Известия РАН. Серия физическая, 2020, T. 84, № 6, стр. 851-856

Модель генерации электронных возбуждений в кристалле в актах химического взаимодействия атомов водорода на поверхности полупроводника

Д. В. Гранкин 1, А. И. Бажин 2, В. П. Гранкин 1*

1 Приазовский государственный технический университет
Мариуполь, Украина

2 Харьковский национальный университет
Харьков, Украина

* E-mail: victor.grankin@gmail.com

Поступила в редакцию 09.01.2020
После доработки 07.02.2020
Принята к публикации 26.02.2020

Полный текст (PDF)

Аннотация

Представлены теоретические исследования явления генерации неравновесных электронов в полупроводниковых структурах под действием гетерогенной химической реакции рекомбинации атомов водорода. Найдена теоретически возможная эффективность преобразования химической энергии в электрическую с помощью полупроводниковых гетероструктур. Описан микромеханизм генерации хемотока в приближении многоквантового колебательно-электронного перехода.

ВВЕДЕНИЕ

Процессы рассеяния энергии на поверхности в момент времени, когда только происходит акт образования возбужденного продукта в экзотермической каталитической реакции, является неотъемлемой частью физики и химии поверхности [1]. Экзотермическая химическая реакция, как и падение фотонов на поверхность, может приводить к электронному возбуждению кристалла [2]. Для металлов создание электронно-дырочных (ep+) пар под действием химической реакции предсказано теоретически [3], а затем экспериментально зарегистрировано с помощью диода Шоттки [2] и появилась идея создания генераторов тока с прямым преобразованием химической энергии в электрическую. Аккомодация энергии химической реакции по электронному каналу раньше, чем в металлах, была обнаружена в полупроводниках и диэлектриках. Об этом свидетельствуют явления гетерогенной хемилюминесценции (ГХЛ) [4] и хемоэлектрические эффекты под действием реакции [5].

В работе [6] был обнаружен эффект увеличения на несколько порядков величины вероятности аккомодации энергии гетерогенной химической реакции по электронному каналу за счет облучения образца УФ светом (системы: атомарный водород – ZnS; ZnS, CdS–Ag). Это связано с эффективной передачей энергии реакции электронам на электронных ловушках, которые заселяются за счет УФ облучения [6]. В работе [7] предложен метод определения и установлена зависимость константы скорости аккомодации энергии реакции по электронному каналу от энергии электронного перехода в твердом теле. Это дает основу для расчета эффективности неадиабатического хемоэлектронного преобразования энергии в структурах для водородной энергетики на основе диода Шоттки и полупроводниковых гетероструктур.

Однако выход ГХЛ и хемотока в диодах Шоттки для известных систем газ–поверхность мал и лежит в интервале 10–2–10–6 [2, 4]. Поэтому диоды Шоттки и полупроводниковые гетероструктуры не рассматриваются, как возможные генераторы хемотока и работы по отысканию таких систем с высоким выходом электронных возбуждения не проводятся. Это связано также с тем, что считается, что основным каналом аккомодации энергии химической реакции на полупроводниках является фононный канал. Имеются лишь единичные исследования по определению вероятности электронного возбуждения полупроводника энергией реакции от энергии электронного перехода в кристалле [7]. С этим связано, что неизвестны функции распределения неравновесных электронов по энергиям в кристалле и функциональные зависимости выхода хемотока, не построен механизм возбуждения хемотока.

Вместе с тем для описания ГХЛ разработан многоквантовый колебательно-электронный механизм [8] в рамках которого, по-видимому, можно попытаться описать хемоток, что являлось одной из задач исследования, так как оба явления связаны с электронным возбуждением полупроводника за счет химической реакции. Кроме этого, целью работы было: определение вероятности аккомодации энергии химической реакции по электронному каналу от энергии электронного перехода в твердом теле и теоретически возможного предельного выхода неадиабатического хемоэлектронного преобразования энергии в полупроводниковых гетероструктурах.

РЕЗУЛЬТАТЫ И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ

Электронное возбуждение кристалла возникает при протекании на его поверхности большого числа экзотермических химических реакций Вследствие сложности, которая присуща большинству химических реакций Г. Нинхаус предложил в качестве модельного процесса для изучения электронной хемогенерации использовать моноатомные газы (водород) [2].

Энергия, выделившаяся в реакции водорода на поверхности, может рассеиваться неадиабатически, приводя к прямому возбуждению ep+ пар. На рис. 1 представлена энергетическая диаграмма создания ep+ пары в реакции адсорбции и рекомбинации атомов Н и химически индуцированного тока в структуре катализатор реакции полупроводник p-типа–полупроводник n-типа.

Рис. 1.

Механизм генерации хемотока в полупроводниковой гетероструктуре. Eg – ширина запрещенной зоны, Ef – уровень Ферми, Ec – дно зоны проводимости, Ev – потолок валентной зоны.

Если толщина фронтального слоя полупроводника р-типа мала, меньше длины пробега электрона в нем, то созданные на поверхности в результате реакции неравновесные электроны в р-полупроводнике и находящиеся в непосредственной близости от области объемного заряда, увлекаются электрическим полем pn-перехода и попадают в n-область. Через рn-переход и внешний проводник будет течь ток (хемоток), обусловленный генерацией ep+ пар в p-области за счет химической реакции на поверхности.

Адсорбция и рекомбинация атомов водорода на поверхности приводит к возникновению высоковозбужденного продукта реакции, горячих атомов Н и колебательно-возбужденных молекул ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$, релаксация которых может сопровождаться электронным возбуждением поверхности [9]. Например, генерация хемотока в диодах Шоттки с фронтальной поверхностью Pt, Pd, происходит за счет энергии адсорбции атомов Н [2], а в диодах Ta–TaOx–Au за счет рекомбинации атомов Н на поверхности Au [10]. На неметаллах за электронное возбуждение кристаллов в основном отвечает реакция рекомбинации атомов Н [11] (хотя в некоторых случаях возможно электронное возбуждение и в актах адсорбции атомов Н [9]). О том, что релаксация колебательно-возбужденных молекул сопровождается электронным возбуждением кристалла, свидетельствует эмиссия электронов с поверхности α-Al2O3 при воздействии пучка молекул ${\text{H}}_{2}^{\nu }$ [12] и обнаружение “горячих” электронов, покидающих металлическую поверхность, когда колебательно-возбужденные молекулы NO сталкиваются с поверхностью Cs. При этом, эмиссия e происходит только тогда, когда колебательная энергия превышает работу выхода электронов с поверхности [13]. Это говорит о том, что горячая молекула H2 может эффективно передавать энергию колебаний электронной подсистеме материала. С учетом этого, кинетическая модель, которая описывает возбуждение ep+ пар в полупроводнике в результате взаимодействия атомарного водорода с поверхностью, имеет вид:

${\text{H}} + {\text{L}}\xrightarrow{{{{\nu }_{1}}}}{\text{HL}},$

Здесь HL – адсорбированный атом водорода, L – свободный от адсорбированных частиц центр поверхности катализатора, е(Еi) – возбужденный за счет реакции электрон в зоне проводимости р‑полупроводника с энергией Еi относительно потолка валентной зоны, ph – генерируемый за счет реакции фонон в твердом теле, p+ – дырка в валентной зоне, Рi – вероятность генерации электрона с энергией Еi в расчете на элементарный акт (на одно колебание ядер в ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$) в результате передачи колебательной энергии от ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ электронным состояниям в кристалле. Над стрелками обозначены: ν1, ν2 – вероятности адсорбции и рекомбинации атомов Н на катализаторе, соответственно, Г1 – вероятность релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ по фононному каналу в расчете на элементарный акт, m – среднее число потенциально возможных актов релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ в результате колебательно-электронного обмена за время жизни ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ на поверхности.

Введем обозначения: [HL] → N1, [L] → N, [${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$] → $N_{2}^{\nu }$, е(Еi) → ni . Из кинетической модели:

(1)
$\begin{gathered} {{n}_{1}} = m{{P}_{1}}{{\nu }_{2}}{{N}_{1}} \hfill \\ ................................. \hfill \\ {{n}_{i}} = m{{P}_{i}}{{\nu }_{2}}{{N}_{1}} \hfill \\ \underline {ccccccccccccccccccc} \hfill \\ n = \sum {{{n}_{i}}} = mP{{\nu }_{2}}{{N}_{1}}, \hfill \\ \end{gathered} $
где величина ni – число электронов c энергией Ei, генерируемых в зону проводимости за счет реакции на 1 см2 поверхности за 1 секунду, n – общее число неравновесных электронов, генерируемых за счет реакции на 1 см2 поверхности за 1 секунду. В (1) учтено, что $\sum\nolimits_{i = 1}^n {{{P}_{i}}} = P$. Из (1) величина Pi = = ni/mω, где ω = ν2N1 – скорость реакции на поверхности. Вследствие того, что энергетические уровни в зоне проводимости расположены квазинепрерывно, рассчитанная на элементарный акт релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ вероятность dP генерации электрона, который имеют энергию в интервале dE в окрестности значения энергии E, вычисляется по формуле dP = f(E)dE, где f(E) – функция распределения по энергиям электронов в полупроводнике, которые генерируются в зону проводимости в экзотермической химической реакции на поверхности. В работе [7] впервые экспериментально найден вид зависимости для вероятности генерации высокоэнергетических электронов в твердом теле энергией гетерогенной химической реакции (рекомбинации атомов водорода):

(2)
$~f\left( E \right) = A{\text{exp}}({{--E} \mathord{\left/ {\vphantom {{--E} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}})~$

и найдена величина Θchar для этих систем: Θchar = = 0.173 эВ. Здесь E – энергия перехода электрона в полупроводнике, Θchar – характеристическая энергия реакции, A – предэкспоненциальный множитель. Предэкспоненциальный множитель найдем из условия, что вероятность релаксации возбужденного продукта реакции на элементарный акт на поверхности узкозонного полупроводника с Eg → 0 близка к 1, как на металлах [14]. Из условия нормировки и с учетом экспериментальной зависимости (2) имеем:

$\begin{gathered} P({{E}_{g}} \to 0) = \int {dP = \int\limits_0^\infty {f{\text{(}}E{\text{)}}dE} } = \\ = \int\limits_0^\infty {A \cdot \exp \left( { - {E \mathord{\left/ {\vphantom {E {{{{\Theta }}_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{{\Theta }}_{{char}}}}}} \right)dE = 1} . \\ \end{gathered} $

Отсюда предэкспоненциальный множитель A = = ${1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}}$ и функция f(E) распределения по энергиям неравновесных электронов, генерируемых за счет реакции в полупроводнике, имеет вид:

(3)
$f{\text{(}}E{\text{)}} = \frac{1}{{{{{\Theta }}_{{char}}}}}{\text{exp}}\left( { - {E \mathord{\left/ {\vphantom {E {{{{\Theta }}_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{{\Theta }}_{{char}}}}}} \right).$

Тогда вероятность на элементарный акт релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ по электронному каналу равна:

(4)
$P{\text{(}}E \geqslant {{E}_{g}}{\text{)}} = \int\limits_{{{E}_{g}}}^\infty {f{\text{(}}E{\text{)}}dE} = {\text{exp}}({{ - {{E}_{g}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{ - {{E}_{g}}} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}}).$

Из кинетической модели и с учетом выражения (4) выход хемотока α (выход высокоэнергетических электронов с EEg и образующих ток в цепи) равен:

(5)
$\alpha = {{mP} \mathord{\left/ {\vphantom {{mP} {(mP + m{{\Gamma }_{1}})}}} \right. \kern-0em} {(mP + m{{\Gamma }_{1}})}} = \frac{{m\exp ({{ - {{E}_{g}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{ - {{E}_{g}}} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}})}}{{m\exp ({{ - {{E}_{g}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{ - {{E}_{g}}} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}}) + m{{\Gamma }_{1}}}}.$

Рассмотрим два предельных случая. Пусть вероятность релаксации колебательно-возбужденного продукта реакции по фононному каналу Г1 много больше вероятности релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ по электронному каналу (Г1 $~ \gg $ Р). Тогда, с учетом того, что mP + mΓ1 = 1, выход хемотока

(6)
$\alpha = mP = m \cdot exp\left( { - {{{{E}_{g}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{{{E}_{g}}} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right),$

описывается экспоненциальной зависимостью и быстро убывает с увеличением Eg. Величина α тем больше, чем больше значение Θchar (рис. 2). Например, при Eg = 1.0 эВ и Θchar = 0.173 эВ значение α/m = 2.7 ⋅ 10–3, а при Eg = 1.0 эВ, но Θchar = 0.1 эВ, величина α/m = 3.7 ⋅ 10–5, т.е. почти на 2 порядка величины меньше.

Рис. 2.

Зависимость приведенной величины выхода хемотока α/m (расчет) от ширины запрещенной зоны полупроводника при различных значениях характеристической энергии реакции Θchar: 1 – 0.1 эВ; 2 – 0.14 эВ; 3 – 0.173 эВ; 4 – 0.21 эВ; 5 – 0.26 эВ.

В случае если Г1 $~ \ll $ Р, т.е. когда неэффективен фононный канал аккомодации энергии реакции, то из (5) α $ \approx $ 1 и каждый акт реакционного взаимодействия должен приводить к генерации ep+ пары, независимо от ширины запрещенной зоны, так как в этом случае релаксация ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ возможна только по электронному каналу. То есть для полупроводников с малыми Г1 выход хемотока должен значительно превышать α хемогенераторов на диоде Шоттки, где в основном генерируются горячие электроны с энергией меньше высоты барьера Шоттки. Этим, очевидно, объясняется то, что выход электронных возбуждений на акт химического взаимодействия в узкозонных полупроводниках выше, чем выход хемотока в диодах Шоттки. Например, в системе H–Ge он равен 0.3 [5], тогда как α для диодов Шоттки c φ = 1–1.5 эВ 10–5–10–3 [2]. Это указывает на перспективность разработки хемогенераторов тока с прямым преобразованием химической энергии в электрическую на полупроводниковых структурах, по сравнению с диодами Шоттки.

В соответствии с экспериментальными результатами для системы H–Ge [5] и выражением (5)  = 0.3, mГ1 = 0.7. То есть релаксация возбужденного продукта реакции на Ge происходит как по электронному, так и по фононному каналу. С учетом (4) для системы H–Ge среднее число возможных попыток (m-фактор) релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ в результате колебательно-электронного обмена за время жизни ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ на поверхности равно:

(7)
$m = {{0.3} \mathord{\left/ {\vphantom {{0.3} {\exp }}} \right. \kern-0em} {\exp }}({{ - {{E}_{g}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{ - {{E}_{g}}} {{{\Theta }_{{char}}}}}} \right. \kern-0em} {{{\Theta }_{{char}}}}}).$

Сделаем оценку m. Для германия Eg = 0.665 эВ, величину Θchar = 0.173 эВ возьмем, как для системы Н–ZnS, CdS–Ag; Н–ZnS. Тогда из (7) m = 14. Таким образом время жизни колебательно-возбужденной молекулы ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ на поверхности Ge достаточно велико, и она совершает около десятка колебаний до ее релаксации. Это связано с тем, что при большой теплоте реакции (порядка 1 эВ) и обычных температурах Дебая твердых тел освобождающаяся в акте реакции энергия велика по сравнению с энергией даже наиболее высокочастотных фононов (порядка 10–2 эВ), так что размен теплоты реакции на фононы весьма затруднен. На поверхности в этом случае образуется долгоживущее (в масштабе времен жизни однофононных возбуждений) неравновесное колебательное состояние с временем жизни τV$ \gg $ 10–13 c. Большой продолжительности жизни ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ кроме его “высокочастотности” способствует простота структуры продукта реакции, поскольку малое число внутренних степеней свободы в ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ затрудняет “внутреннее” возбуждение продукта. Последний обладает латеральной мобильностью и диффундирует вдоль поверхности до потери колебательно-возбужденным продуктом реакции избытка энергии [9, 14]. Таким образом, при условии, что Θchar = 0.173 эВ, то электронный канал аккомодации энергии реакции атомов Н будет преимущественным на полупроводнике с Eg≤ 0.5 эВ и m ≥ 15. В свою очередь последнее возможно для полупроводников с малой Г1.

ЭЛЕМЕНТАРНЫЙ МЕХАНИЗМ ГЕНЕРАЦИИ НЕРАВНОВЕСНЫХ ЭЛЕКТРОНОВ И ХЕМОТОКА В ПОЛУПРОВОДНИКАХ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ХИМИЧЕСКОЙ РЕАКЦИИ

Источником энергии, стимулирующим электронное возбуждение полупроводника, служит процесс образования новых связей при захвате атомных частиц поверхностью – адсорбции и рекомбинации атомов Н. Для водорода эта энергия вначале сосредоточена на вновь образованной химической связи и имеет форму высоковозбужденного колебательного движения ядер (${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$). Возникающее при движении ядер электронно-колебательное взаимодействие может инициировать неадиабатические электронные переходы [12].

В работе [8] для описания электронных процессов в полупроводниках и диэлектриках, возникающих за счет гетерогенной реакции на поверхности, предложен механизм многоквантового колебательно-электронного перехода. При колебательном возбуждении во вновь образованной химической связи значительно возрастает ангармонизм колебаний и дипольный (квадрупольный) момент связи. Находящиеся в статической области колебательно-возбужденного диполя электроны кристалла способны перейти в возбужденное состояние за счет преобразования энергии нескольких колебательных квантов в энергию электронных возбуждений. Такой переход возможен в первом порядке разложения зависимости дипольного момента возбужденной связи от межъядерных координат при учете ангармонизма колебаний. По данному механизму [8], вероятность возбуждения электрона с энергией Е в полупроводнике при релаксации ${\text{H}}_{2}^{\nu }{\text{L}}$ равна:

(8)
$P{\text{(}}E{\text{)}} = B \cdot {\text{exp}}\left( { - {{Ep} \mathord{\left/ {\vphantom {{Ep} {\hbar {{{\omega }}_{0}}}}} \right. \kern-0em} {\hbar {{{\omega }}_{0}}}}} \right),$
где B – предэкспоненциальный множитель, который слабо зависит от энергии Е электронного перехода в твердом теле, ħω0 = 0.545 эВ – энергия колебательного кванта Н2 на первом колебательном уровне, p – ангармонический фактор, который вычисляется по формуле [8]:
(9)
$p = \frac{{x\ln x}}{{x - 1}},\,\,\,\,x = \frac{{4q + \hbar {{{\omega }}_{0}}}}{{{{{\varepsilon }}_{{mn}}} + \hbar {{{\omega }}_{0}}}}.$
Здесь q – энергия связи атомов в молекуле, εmn – энергия чисто колебательного перехода. Из сравнения выражений (8) и (4) видно, что

(10)
${{{\Theta }}_{{char}}} = {{\hbar {{{\omega }}_{0}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{\hbar {{{\omega }}_{0}}} p}} \right. \kern-0em} p}.$

Тогда функция распределения электронов по энергиям, генерируемых в полупроводнике химической реакцией, в соответствие с (3), равна

(11)
$f{\text{(}}E{\text{)}} = \frac{p}{{\hbar {{\omega }_{0}}}}exp\left( { - {{Ep} \mathord{\left/ {\vphantom {{Ep} {\hbar {{\omega }_{0}}}}} \right. \kern-0em} {\hbar {{\omega }_{0}}}}} \right).$

Выход хемотока, в соответствие с (5), равен:

(12)
$\alpha = m \cdot exp\left( {{{ - {{E}_{g}}p} \mathord{\left/ {\vphantom {{ - {{E}_{g}}p} {\hbar {{\omega }_{0}}}}} \right. \kern-0em} {\hbar {{\omega }_{0}}}}} \right).$

В данном приближении величина α должна зависеть как от параметров твердого тела, реагирующего газа, так и механизмов реакции. Сделаем оценку α для системы H–Ge, используя выражение (12). Для этой системы Eg = 0.665 эВ, ħω0 = = 0.545 эВ, q = 4.48 эВ (энергия связи атомов в H2). Из (9) при ${{\varepsilon }_{{mn}}} = 0.7$ эВ х = 14.8 и р = 2.9. Подставив эти значения в (12), имеем αtheor = mtheor ⋅ 2.9 ⋅ 10–2. Значение αtheor, будет равно α, найденному из выражения (5) и экспериментальных данных для системы H–Ge, при mtheor = 10.3, т.е. αtheor отличается от α менее чем в 1.5 раза. Данное различие можно считать незначительным, т.к. Θchar в расчетах бралась как для системы Н–ZnS, CdS–Ag; Н–ZnS. Кроме того, если за электронное возбуждение отвечает, например реакция адсорбции атомов Н на Ge, сопровождающаяся образованием горячих атомов, то Θchar этой реакции будет иной.

Полученные результаты показывают, что вероятность электронного возбуждения полупроводника энергией реакции будет больше, по сравнению с металлом, т.к. невозможна релаксация возбужденных продуктов реакции за счет генерации электронов с энергией меньше Eg и лишь их релаксация по фононному каналу ограничивает число переходов зона–зона в полупроводнике. Этим, очевидно, объясняется то, что выход электронных возбуждений в полупроводниках [5] выше, чем α в диодах Шоттки.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Обнаруженные в последнее время явления, такие как хемоэлектрические эффекты в полупроводниках [5], генерация хемотока в диодах Шоттки [2] свидетельствуют о том, что электронная подсистема в кристалле является полноправным участником релаксационных процессов в системе газ – поверхность и указывают на потенциальную возможность преобразования химической энергии в электрическую с помощью гетероструктур. Найденная зависимость функции распределения по энергиям электронов, генерируемых в полупроводнике за счет химической реакции на поверхности, позволяет рассчитать возможную вероятность электронного возбуждения полупроводника энергией реакции (если известны Г1, Θchar, m, Eg или m, Eg, ħω0, р для рассматриваемой системы газ-поверхность), которая при определенных параметрах системы может стремиться к 1. Полученные результаты свидетельствуют о возможности использования полупроводниковых гетероструктур для построения устройств для прямого преобразования энергии химической реакции в электрическую (например, как генераторов тока для водородной энергетики). Для этого необходимо обязательное выполнение двух основных требований: полупроводник фронтальной поверхности гетероструктуры должен иметь малые значения Г1 и являться катализатором реакции окисления водорода. Другие условия: узкозонные полупроводники, возбужденные продукты реакции на поверхности имеют высокие локальные частоты колебаний, сильный ангармонизм колебаний.

Список литературы

  1. Park J.Y., Baker L.R., Somorjai G.A. // Chem. Phys. 2015. V. 115. P. 278.

  2. Nienhaus H. // Surf. Sci. Rep. 2002. V. 45. P. 3.

  3. Bruko R., Newus D.M. // J. Phys. C. 1981. V. 14. Art. № 30065.

  4. Волькенштейн Ф.Ф., Горбань А.Н., Соколов В.А. РРЛ полупроводников. М.: Наука, 1976. 278 с.

  5. Тюрин Ю.И., Кабанский А.Е., Стыров В.В. // Теор. экспер. химия. 1984. Т. 20. № 6. С. 682; Tyurin Yu.I., Kabanskii A.E., Styrov V.V. // Theor. Exper. Chem. 1985. V. 20. № 6. P. 639.

  6. Гранкин В.П. // Кин. катализ. 1996. Т. 37. С. 863; Grankin V.P. // Kinet. Catal. 1996. V. 37. P. 802.

  7. Гранкин В.П., Гранкин Д.В. // ЖФХ. 2016. Т. 90. С. 950; Grankin V.P., Grankin D.V. // Russ. J. Phys. Chem. 2016. V. 90. P. 1280.

  8. Tyurin Yu.I., Nikitenkov N.N., Sigfusson I.T. et al. // Int. J. Hydrog. Energy. 2017. V. 42. Art. № 12448.

  9. Grankin D.V., Grankin V.P., Styrov V.V. et al. // Chem. Phys. Let. 2016. V. 647. P. 145.

  10. Schindler B., Diesing D., Hasselbrink E. // J. Chem. Phys. 2011. V. 134. Art. № 034705.

  11. Стыров В.В., Тюрин Ю.И. Неравновесные хемоэффекты на поверхности твердых тел. М.: Энергоатомиздат, 2003. 507 с.

  12. Гранкин В.П., Савинков Н.А., Стыров В.В. и др. // ЖЭТФ. 1990. Т. 98. С. 226; Grankin V.P., Savinkov N.A., Styrov V.V. et al. // Sov. Phys. JETP. 1990. № 71. P. 125.

  13. White J.D., Chen J., Matsiev D. et al. // Nature. 2005. V. 433. P. 503.

  14. Novko D., Blanco-Rey M., Juaristi J.I., Alducin M. // Phys. Rev. B. 2015. V. 92. Art. № 201411.

Дополнительные материалы отсутствуют.