Радиотехника и электроника, 2023, T. 68, № 10, стр. 1040-1042
Поток положительных ионов кислорода с высокой энергией из плазмы на подложку в импульсном магнетронном разряде с горячей мишенью
Д. В. Колодко a, b, c, *, А. В. Казиев b, Д. Г. Агейченков b, В. Ю. Лисенков b
a Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
141190 Фрязино, Московской обл., пл. Введенского, 1, Российская Федерация
b Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
115409 Москва, Каширское шос., 31, Российская Федерация
c Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
119991 Москва, Ленинский просп., 53, Российская Федерация
* E-mail: dobrynya_kol@mail.ru
Поступила в редакцию 17.05.2023
После доработки 17.05.2023
Принята к публикации 25.05.2023
- EDN: DPCDQT
- DOI: 10.31857/S0033849423100078
Полные тексты статей выпуска доступны в ознакомительном режиме только авторизованным пользователям.
Аннотация
Зарегистрирована группа высокоэнергетичных положительных ионов O+ в потоке из плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда с горячей мишенью в газовой смеси Ar/O2. Механизмом возникновения ускоренных ионов O+ может выступать конверсия ускоренных в катодном слое отрицательных ионов O– → O+ в процессах перезарядки или ионизации электронным ударом.
Полные тексты статей выпуска доступны в ознакомительном режиме только авторизованным пользователям.
Список литературы
Handbook of Thin Film Deposition / Eds K. Seshan, D. Schepis. 4th ed. Amsterdam: Elsevier, 2018.
Mattox D.M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing. Amsterdam: Elsevier, 2010.
Aghda S.K., Holzapfel D.M., Music D. et al. // Acta Mater. 2023. V. 250. P. 118864.
Greczynski G., Petrov I., Greene J.E. et al. // J. Vac. Sci. Technol. Amer. Vacuum Soc. 2019. V. 37. № 6. P. 060801.
Ellmer K., Welzel T. // J. Mater. Res. 2012. V. 27. № 5. P. 765.
Welzel T., Ellmer K. // Vak. Forsch. Prax. 2013. V. 25. № 2. P. 52.
Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.
Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.
Kolodko D.V., Ageychenkov D.G., Kaziev A.V. et al. // J. Instrum. 2019. V. 14. № 10. P. P10005.
Kolodko D.V., Kaziev A.V., Tumarkin A.V. // 8th Int. Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects. Tomsk. 2–8 Oct., 2022. Tomsk: TPU Publishing House, 2022. P. 1028.
Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Phys. Commun., 2019. V. 3. № 5. P. 055011.
Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Appl. Phys. 2019. V. 125. № 1. P. 013301.
Pokorný P., Bulíř J., Lančok J. et al. // Plasma Process. Polym. 2010. V. 7. № 11. P. 910.
Pokorný P., Musil J., Lančok J. et al. // Vacuum. 2017. V. 143. P. 438.
Hippler R., Denker C. // Plasma Sources Sci. Technol. 2019. V. 28. № 3. P. 035008.
Pokorný P., Mišina M., Bulíř J. et al. // Plasma Process. Polym. 2011. V. 8. № 5. P. 459.
Дополнительные материалы отсутствуют.
Инструменты
Радиотехника и электроника