1. На главную
  2. Электронные версии
  3. Химия высоких энергий
  4. T. 57, № 2, 2023

Химия высоких энергий, 2023, T. 57, № 2, стр. 120-124

К вопросу о получении гидрофобных покрытий при поликонденсации фторалкилалкоксисиланов

В. А. Бендерский a, И. П. Ким a, *, Н. Н. Дремова a

a Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии Российской академии наук
142432 Московская обл., Черноголовка, просп. акад. Семенова, 1, Россия

* E-mail: ipkim@icp.ac.ru

Поступила в редакцию 14.09.2022
После доработки 08.11.2022
Принята к публикации 08.11.2022

Аннотация

Для получения гидрофобных покрытий показана целесообразность применения фторалкил-алкоксисиланов (ФАС) с более длинной фторалкильной цепью, чем ФАС-19, чтобы мольное отношение F/Si превышало 5–6. Предложено направленно изменять не только длину цепи олигомеров, но и структуру растворов от разбавленных коллоидных растворов до структурированных гелей, регулируя при этом отношение F/Si. При поликонденсации исследованных ФАС на гидроксилированной поверхности образуется прочный силиконовый каркас, химически связанный с поверхностью и перпендикулярно ориентированными к ней фторалкильными цепями.

Ключевые слова: фторалкилалкоксисиланы, гидролиз, поликонденсация, мольное отношение F/Si, гидрофобность

Список литературы

  1. Lichao Gao and Thomas J. McCarthy // Langmuir. 2007. V. 23. № 18. P. 9125–9127.

  2. Lichao Gao and Thomas J. McCarthy // J. AM. CHEM. SOC. 2006. V. 128. P. 9052–9053.

  3. Scott T. Iacono, Ashwani Vij, Wade Grabow, Dennis W. Smith, Jr. and Joseph M. Mabry // Chem. Commun. 2007. P. 4992–4994.

  4. Joseph M. Mabry, Ashwani Vij, Scott T. Iacono, Brent D. Viers // Angew. Chem. Int. Ed. 2008. V. 47. P. 4137–4140.

  5. Herzog A.H.-J., Brown G.O. Пaтeнт WO2009073595A1 Du Pont 11/06/2009 – Fluoroalkyl silanes.

  6. Issa A.A., Luyt A.S. // Popymers. 2019. V. 11. № 537.3.

  7. Brinker C.J., Scherer G.W. // Sol-Gel Science. 1990. Academic Press. Boston.

  8. Guo J., Liang H.,Wang Z-G. // J. Chem. Phys. 2011. V. 134. № 244904.

  9. Hongxia Wang, Jian Fang, Tong Cheng, Jie Ding, Liangti Qu, Liming Dai, Xungai Wang Tong Lin // Chem. Commun. 2008. P. 877–879.

  10. Hongxia Wang, Jie Ding, Yuhua Xue, Xungai Wang, Tong Lin // J. Mater. Res. V. 25. № 7. Jul. 2010.

  11. Jin-long Song, Wen-ji Xu, Xin Liu, Yao Lu, Jing Sun // Appl Phys A (2012) 108:559–568.

  12. Ким И.П., Мартыненко В.М., Черняк А.В., Шестаков А.Ф., Бендерский В.А. // Химия высоких энергий. 2019.Т. 53. № 2. С. 87–94.

  13. Ким И.П., Мартыненко В.М., Черняк А.В., Бендерский В.А. // Химия высоких энергий. 2017. Т. 51. № 4. С. 300–306.

  14. Fadeev A.Y., Eroshenko V.A. // J. Colloid Interface Sci.1997. V. 127. P. 275.

  15. Wang H., Fang J.,Cheng T., Ding J., Qu l., Dai L., Wang X., Ling T. // Chem. Commun. 2008. P. 877.

  16. Clark E.S. // Polymer. 1999. V. 40. P. 4659.

  17. Quere D.// Reports Progress. Phys. 2005. V. 68. P. 2495.

  18. Ким И.П., Костин А.Ю., Дремова Н.Н., Бендерский В.А. // Химия высоких энергий. 2017. Т. 51. № 5 С. 414–420.

Дополнительные материалы отсутствуют.

Инструменты

следующая статья выпуска предыдущая статья выпуска содержание выпуска

Химия высоких энергий

Архивы выпусков Информация о журнале Отправить рукопись в журнал