выражении определяющими параметрами являются: концентрация атомов – na, которая на 5–6 порядков превосходит концентрацию ионов в условиях плотного тлеющего разряда для диапазона давлений пара в МЭЗ диода, удельный тепловой поток в предпробойном состоянии (известен из экспериментальных исследований), и температура пара (температура отрицательного электрода).

Введем обозначения для констант:

${{\left[ {\frac{8}{9}\frac{{\pi {{m}_{a}}}}{{{{k}^{3}}}}} \right]}^{{1/3}}} = A,\,\,\,\,\frac{{{{m}_{a}}}}{{ek{{\varepsilon }_{0}}}} = B,\,\,\,\,\frac{{75}}{{64}}\sqrt {\frac{{\pi {{k}^{3}}}}{{{{m}_{a}}}}} = C.$

В результате получим выражение для расчета напряжения обратного дугового пробоя в виде:

(9)
${{U}_{{\text{п}}}} = {{\left( {\left\{ {A\frac{{{{q}^{{2/3}}}}}{{n_{a}^{{2/3}}}} - {{T}_{{a0}}}} \right\}\frac{B}{{{{n}_{a}}}}{{{\left[ {C\sqrt {A\frac{{{{q}^{{2/3}}}}}{{n_{a}^{{2/3}}}}} \frac{1}{{\left( {a\ln \left( {A\frac{{{{q}^{{2/3}}}}}{{n_{a}^{{2/3}}}}} \right) + b} \right)с}}} \right]}}^{2}}} \right)}^{{1/3}}}.$

Результаты расчета обратного пробойного напряжения высоковольтного термоэмиссионного диода в режиме обратного тока по формуле (3), полученной из (8) с учетом (5) и (7) при тепловом потоке 1–2 Вт/см2, приведены на рис. 4, кривая 1.

Второй график на рис. 4 (кривая 2 – розовый цвет) – результаты расчета по формуле, полученной ранее авторами работы в [9]:

(10)
${{j}_{{{\text{кр}}}}} = {{D}_{1}}U_{{\text{п}}}^{{7/3}}n_{a}^{2},$
где D1 – константа; jкр – предпробойная плотность тока (из обратных вольтамперных характеристик),
${{D}_{1}} = \left( {1 + {{\gamma }_{{i{\text{кр}}}}}} \right)\left[ {{{\varepsilon }_{0}}\left( {\frac{{{{2}^{{ - 7/3}}}}}{{{{5}^{{5/3}}}}}} \right){{{\left( {\frac{k}{{{{\chi }_{{ar}}}}}} \right)}}^{{5/3}}}{{{\left( {\frac{e}{{{{m}_{a}}}}} \right)}}^{{4/3}}}Q_{{ia}}^{{1/3}}} \right],$
γiкр – коэффициент вторичной эмиссии с отрицательного электрода, который для цезия при напряжениях не более 1–2 кВ не превышает 0.03–0.05. Температура отрицательного электрода принималась равной 600–640 К (электрод неэмиттирующий), величина коэффициента реактивной теплопроводности принималась равной (8–10) χа для цезия при температуре 600–640 К.

Результаты расчета по теоретической модели и по полуэмпирической методике показали хорошее совпадение.

РАСЧЕТ ПРЕДЕЛЬНЫХ ТЕПЛОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ И ЭЛЕКТРОЭНЕРГЕТИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ТЕРМОЭМИССИОННОГО ДИОДА

Так как напряжение обратного дугового пробоя является функцией давления пара, для обеспечения максимальной (оптимальной) удельной электрической мощности диода необходимо реализовать максимальную величину плотности термоэмиссионного тока с катода (для рабочего давления пара цезия) в проводящем состоянии.

Для достижения указанной цели можно воспользоваться “S-образными” зависимостями Рейзора для определения точки максимальной плотности тока, либо результатами обработки экспериментального материала по работам выхода в парах цезия и бария [18, 19]. Это реализуется оптимизацией температуры катода (“перемещением” температуры катода ТК в точку максимальной плотности термоэмиссионного тока на кривой постоянного давления пара в МЭЗ – “S-образной” кривой). В результате предложенного подхода диод с цезиевым наполнением МЭЗ оптимизируется по температуре катода и удельной электрической мощности (на единицу поверхности электрода). Параметром оптимизации является температура катода ТК, а давление пара в МЭЗ (определяется температурой термостата с цезием ТCs) pCs и температура отрицательного электрода в режиме обратного тока ВПТД – анода TA (задаются по условиям функционирования диода) определяют пробойное (рабочее) напряжение.

Алгоритм решения задачи оптимизации массоэнергетических и энергофизических характеристик диода следующий.

1. Определяется работа выхода материалов катода (иридий, рений, вольфрам, молибден и тантал) по известным аппроксимациям из [18, 19].

2. Определяется пробойное напряжение МЭЗ диода в режиме обратного тока – Uп по формуле (9).

3. По зависимости Ричардсона–Дешмана определяется плотность термоэмиссионного тока с катода диода в проводящем состоянии:

(11)
${{j}_{p}}({{p}_{{{\text{Cs}}}}},{{T}_{{\text{K}}}}) = 120.4T_{{\text{K}}}^{2}\exp \left( { - \frac{{e{{\varphi }_{{\text{K}}}}}}{{k{{T}_{{\text{K}}}}}}} \right).$

4. Определяется удельная электрическая мощность диода (на единицу поверхности электрода):

(12)
${{P}_{{{\text{эл}}{\text{.уд}}}}} = {{j}_{p}}{{U}_{{{\text{проб}}}}}({{p}_{{{\text{Cs}}}}}).$

Полученные аналитически величины напряжения обратного дугового пробоя использовались для расчета удельной электрической мощности. Рабочее напряжение диода принималось (0.8–0.9)Uп.

Результаты расчетов удельной электрической мощности диода с цезиевым наполнением приведены на рис. 5. Отметим, что технически пригодной можно считать плотность тока катода в проводящем состоянии не менее 1 А/см2, (это обеспечивается при температурах катода 2500 К и более) [1820]. Как показало исследование: недостатком диода с цезиевым наполнением является невысокая плотность термоэмиссионного тока вследствие малых значений давления пара цезия в МЭЗ (10–3–10–2 Торр), поэтому удельная электрическая мощность диода с цезиевым наполнением не превышает 1–3 кВт/см2, рис. 5.

Рис. 5.

Зависимость удельной электрической мощности диода от давления пара цезия при постоянной температуре катода (TК = 2500 К), материал катода: 1 – вольфрам, 2 – ниобий, 3 – молибден.

Для увеличения Рэл.уд целесообразно использовать бинарное наполнение МЭЗ (цезий и барий), что позволяет разделить оптимизацию на две независимые части: давление цезия pCs и температура анода TA определяют пробойное (а следовательно, рабочее) напряжение, а давление бария pBa и температура катода TК определяют плотность тока в проводящем состоянии. Отметим, что плотность термоэмиссионного тока в парах бария на один-два порядка превышает аналогичную в парах цезия [20]. Опираясь на данные литературы [20], было выбрано три значения работы выхода при бинарном наполнении МЭЗ. Величина работы выхода в парах бария может быть получена на уровне 2.5–3.2 эВ, при этом плотность термоэмиссионного тока с катода составит 10–30 А/см2, что существенно превышает аналогичный показатель диода с цезиевым наполнением. Плотности термоэмиссионного тока с эмиттера вычислены при температуре катода, принятой 1800 К. Пробойные напряжения соответствуют ранее приведенным значениям на рис. 4.

Результаты расчета удельной мощности диода с бинарным наполнением (цезий + барий) приведены на рис. 6. Максимальная величина удельной мощности диода с цезиевым наполнением в этом случае не превышает 2–5 кВт/см2. Отметим, что температура катода лежит в интервале 2570–2670 К (2300–2400°С), что резко снизит ресурс электродной группы такого устройства.

Рис. 6.

Зависимости удельной электрической мощности диода от давления цезия при бинарном (“цезий + барий”) наполнении МЭЗ, материал катода: 1 – рений, 2 – вольфрам, 3 – молибден, температура катода 1800 К.

ОБСУЖДЕНИЕ ПОЛУЧЕННЫХ РЕЗУЛЬТАТОВ

Экспериментальные исследования цезиевых диодов [35] выявили особенность, заключающуюся в том, что температура анода не должна превышать 700–720 К, иначе резко снижается пробойное напряжение диода (менее 300–100 В). Высоковольтное непроводящее состояние МЭЗ ВПТД наблюдается при низких давления пара цезия: рCs = 10–2…4 × 10–2 Торр, рис. 4, что подтверждено экспериментально в [35] и аналитическим решением в [9].

Однако в проводящем состоянии МЭЗ ВПТД для обеспечения технически пригодной плотности тока (удельной мощности) необходимо поддерживать температуру катода на уровне 2500–2800 К, т.к. катод имеет работу выхода, близкую к вакуумной. Это негативно сказывается на ресурсе ВПТД и требует применения тантала, рения или вольфрама в качестве материала катода. Следует отметить, что в этом случае перегревается сам катодный узел и требует дополнительных мер для обеспечения изоляции от корпуса и анодной части ВПТД.

Альтернативным вариантом повышения и пробойного напряжения, и удельной мощности паронаполненного ВПТД является применение бинарного наполнения МЭЗ: цезием и барием, причем давление пара цезия порядка 10–3 Торр, а бария 10–5–10–4 Торр. При этом электропрочностные свойства МЭЗ определяет наполнение цезием (превалирующая компонента смеси в МЭЗ), а эмиссионные свойства катода в проводящем состоянии обеспечиваются бариевой пленкой на катоде вследствие высокой энергии адсорбции [1820]. Однако ВПТД с бинарным наполнением сложен с точки зрения создания системы регулирования и поддержания требуемых давлений смеси при высоких температурах и предотвращения конденсации бария в цезиевом тракте – так как источники паров цезия и бария имеют существенно разные температуры. Это усложняет и регулирование давления смеси в МЭЗ ВПТД.

В этой связи для увеличения рабочей температуры анода (и собственно ВПТД) целесообразно перейти на бариевое наполнение МЭЗ. Температура анода ВПТД может составлять 900–1000 К при давлении бария 10–4–10–3 Торр (0.01–0.1 Па), при этом пробойные напряжения превышают 2000–2200 В, а плотность тока в проводящем состоянии может достигать 30 А/см2. Экспериментальные исследования [21] показали, что удельная электрическая мощность диода с бариевым наполнением может достигать 30–80 кВт/см2 при рабочей температуре анода до 940 К (напряжение обратного дугового пробоя 2200–2500 В).

ВЫВОДЫ

В работе проведено численное исследование режима обратного тока в ВПТД с цезиевым наполнением, получены распределения для напряженности электрического поля, температуры атомов и потенциала в ионном слое. Результаты исследования подтвердили ранее полученное аналитическое решение.

Получена уточненная аналитическая формула для прямого расчета напряжения зажигания обратного дугового разряда в МЭЗ ВПТД в режиме обратного тока.

Проведена оптимизация теплоэлектрических и электроэнергетических характеристик ВПТД, и определены предельные значения плотности мощности, передаваемой на нагрузку.

Список литературы

  1. Онуфриева Е.В., Синявский В.В., Онуфриев В.В. Высокотемпературные системы преобразования тока перспективных космических энергодвигательных установок // Известия РАН. Энергетика. 2009. № 4. С. 137–144.

  2. Онуфриева Е.В., Алиев И.Н., Онуфриев В.В. О выборе оптимального температурного режима преобразователя тока космической энергодвигательной установки // Известия вузов. Машиностроение. 2014. № 7. С. 10–18.

  3. Моргулис Н.Д., Марчук П.М. Исследование дугового цезиевого выпрямителя // Украинский физический журнал. 1956. Т. 3. Вып. 1. С. 95–101.

  4. Experimental Investigation of Electric Strength to Inverse Arc Breakdown of a Thermionic Diode with Cesium Filling / Onufriev V.V., Grishin S.D. // High Temperature. 1996. T. 34. № 3. C. 477–480.

  5. The Results of Investigations of High Temperature High Voltage Thermion Diode / Onufryev V.V. // 35th Intersociety Energy Conversion Engineering Conference and Exhibit 2000. PP. 290–296.

  6. Онуфриева Е.В., Онуфриев В.В., Яминский В.В. Разработка высоковольтных плазменных термоэмиссионных диодов высокотемпературного преобразователя тока энергодвигательных установок // Вестник Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана. Машиностроение. 2011. № 3. С. 70–73.

  7. Онуфриев В.В., Лошкарев А.И., Синявский В.В. Электроэнергетические характеристики термоэмиссионного высоковольтного диода для космических энергодвигательных установок // Известия РАН. Энергетика. 2006. № 1. С. 87–97.

  8. Онуфриева Е.В., Онуфриев В.В., Алиев И.Н., Синявский В.В. Энергетические характеристики высокотемпературных плазменных вентилей систем преобразования тока космических энергодвигательных установок // Известия РАН. Энергетика. 2016. № 3. С. 127–140.

  9. On Calculation of the Ignition Voltage for a Back-Arc Discharge in a High-Voltage Thermionic Diode / Sinyavsky V.V., Onufrieva E.V., Onufriev V.V., Grishin Y.M., Sidnyaev N.I., Ivashkin A.B. // Thermal Engineering. 2018. V. 65. № 13. C. 1019–1023.

  10. Браун С.С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. Москва: Госатомиздат, 1961. 323 с.

  11. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Ч. II. Установившийся ток. М.: Наука, 1971. 543 с.

  12. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1992. 536 с.

  13. Каганов И.Л. Ионные приборы. М.: Энергия, 1972. 528 с.

  14. Messrle H.K., Ho N.L., Heffernan L.P. Electrical Break-Down of Electrode Boundary Layers // 12‑th National Symposium Eng. Aspects MHD. Argonne (Illinois). 1972. P. III.5.1.–III.5.6.

  15. Дьяконов В.П. “MATLAB 6.5 SP1/7 + Simulink 5/6” в математике и моделировании. Сер. “Библиотека профессионала”. М.: СОЛОН-Пресс, 2005. 576 с.

  16. Davies R.H., Mason E.A., Munn R.J. High-Temperature Transport Properties of Alkali Metal Vapors // The Physics of Fluids. 1965. V. 5. № 3. P. 444–452.

  17. Massey H.S.W. Electronic end ionic impact phenomena // Great Britain: Oxford, 1969. 661 pp.

  18. Ушаков Б.А., Никитин В.Д., Емельянов И.А. Основы термоэмиссионного преобразования энергии. М.: Атомиздат. 1974. 288 с.

  19. Плазменное термоэмиссионное преобразование энергии / И.П. Стаханов, А.С. Степанов, В.П. Пащенко, Ю.К. Гуськов. М.: Атомиздат, 1968. 392 с.

  20. Термоэмиссионные преобразователи и низкотемпературная плазма / Под ред. Б.Я. Мойжеса и Г.Е. Пикуса. Москва: Наука, 1973. 480 с.

  21. Онуфриев В.В., Лошкарев А.И. / Зажигание обратного дугового разряда в бариевом термоэмиссионном диоде // Вестник Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана. Естественные науки. 2005. № 1. С. 72.

Дополнительные материалы отсутствуют.