1. На главную
  2. Электронные версии
  3. Микроэлектроника
  4. T. 52, № 6, 2023

Микроэлектроника, 2023, T. 52, № 6, стр. 443-448

Зондовая и спектральная диагностика плазмы газовой среды: BCl3–Cl2

Д. Б. Мурин 1, *, И. А. Чесноков 1, И. А. Гогулев 1, А. Э. Гришков 1

1 Ивановский государственный химико-технологический университет
Иваново, Россия

* E-mail: dim86@mail.ru

Поступила в редакцию 25.04.2023
После доработки 10.07.2023
Принята к публикации 10.07.2023

Аннотация

Проведены зондовые и спектральные измерения плазмы газовой среды BCl3–Cl2. Получены данные по влиянию начального состава газовой среды на напряженность электрического поля, температуру газа, концентрацию частиц, приведенную напряженности электрического поля в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Проанализированы спектры излучения плазмы газовой среды BCl3–Cl2, идентифицированы основные излучающих компонентов и установлены взаимосвязи между интенсивностями излучения и концентрациями частиц.

Ключевые слова: трихлорид бора, хлор, газовая среда, приведенная напряженность электрического поля, температура газа, удельная мощность, интенсивность излучения, концентрации частиц

Список литературы

  1. Roosmalen A.J., Baggerman J.A.G., Brader S.J.H. Dry etching for VLSI. N. Y.: Plenum Press. 1991. 457 p.

  2. Rooth J.R. Industrial plasma engineering. Philadelphia: IOP Publishing LTD. 1995. V. 1. 545 p.

  3. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в смесях HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Микроэлектроника. 2015. Т. 44. № 5. С. 338–345.

  4. Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.

  5. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. Изд. 2-е; перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. С. 720.

  6. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106–114.

  7. Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth edition. New York: John Wiley & Sons, inc. 1976. P. 407.

  8. Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. С. 899.

  9. Дунаев А.В., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры и концентрации активных частиц в плазме смесей HCl c инертными и молекулярными газами // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 5. С. 363.

  10. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2015. Т. 58. № 4. С. 14–18.

  11. Ефремов А.М., Пивоваренок С.А., Светцов В.И. Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в хлороводороде // Микроэлектроника. 2009. Т. 38. № 3. С. 163–175.

  12. Ситанов Д.В., Ефремов А.М., Светцов В.И. Параметры плазмы и кинетика образования и гибели а-тивных частиц в разряде в хлоре // ТВТ. 2008. Т. 46. № 1. С. 15–22.

Дополнительные материалы отсутствуют.

Инструменты

следующая статья выпуска содержание выпуска

Микроэлектроника

Архивы выпусков Информация о журнале Отправить рукопись в журнал