1. На главную
  2. Электронные версии
  3. Радиотехника и электроника
  4. T. 68, № 11, 2023

Радиотехника и электроника, 2023, T. 68, № 11, стр. 1117-1121

Получение пленок оксида кремния методом импульсного магнетронного осаждения с горячей мишенью в реакционной среде

В. Ю. Лисенков a, М. М. Харьков a, Д. В. Колодко a, b, c, А. В. Тумаркин a, А. В. Казиев a, *

a Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
115409 Москва, Каширское шоссе, 31, Российская Федерация

b Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
141190 Фрязино, Московской обл., пл. Введенского, 1, Российская Федерация

c Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
119991 Москва, Ленинский просп., 53, Российская Федерация

* E-mail: kaziev@plasma.mephi.ru

Поступила в редакцию 26.04.2023
После доработки 26.04.2023
Принята к публикации 30.04.2023

Аннотация

Исследованы режимы существования импульсного магнетронного разряда с горячей теплоизолированной кремниевой мишенью при работе в газовой смеси, содержащей кислород (Ar + O2). Рассмотрен диапазон средней плотности мощности на мишени 60…120 Вт/см2 при длительности импульсов 100…300 мкс и частоте повторения 0.5…2 кГц. Построены карты стабильных режимов работы распылительной системы. Получены и продиагностированы покрытия SixOy на подложках из монокристаллического кремния при различных значениях доли кислорода в газовом потоке и различных параметрах импульсного питания магнетрона.

Список литературы

  1. Strijckmans K., Schelfhout R., Depla D. // J. Appl. Phys. 2018. V. 124. № 24. P. 241101.

  2. Shapovalov V.I. // Materials (Basel). 2023. V. 16. № 8. P. 3258.

  3. Graillot-Vuillecot R., Thomann A.-L., Lecas T. et al. // Vacuum. 2022. V. 197. P. 110813.

  4. Chodun R., Dypa M., Wicher B. et al. // Appl. Surf. Sci. 2022. V. 574. P. 151597.

  5. Reed M.L., Fedder G.K. Handbook of Sensors and Actuators. N.Y.: Springer, 1998.

  6. Pierce A.L., Sommakia S., Rickus J.L., Otto K.J. // J. Neurosci. Methods. 2009. V. 180. № 1. P. 106.

  7. Cui L., Ranade A.N., Matos M.A. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2012. V. 4. № 12. P. 6587.

  8. Prevo B.G., Hwang Y., Velev O.D. // Chem. Mater. 2005. V. 17. № 14. P. 3642.

  9. Long L., Yang Y., Wang L. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 2019. V. 197. P. 19.

  10. Steenbeck K. // Thin Solid Films. 1985. V. 123. № 3. P. 239.

  11. Chau R.Y., Ho W-S, Wolfe J.C., Licon D.L. et al. // Thin Solid Films. 1996. V. 287. № 1–2. P. 57.

  12. Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.

  13. Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.

  14. Kaziev A.V., Kolodko D.V., Sergeev N.S. // Plasma Sources Sci. Technol. 2021. V. 30. № 5. P. 055002.

Дополнительные материалы отсутствуют.

Инструменты

следующая статья выпуска предыдущая статья выпуска содержание выпуска

Радиотехника и электроника

Архивы выпусков Информация о журнале Отправить рукопись в журнал