Микроэлектроника
Содержание
Том 51, Номер 6, 2022
ДИАГНОСТИКА
- Спектральный контроль процесса травления меди в высокочастотной плазме дифтордихлорметана
Д. Б. Мурин, С. А. Пивоваренок, А. В. Дунаев, И. А. Чесноков, И. А. Гогулев - 403-411
КВАНТОВЫЕ СЕНСОРЫ
- Схема детектирования электрона с помощью туннельной структуры из четырех квантовых точек с асимметрией параметров
А. В. Цуканов - 412-422
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРИБОРОВ
- Методика итерационного уточнения значений параметров в аналитических моделях микроэлектронных устройств на основе интегральных моп-транзисторов
А. С. Синюкин, А. В. Ковалев - 423-428
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ
- Моделирование адсорбции золота на поверхность дефектного графена
М. М. Асадов, С. О. Маммадова, С. С. Гусейнова, С. Н. Мустафаева, В. Ф. Лукичев - 429-442
- Влияние решеточных дефектов на электромиграционную неустойчивость границы соединенных проводящих материалов
Т. М. Махвиладзе, М. Е. Сарычев - 443-451
ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
- Лазерное плазмохимическое травление поликристаллического алмаза и монокристаллического сапфира
С. В. Редькин, П. П. Мальцев, В. С. Кондратенко, Н. А. Юзеева - 452-456
ПРИБОРЫ
- Компьютерный анализ резистивных переключений в структуре на основе микрокристалла селенида висмута
В. В. Сироткин, А. В. Зотов, В. А. Тулин - 457-465
- Магнитооптические свойства многослойных структур на основе кобальта и металлов группы хрома для разработки элементов магнитной памяти
А. В. Проказников, В. А. Папорков, Р. В. Селюков, С. В. Васильев, О. В. Савенко - 466-477
ТЕХНОЛОГИЯ
- Диэлектрический барьер в субтрактивном процессе формирования системы медной металлизации
А. А. Орлов, А. А. Резванов, В. А. Гвоздев, Г. А. Орлов, Д. С. Серегин, П. И. Кузнецов, Т. Блумберг, А. А. Веселов, Т. Сузуки, Е. Н. Морозов, К. А. Воротилов - 478-487
- Влияние ионно-плазменной обработки на фазовый состав и электросопротивление пленок вольфрама нанометровой толщины
Р. В. Селюков, И. И. Амиров, В. В. Наумов - 488-496
- О влиянии состава смеси Cl2 + O2 + Ar на концентрации атомов хлора и кислорода в плазме
И. И. Амиров, М. О. Изюмов, А. М. Ефремов - 497-504
- Особенности кинетики гетерогенных процессов при травлении кремния в плазме CF4 и C2Br2F4
А. В. Мяконьких, В. О. Кузьменко, А. М. Ефремов, К. В. Руденко - 505-512
Информация о выпуске
- Всего статей12
- Страницы403-512
Микроэлектроника