Радиотехника и электроника, 2019, T. 64, № 10, стр. 1034-1037

О влиянии ионной поляризации транзисторных Si-структур на проводимость каналов инверсии p-типа

Е. И. Гольдман 1, В. Г. Нарышкина 1, Г. В. Чучева 1*

1 Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
141190 Фрязино, Московской обл., пл. Введенского, 1, Российская Федерация

* E-mail: gvc@ms.ire.rssi.ru

Поступила в редакцию 20.11.2018
После доработки 20.11.2018
Принята к публикации 15.02.2019

Полный текст (PDF)

Аннотация

В диапазоне значений индукции поперечного магнитного поля 0…4.5 Тл при температурах 100…200 К проведены измерения проводимости канала инверсии p-типа транзисторных Si-структур после ионной поляризации и деполяризации образцов. Найдено, что в процессе поляризации при температуре 420 К под действием сильного электрического поля в окисле перетекало порядка 6.5 × 1011 см–2 ионов. Обнаружено, что до порога открытия канала проводимость в цепи исток-сток реализуется за счет термоактивации носителей заряда на уровень протекания в неупорядоченном потенциале, созданном хаотическим распределением ионов вдоль поверхности полупроводника. Показано, что после открытия канала (пересечения уровня Ферми дырок на поверхности полупроводника с уровнем протекания в хаотическом потенциале) ионы проявляются в проводимости как дополнительные рассеивающие центры и, поэтому, в поляризованном состоянии эффективная подвижность канала меньше, чем в деполяризованном.

Модификация электронных свойств границ раздела (ГР) в структурах металл–диэлектрик–полупроводник после ионной поляризации изолирующего слоя – это известная особенность кремниевых планарных транзисторов. В результате поляризации возникают сдвиги пороговых напряжений открытия каналов инверсии за счет накопления встроенного заряда [1], изменения зонной структуры проводящих путей из-за образования высокой концентрации примесных локализованных состояний у ГР полупроводник–диэлектрик [2, 3]. При планарно-неоднородной поляризации открываются возможности создания регулярного распределения локализованного заряда с двумерным потенциальным рельефом, формирующим у поверхности полупроводника различные квантово-размерные наномасштабные области [4, 5]. Было обнаружено [6, 7], что ионная поляризация транзисторных структур металл–окисел–полупроводник (МОП) приводит к увеличению в разы эффективной подвижности электронов в канале инверсии у ГР Si–SiO2. Это явление для каналов n‑типа было объяснено образованием нового пути электропереноса по поверхностной примесной зоне, связанной с делокализованными D состояниями, которые генерируются нейтрализованными ионами, расположенными в изолирующем слое у ГР с полупроводником [8]. Поскольку положительно заряженные ионы не могут образовывать с дырками связанных состояний, то поляризация окисла, контактирующего с каналом инверсии p-типа, должна давать другую, по сравнению с [8], картину изменения проводящих свойств. Цель данной работы – экспериментально исследовать этот вопрос.

Опыты проводили аналогично исследованиям работы [8] с помощью компьютеризованной установки [9] на Si-МОП-транзисторах с дырочным каналом инверсии, с толщиной термического подзатворного окисла h = 1000 Å, шириной электродов исток-сток W = 1 мм и расстоянием между ними L = 10 мкм. Объекты формировали по стандартной кремниевой технологии. Измерения вольт-амперных характеристик проводили на пилообразных импульсах от генератора фирмы Agilent 3322А со скоростью полевой развертки β = = 0.32 В/с при амплитуде напряжения на затворе |Vg| = 10 В и постоянном смещении на стоке Vd = = –0.01 В. Так же, как и в работе [8], поляризацию и деполяризацию окисла осуществляли при напряжениях на полевом электроде Vg = 10 и –10 В соответственно и на стоке Vd = –0.01 В в течение одного часа при температуре 420 К.

После полевых и температурных воздействий образец помещали в криомагнитную безжидкостную систему, позволяющую измерять токи и напряжения в диапазоне температур от 6 до 300 К и в магнитных полях до 8 Тл [10]. Чтобы избежать дрейфа ионов в сильных электрических полях, проводимость канала инверсии измеряли при температурах не выше 200 К; при этом их значения контролировались терморегулятором Lakeshore 335 с точностью 0.01 град.

На рис. 1 представлены зависимости токов в канале инверсии Id от напряжения затвора Vg после поляризации и деполяризации при различных температурах. Как и в ранее выполненных работах [68], для наблюдения за влиянием всех воздействий на проводимость инверсионного канала была использована эффективная подвижность свободных носителей заряда

(1)
$\mu = \left( {{1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 {{{C}_{i}}}}} \right. \kern-0em} {{{C}_{i}}}}} \right){{d\sigma } \mathord{\left/ {\vphantom {{d\sigma } {d{{V}_{g}}}}} \right. \kern-0em} {d{{V}_{g}}}},$
определяемая на квазилинейном участке соответствующей характеристики ${{I}_{d}}\left( {{{V}_{g}}} \right)$ (см. рис. 1), где $\sigma = \left( {{{{{I}_{d}}L} \mathord{\left/ {\vphantom {{{{I}_{d}}L} {W\left| {{{V}_{d}}} \right|}}} \right. \kern-0em} {W\left| {{{V}_{d}}} \right|}}} \right)$ – омическая проводимость канала, ${{I}_{d}}$ – ток в цепи исток–сток, ${{C}_{i}}$ – емкость подзатворного изолирующего слоя окисла кремния.

Рис. 1.

Зависимость тока Id в канале инверсии Si-МОП транзистора от потенциала затвора Vg после деполяризации (кривые 1–3) и поляризации (кривые 4–6) при различных температурах: 200 К (1, 4), 150 К (2, 5), 100 К (3, 6); напряжение на стоке Vd = –0.01 B.

В отличие от транзисторов с каналами n-типа в наших условиях после поляризации ток ${{I}_{d}}$ по модулю при одинаковых значениях полевого напряжения Vg резко (в разы) меньше, чем после деполяризации, а величина $\mu $ не увеличивается, а наоборот, существенно уменьшается (см. ниже). Переход из деполяризованного в поляризованное состояние существенно сдвигает порог открытия канала. Данная область токов ${{I}_{d}}$ показана на рис. 2. Смещение порогового напряжения уменьшается с понижением температуры от 3 В при 200 К до 1.5 В при 100 К. Эти цифры соответствуют увеличению концентрации положительного встроенного заряда у ГР Si–SiO2 после поляризации из деполяризованного состояния на 6.5 × 1011 см–2 (200 К) и 3.2 × 1011 см–2 (100 К). По-видимому, такая заметная разница значений концентраций локализованных у ГР Si–SiO2 зарядов обусловлена не стационарностью процесса открытия канала при низких температурах: изначально при ${{V}_{g}} \approx 0$ ионы в достаточной мере нейтрализованы [1113], а рекомбинация захваченных на них электронов, по крайней мере, в областях сгустков примесных частиц, запаздывает по отношению к развертке полевого напряжения dVg/dt = –0.32 В/с. Данному предположению отвечает и заметно более широкий участок нелинейной зависимости ${{I}_{d}}\left( {{{V}_{g}}} \right)$ в поляризованном состоянии после открытия канала при 100 К (см. рис. 1, кривая 6). Как и в работе [8], исследованные образцы имели высокие токи утечки в цепи затвор-подложка, что не позволило непосредственно определить концентрации перетекших ионов как интеграл тока в этой цепи по времени. Поэтому, несмотря на известные ограничения точности такого подхода (см. [3]), будем опираться на данные по сдвигу напряжения открытия канала при 200 К и считать результатом поляризации накопление у ГР Si–SiO2 6.5 × 1011 ионов на 1 см2 данного контакта.

Рис. 2.

Фрагмент кривых 16, показанных на рис. 1, отвечающий области открытия канала.

На рис. 3 представлены температурные зависимости эффективной подвижности дырок µ в поляризованном и деполяризованном состояниях. После поляризации величина $\mu $ заметно меньше, чем после деполяризации, для температуры 200 К соотношение 395 см2/(В · с) по сравнению с 800 см2/(В · с). При охлаждении подвижность растет в поляризованном состоянии по закону $\mu \propto {{Т}^{{ - 1.6}}}$ и при 100 К достигает 1270 см2/(В · с); в деполяризованном состоянии – $\mu \propto {{Т}^{{ - 0.9}}}$ и 1560 см2/(В · с) соответственно. Такое поведение эффективной подвижности в канале инверсии свойственно смеси двух механизмов рассеяния свободных носителей заряда – на акустических фононах и на заряженных примесях и ловушках [14]. Вывод о реализации электропереноса свободными дырками согласуется и с условием определения величины $\mu $ – в области полевых напряжений вдали от порога открытия канала.

Рис. 3.

Температурные зависимости эффективной подвижности дырок µ(Т) в канале инверсии МОП-транзистора в двойном логарифмическом масштабе после деполяризации (1) и поляризации (2).

На рис. 4 показаны зависимости эффективной подвижности в канале инверсии транзистора от магнитного поля в диапазоне 0…4.5 Тл. И в деполяризованном, и в поляризованном состояниях эти зависимости относительно слабые: при 200 и 150 К с ростом магнитного поля эффективная подвижность уменьшается на 6…20%, а при 100 К – на 20…30%. Магнитное поле практически не изменяет порог открытия канала инверсии. Такое поведение поверхностной проводимости характерно для гальваномагнитных явлений в невырожденных газах свободных носителей заряда в случае относительно слабых, не квантующих магнитных полей [15]. Этот вывод подтверждается и конкретными экспериментальными данными: в магнитном поле B = 4.5 Тл диаметр основной циклотронной орбиты равен 12 нм, что больше длины свободного пробега дырок в Si, а значение параметра µ × B составляет 0.36 (200 К), 0.62 (150 К), 0.7 (100 К).

Рис. 4.

Зависимость эффективной подвижности дырок µ в канале инверсии МОП-транзистора от магнитного поля В при температурах 200 (1, 4), 150 (2, 5) и 100 К (3, 6) после деполяризации (1–3) и после поляризации (4–6).

Таким образом, после ионной поляризации изолирующих слоев p-канальных Si-МОП транзисторов у ГР Si–SiO2 накапливается дополнительный положительный встроенный заряд c концентрацией 6.5 × 1011 см–2. При небольших полевых напряжениях до открытия канала инверсии проводимость в цепи исток-сток реализуется за счет термоактивации носителей заряда на уровень протекания в неупорядоченном потенциале, связанным с хаотическим распределением ионов вдоль ГР [16]. Канал открывается при пересечении уровня Ферми дырок на поверхности полупроводника с уровнем протекания в хаотическом потенциале. При достаточно больших напряжениях ${{V}_{g}}$ поверхностные неоднородности встроенного заряда в значительной мере экранированы свободными дырками, а присутствие ионов проявляется в виде дополнительных рассеивающих центров. Поэтому и реальная подвижность свободных носителей заряда, и эффективная подвижность в канале инверсии транзистора после поляризации существенно меньше, чем после деполяризации. Отметим, что поляризованное состояние окисла достаточно устойчиво и длительно (более месяца) сохраняется при температурах ниже 250 К даже после подачи на полевой электрод деполяризующих напряжений. Это обстоятельство может быть использовано при разработке и создании элементной базы устройств записи и стирания информации.

Список литературы

  1. Nicollian E.H., Brews I.R. MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology. N. Y.: John Willey @ Sons, 1982.

  2. Hartstein A., Fowler A.B. // Phys. Rev. (Lett.). 1975. V. 34. P. 1435.

  3. Андо Т., Фаулер А., Стерн Ф. Электронные свойства двумерных систем. М.: Мир, 1985. Параграф 3. Глава 5. С. 186.

  4. Гольдман Е.И., Ждан А.Г. // Письма в ЖЭТФ. 2000. Т. 29. № 1. С. 38.

  5. Гольдман Е.И., Гуляев Ю.В., Ждан А.Г., Чучева Г.В. // Микроэлектроника. 2001. Т. 30. № 5. С. 364.

  6. Гуляев Ю.В., Ждан А.Г., Чучева Г.В. // ФТП. 2007. Т. 41. № 3. С. 368.

  7. Ждан А.Г., Нарышкина В.Г., Чучева Г.В. // ФТП. 2009. Т. 43. № 5. С. 705.

  8. Гольдман Е.И., Набиев А., Нарышкина В.Г., Чучева Г.В. // ФТП. 2019. Т. 53. № 1. С. 89.

  9. Гольдман Е.И., Ждан А.Г., Чучева Г.В. // ПТЭ. 1997. № 6. С. 110.

  10. Криомагнитная безжидкостная система с индукцией 8 Тл. М.: РТИ, технологии, приборы, материалы, 2012.

  11. Hino T., Yamashita K. // J. Appl. Phys. 1979. V. 50. № 7. P. 4879.

  12. Di Maria D.J. // J. Appl. Phys. 1981. V. 52. № 12. P. 7251.

  13. Goldman E.I., Zhdan A.G., Chucheva G.V. // J. Appl. Phys. 2001. V. 89. № 1. P. 130.

  14. Добровольский В.Н., Литовченко В.Г. Перенос электронов и дырок у поверхности полупроводников. Киев: Наукова думка, 1985.

  15. Ансельм А.И. Введение в теорию полупроводников. М.: Наука, 1978. С. 513.

  16. Гергель В.А., Сурис Р.А. // Письма в ЖЭТФ. 1978. Т. 75. № 1. С. 191.

Дополнительные материалы отсутствуют.