Теплофизика высоких температур, 2019, T. 57, № 3, стр. 323-327

Теория высоковольтного тлеющего разряда с учетом термоэмиссии электронов

Т. М. Сапронова 1*, К. Н. Ульянов 1

1 Всероссийский электротехнический институт – филиал ФГУП “Российский федеральный ядерный центр – Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики им. Е.И. Забабахина”
Москва, Россия

* E-mail: sapron0109@mail.ru

Поступила в редакцию 14.03.2018
После доработки 17.12.2018
Принята к публикации 25.12.2018

Полный текст (PDF)

Аннотация

Развита кинетическая теория высоковольтного тлеющего разряда с учетом вторичной электронной эмиссии и термоэмиссии. Решено уравнение Пуассона в слое объемного заряда с учетом потока ионов, поступающих из плазмы в слой, ионизации газа в слое электронами, ионами и быстрыми атомами. На катоде имеет место потенциальное и кинетическое вырывание электронов с поверхности. Для различных значений отношения плотности тока термоэмиссии к плотности тока вторичной электронной эмиссии рассчитаны вольт-амперные характеристики, определены размеры слоя объемного заряда, получены распределения электрического поля в слое и другие характеристики разряда с комбинированной эмиссией. Показано, что термоэмиссия существенным образом влияет на параметры разряда.

ВВЕДЕНИЕ

Высоковольтный тлеющий разряд (ВТР) – это разновидность аномального тлеющего разряда в левой ветви кривой Пашена при напряжениях 10–150 кВ [13]. Разряд имеет растущую вольт-амперную характеристику (ВАХ). Плотность тока ВТР при U ≈ 100 кВ может достигать значения порядка 1 А/см2. Электроны выходят с катода за счет потенциального вырывания при нейтрализации на катоде положительных ионов, а также в результате кинетического вырывания при бомбардировке катода ионами и быстрыми атомами, которые образуются при перезарядке ионов в слое объемного заряда. К слою приложено все напряжение, поэтому электроны ускоряются в слое и образуют практически моноэнергетический пучок. Эффективный коэффициент вторичной электронной эмиссии в ВТР при U ≈ 30–150 кВ может достигать весьма высоких значений (10–20), поэтому ускорители электронов, в которых используется ВТР, имеют высокий КПД (порядка 0.90–0.95). Такие ускорители применяются при плавке тугоплавких металлов и сплавов. Максимальная мощность ускорителей с ВТР ограничивается предельно допустимой мощностью, которая выделяется на катоде за счет кинетической энергии быстрых ионов и атомов. Наличие термоэмиссионного тока позволяет уменьшить напряжение и значение ионного тока на катод, снизить тепловую нагрузку, и в этом случае можно повысить максимальную мощность ускорителя электронов.

В настоящей работе развита кинетическая теория ВТР. Решено уравнение Пуассона в слое с учетом потока ионов, поступающих из плазмы, ионизации газа в слое электронами, ионами и быстрыми атомами, образования потока быстрых атомов за счет перезарядки ионов. На катоде учитывалась термоэмиссия и вторичная электронная эмиссия под действием быстрых ионов и атомов. Для различных напряжений и плотностей тока рассчитаны значения размера слоя, эффективного коэффициента вторичной электронной эмиссии для ионов и быстрых атомов, распределения электрического поля, плотности потоков ионов и быстрых атомов. Рассчитаны также вольт-амперные характеристики такого типа разряда. Наличие термоэмиссии с катода снижает напряжение при той же плотности тока, позволяет регулировать тепловую нагрузку на катод и провести оптимизацию параметров электронного ускорителя.

МАТЕМАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ

Рассмотрим плоскую модель разряда, включающую слой объемного заряда размером x1 и плазмы размером L. Напряжение разряда φ1 приложено к слою, падением напряжения на плазме можно пренебречь. С границы плазмы в слой втекает ионный ток плотностью ji(0). Начало координат находится на границе плазмы и слоя, ось координат направлена к катоду. Электрическое поле E в слое определяется уравнением Пуассона

(1)
$\frac{{dE}}{{dx}} = 4\pi e({{N}_{i}} - {{N}_{e}}),\,\,\,\,E = - \frac{{d\varphi }}{{dx}}.$

Ионы в слое в электрическом поле движутся в режиме сильной подвижности [4], а электроны – в режиме свободного пролета. Тогда

(2)
${{N}_{i}} = \frac{{{{j}_{i}}}}{{e{{V}_{i}}}},\,\,\,\,{{V}_{i}} = {{\left( {\frac{{2eE}}{{\pi {{m}_{i}}{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}}}} \right)}^{{\frac{1}{2}}}},\,\,\,\,{{V}_{e}} = {{\left( {\frac{{2e\Delta \varphi }}{{{{m}_{e}}}}} \right)}^{{\frac{1}{2}}}}.$

Зависимость ji(x) определяется уравнением неразрывности для ионов, поскольку ионы в слое испытывают многочисленные перезарядки:

(3)
$\begin{gathered} \frac{d}{{dx}}{{N}_{i}}{{V}_{i}} = {{N}_{0}}\frac{{{{j}_{{eo}}}}}{e}\sigma _{{ea}}^{i}({{\varepsilon }_{e}}) + {{N}_{0}}{{N}_{i}}{{V}_{i}}\sigma _{{ia}}^{i} + \\ + \,\,{{N}_{0}}N_{a}^{*}V_{a}^{*}\sigma _{{aa}}^{i} + S_{{ea}}^{{i2}}. \\ \end{gathered} $

Первый член в правой части (3) описывает ионизацию газа плотностью N0 электронами, выходящими с катода, второй член – ионизацию ионами, третий член – ионизацию быстрыми атомами, образовавшимися в слое при перезарядках ионов (Vi = $V_{a}^{*}$), четвертый член описывает ионизацию газа вторичными электронами, рождающимися в слое. Граничное условие для (3) на катоде je0= jeT + jeγ, где jeT – плотность тока термоэмиссии, jeγ – плотность тока вторичной электронной эмиссии. На границе плазмы ji = ji(0). Запишем уравнения (1) и (3) в безразмерной форме. Введем безразмерные переменные $E = \tilde {E}E{\text{*}},$ $\varphi = \tilde {\varphi }{{\varphi }_{1}},$ $x = \tilde {x}{{x}_{1}},$ ${{y}_{2}} = {{e{{N}_{i}}{{V}_{i}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{e{{N}_{i}}{{V}_{i}}} {{{j}_{{e\gamma }}}}}} \right. \kern-0em} {{{j}_{{e\gamma }}}}},$ ${{y}_{3}} = {{eN_{a}^{*}V_{a}^{*}} \mathord{\left/ {\vphantom {{eN_{a}^{*}V_{a}^{*}} {{{j}_{{e\gamma }}}}}} \right. \kern-0em} {{{j}_{{e\gamma }}}}},$ где $E* = {{\left( {4\pi {{j}_{{e0}}}{{\varphi }_{1}}} \right)}^{{\frac{1}{2}}}}{{\left( {{{2e{{\varphi }_{1}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{2e{{\varphi }_{1}}} {{{m}_{e}}}}} \right. \kern-0em} {{{m}_{e}}}}} \right)}^{{ - \frac{1}{2}}}}.$ Имеем

(4)
$\frac{{d\tilde {E}}}{{d\tilde {\varphi }}} = - \frac{1}{{\tilde {E}}}\left( {\kappa \frac{{{{y}_{2}}}}{{{{{\tilde {E}}}^{{\frac{1}{2}}}}}} - {{{\left( {1 + \tilde {\varphi }} \right)}}^{{ - \frac{1}{2}}}}} \right),$
(5)
$\begin{gathered} \frac{{d{{y}_{2}}}}{{d\tilde {\varphi }}} = \left[ {{{a}_{1}}\left( {{{y}_{2}} + {{y}_{3}}} \right) + \frac{{{{a}_{2}}}}{{\tilde {E}}}\left( {\tilde {\sigma }_{{ea}}^{i}\,_{{^{{^{{^{{^{{^{{^{{}}}}}}}}}}}}}}^{{^{{^{{^{{}}}}}}}}} \right.} \right. - \\ \left. { - \,\,\left. {\int\limits_{ - 1 + \frac{1}{\beta }}^{\tilde {\varphi }} {d{{y}_{2}}} \left( {\tilde {\varphi }{\text{'}}} \right)\left( {\frac{{\ln (\beta (\tilde {\varphi } - \tilde {\varphi }{\text{'}}))}}{{\beta (\tilde {\varphi } - \tilde {\varphi }{\text{'}})}}} \right)} \right)} \right], \\ \end{gathered} $
(6)
${{y}_{3}} = \int\limits_0^{\tilde {\varphi }} {d\varphi {\text{'}}} {{y}_{2}}(\tilde {\varphi }{\text{'}}){{e}^{{ - {{M}_{a}}\left( {\tilde {x}(\tilde {\varphi }) - \tilde {x}(\tilde {\varphi }{\text{'}})} \right)}}},$
(7)
$\tilde {x}(\tilde {\varphi }) = - {{a}_{3}}\int\limits_0^{\tilde {\varphi }} {\frac{{d\tilde {\varphi }}}{{\tilde {E}(\tilde {\varphi })}}} .$

Уравнение (4) определяет зависимость напряженности электрического поля $\tilde {E}$ от $\tilde {\varphi },$ (5) – зависимость безразмерной плотности потока ионов от $\tilde {\varphi },$ (6) – зависимость плотности потока атомов, образовавшихся в слое при перезарядке ионов, от потенциала $\tilde {\varphi }.$ При таком определении Е* в уравнении (4) содержится только один безразмерный параметр κ, что упрощает решение системы уравнений. Отметим, что при записи системы уравнений (4)–(6) совершен переход от координаты х к независимой переменной $\tilde {\varphi }$ (безразмерному потенциалу). При записи (4) и (5) использовалось соотношение $d\tilde {x} = - ({{{{\varphi }_{1}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{{{\varphi }_{1}}} {\tilde {E}E{\text{*}}{{x}_{1}})d\tilde {\varphi }}}} \right. \kern-0em} {\tilde {E}E{\text{*}}{{x}_{1}})d\tilde {\varphi }}}.$ Такой прием существенно облегчил решение задачи. Граничное условие для (5) на границе слоя и плазмы: ji(0) = 0.5je0N0$\sigma _{{ea}}^{i}$(eφ1)L(1 + χ2), где χ2 учитывает ионизацию газа в плазме вторичными электронами. При записи выражения для ji(0) принято во внимание, что в плоской задаче при низком давлении газа половина родившихся в плазме ионов движется в сторону катода и попадает в слой, а другая половина переходит к аноду, на котором нейтрализуется. Выражение χ2, входящее в граничное условие к (5) и коэффициенты в уравнениях (4)(6), имеет вид

${{\chi }_{2}} = \frac{\beta }{{\ln \beta }}\int\limits_0^{ - 1 + \frac{1}{\beta }} {d{{y}_{2}}\frac{{\ln \left( {\beta \left( {1 + \tilde {\varphi }} \right)} \right)}}{{\beta (1 + \tilde {\varphi })}}} ,$
(8)
${{a}_{1}} = \frac{{\sigma _{{ia}}^{{i0}}}}{{2{{\sigma }_{r}}}}\frac{{e{{\varphi }_{1}}}}{{\varepsilon {\text{*}}}},\,\,\,\,{{a}_{2}} = \frac{{{{N}_{0}}\sigma _{{ea}}^{{i0}}{{\varphi }_{1}}}}{{E{\text{*}}}},\,\,\,\,{{a}_{3}} = \frac{{{{\varphi }_{1}}}}{{E{\text{*}}{{x}_{1}}}},$
$\beta = \frac{{e{{\varphi }_{1}}}}{I},\,\,\,\,{{M}_{a}} = {{N}_{0}}\sigma _{{aa}}^{{el}}{{x}_{1}},\,\,\,\,\kappa = {{\left( {\pi \frac{{{{m}_{i}}}}{{{{m}_{e}}}}\frac{{{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}{{\varphi }_{1}}}}{{E{\text{*}}}}} \right)}^{{\frac{1}{2}}}}.$

Отметим, что роль заряда вторичных электронов в уравнении (4) не существенна. Ионизацию вторичными электронами необходимо учитывать при определении потока ионов в (5). Концентрация ионов в (4) определялась из выражения для потока ионов с учетом зависимости скорости ионов от напряженности электрического поля (2). Последний член в правой части уравнения (5) описывает ионизацию газа в слое вторичными электронами. Таким образом, решение задачи сводится к решению системы уравнений (3)–(6) с учетом (8). Зависимость всех функций от координаты определяется уравнением (7).

Сечения ионизации ионами и быстрыми атомами линейно возрастают с ростом энергии ε этих частиц и считаются равными $\sigma _{{ia}}^{i} = \sigma _{{aa}}^{i} = {{\sigma }^{{i0}}}{\varepsilon \mathord{\left/ {\vphantom {\varepsilon {\varepsilon {\text{*}}}}} \right. \kern-0em} {\varepsilon {\text{*}}}},$ где $\varepsilon = {{eE} \mathord{\left/ {\vphantom {{eE} {(2{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}})}}} \right. \kern-0em} {(2{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}})}}.$ Здесь ε* характерная энергия, зависящая от рода газа. Сечение ионизации газа электронами аппроксимировалось известным выражением $\sigma _{{ea}}^{i} = \sigma _{{ea}}^{0}\ln {{(\beta \tilde {\varphi })} \mathord{\left/ {\vphantom {{(\beta \tilde {\varphi })} {\beta \tilde {\varphi }}}} \right. \kern-0em} {\beta \tilde {\varphi }}}.$ Запишем граничное условие на катоде в безразмерной форме

(9)
$\begin{gathered} \delta = 1 - \frac{{{{j}_{{eT}}}}}{{{{j}_{{e0}}}}} = {{\delta }_{i}} + {{\delta }_{a}}, \\ {{\delta }_{i}} = {{y}_{2}}(1)\left[ {{{\gamma }_{0}} + {{\pi }^{{ - {1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 2}} \right. \kern-0em} 2}}}}\int\limits_0^\infty {{{\gamma }_{k}}({{\varepsilon }_{1}}t){{e}^{{ - t}}}{{t}^{{ - {1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 2}} \right. \kern-0em} 2}}}}dt} } \right], \\ {{\delta }_{a}} = {{M}_{i}}\int\limits_0^1 {d\tilde {x}{\text{'}}{{y}_{2}}(} \tilde {x}{\text{'}}){{e}^{{ - {{M}_{a}}(1 - \tilde {x}{\text{'}})}}}{{\gamma }_{k}}(\varepsilon (\tilde {x}{\text{'}})), \\ {{M}_{i}} = {{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}{{x}_{1}}. \\ \end{gathered} $

Здесь

$t = \frac{\varepsilon }{{\varepsilon (1)}},\,\,\,\,\varepsilon (\tilde {x}) = \frac{{eE{\text{*}}\tilde {E}(\tilde {x})}}{{{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}}}.$

Если термоток отсутствует ( jeT = 0), то δ = 1 и условие (9) является граничным условием для ВТР. При наличии термотока δ < 1. Параметры δi и δa характеризуют доли плотности тока вторичной электронной эмиссии при столкновении потоков ионов (δi) и атомов (δa) с катодом. При записи выражения для δi значение коэффициента вторичной электронной эмиссии при кинетическом вырывании электронов γk(ε) усреднялось с функцией распределения ионов по энергиям [4] на катодной границе:

(10)
${{f}_{i}} = {{\left( {{{2{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}{{m}_{i}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{2{{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}{{m}_{i}}} {\pi eE}}} \right. \kern-0em} {\pi eE}}} \right)}^{{\frac{1}{2}}}}\exp \left( { - {{N}_{0}}{{\sigma }_{r}}{{m}_{i}}{{V_{i}^{2}} \mathord{\left/ {\vphantom {{V_{i}^{2}} {2eE}}} \right. \kern-0em} {2eE}}} \right).$

При определении δa учитывался весь спектр энергий быстрых атомов на катоде. При записи выражения для ионизации вторичными электронами в слое (5) учитывался тот факт, что вторичные электроны и ионы рождаются парами. Поток ионов, родившихся в слое, на катодной границе равен потоку вторичных электронов на анодной границе. Поэтому в уравнении (5) ионизация вторичными электронами выражена через y2. Однако поскольку ось x направлена к катоду, а вторичные электроны движутся в противоположном направлении, то их учет производится методом последовательных приближений. Таким образом, математическая модель, включающая уравнения (4) и (5), позволяет провести расчеты $\tilde {E}(\tilde {\varphi }),$ ${{y}_{2}}(\tilde {\varphi })$ при различных значениях параметров N0, L, φ1, je0. Граничное условие (9) определяет связь между этими параметрами. Например, можно задаться значениями N0 и L и определить зависимость φ1(je0), т.е. ВАХ разряда. Зависимости E(x), φ(x), y2(x), y3(x) рассчитываются с использованием связи между напряженностью поля, потенциалом и координатой (7).

Таким образом, решение задачи сводится к решению системы нелинейных интегро-дифференциальных уравнений с учетом граничных условий (8) и (9). Зависимость всех функций от координаты определяется уравнением (7).

РЕЗУЛЬТАТЫ РАСЧЕТОВ

В качестве примера расчета параметров высоковольтного разряда низкого давления с комбинированной эмиссией электронов с катода был выбран разряд в гелии, который наряду с другими легкими газами (водородом, дейтерием) применяется в газонаполненных ускорителях электронов [46]. Расчеты выполнены в широком диапазоне изменения N0, L, je0 при различных значениях плотности термотока на катоде. В настоящей работе приведены результаты расчетов для N0 = = 3 × 1015 см–3 и размера плазмы L = 10 см. Зависимость γk(ε) в соответствии с [7] имеет вид γk(ε) = = κ$\sqrt {\varepsilon } ,$ где энергия ионов (и быстрых атомов) измеряется в эВ, и κ = 3.5 × 10–2 (γ* = 5 при ε = 2 × 104 эВ), $\sigma _{{ea}}^{0}$ = 1.3 × 10–16 см2, $\sigma _{{ia}}^{0}$ = 4 × 10–17 см2, ${{\sigma }_{r}}$ = 10 –15 см2, ε* = 103 эВ [3, 8, 9]. Результаты расчетов представлены на рис. 1, 2 и в таблице.

Рис. 1.

Распределение электрического поля (а) и потока ионов (б) для N0= 3 × 1015 см–3, γ* = 5: сплошные линии – je0= 1.0 А/см2: 1 – δ = 1, φ1 = 64.5 кВ; 2 – 0.76, 50; 3 – 0.54, 30; штриховые – je0= 0.1 А/см2: 1 – δ = 1, φ1 = 42.3 кВ; 2 – 0.64, 20; 3 – 0.52, 10.

Рис. 2.

Вольт-амперные характеристики ВТР для N0= = 3 × 1015 см–3, γ* = 5: 1 – δ = 1, 2 – 0.8, 3 – 0.6, 1a – δ = 1 (без учета ионизации вторичными электронами).

Таблица 1.  

Параметры высоковольтного разряда при различных значениях плотности термотока

je0, А/см2 φ1, кВ δ x1, см δi δa y2(1) y3(1) M γi γa
1.0 65 1.0 4.2 0.5 0.5 0.076 0.24 12 6.6 2.1
50 0.76 3.5 0.38 0.38 0.062 0.20 10 6.1 1.9
40 0.64 3.0 0.33 0.31 0.056 0.17 9 5.8 1.8
30 0.54 2.4 0.28 0.26 0.052 0.15 7 5.5 1.7
20 0.47 1.7 0.26 0.21 0.051 0.13 5 5.2 1.6
0.1 42 1.0 6.7 0.38 0.62 0.09 0.47 20 4.2 1.3
30 0.78 5.2 0.31 0.47 0.08 0.40 16 3.9 1.2
20 0.64 3.8 0.28 0.36 0.076 0.34 12 3.6 1.1
15 0.57 3.0 0.26 0.31 0.076 0.31 9 3.5 1.0
10 0.51 2.2 0.25 0.26 0.080 0.28 7 3.3 0.92
  0.03 31 1.0 7.8 0.35 0.65 0.107 0.67 24 3.3 0.97
20 0.78 5.7 0.30 0.48 0.100 0.49 17 3.0 0.84
10 0.58 3.3 0.27 0.31 0.100 0.46 10 2.7 0.67
5 0.50 1.9 0.29 0.21 0.114 0.39 6 2.5 0.55

На рис. 1а приведены распределения электрических полей в слое объемного заряда для плотности тока с катода je0 = 1.0 А/см2 (сплошные линии) и плотности тока je0 = 0.1 А/см2 (штриховые) при трех значениях δ = 1 – jeT/jeγ. Для наглядности все кривые представлены в зависимости от координаты x1–x. Отметим, что при уменьшении δ (увеличении jeT) значения электрического поля, напряжения φ1 и размера слоя x1 уменьшаются. Объемный заряд слоя положительный, влиянием электронного заряда можно пренебречь. На рис. 1б представлена зависимость плотности ионного тока от координаты для тех же режимов, что и на рис. 1а. Значение ji(x) увеличивается в направлении катода за счет ионизации газа электронами, быстрыми атомами и ионами. При снижении δ одновременно уменьшаются φ1 и размер слоя x1. Оба фактора влияют на ионизацию в слое по-разному. Уменьшение напряжения снижает напряженность электрического поля в слое, а уменьшение слоя повышает напряженность. В результате при je0 = 1.0 А/см2 плотность ионного тока на катоде незначительно уменьшается, а при je0 = 0.1 А/см2 – практически не меняется.

На рис. 2 представлены ВАХ высоковольтного разряда при трех значениях δ. Штриховой линией показана ВАХ ВТР (δ = 1), которая рассчитана без учета ионизации вторичными электронами. В этом случае для каждого значения je0 напряжение φ1 заметно превышает аналогичные значения, рассчитанные с учетом ионизации вторичными электронами в слое и в плазме, поэтому роль ионизации атомов в слое и плазме вторичными электронами существенна. При снижении δ величина φ1 уменьшается. Таким образом, термоэмиссия с катода существенным образом влияет на ВАХ высоковольтного разряда с комбинированной эмиссией.

В таблице приведена более подробная информация о параметрах ВТР с комбинированной эмиссией. Для трех плотностей тока с катода (je0 = = 1.0, 0.1, 0.03 А/см2) и различных значений δ для каждого тока в таблице представлены напряжение φ1, размер слоя x1, доли плотностей тока вторичной электронной эмиссии с катода под действием ионов δi и потока быстрых атомов δa, значения безразмерных потоков ионов y2(1) и атомов y3(1) на катоде, число перезарядок ионов в слое Мi, а также усредненные по функциям распределения ионов и атомов значения коэффициентов вторичной эмиссии электронов γi и γa. Следует обратить внимание на тот факт, что хотя плотность потока атомов на катоде значительно превышает плотность потока ионов, однако вклад во вторичную эмиссию с катода ионов и быстрых атомов отличается заметно в меньшей степени. Это связано с существенным различием формы их функций распределения на катоде. На катод поступают ионы с гораздо большей средней энергией, поэтому у них значительно выше эффективный коэффициент вторичной электронной эмиссии (γi заметно больше γа). В поток атомов дают существенный вклад быстрые атомы, образовавшиеся в области слабого поля в прианодной части слоя. Этот факт связан с тем, что сечение упругого столкновения быстрого атома с медленным σаа много меньше сечения перезарядки σr. Поэтому функция распределения быстрых атомов имеет гораздо более широкий энергетический спектр, чем функция распределения ионов. В поток ионов основной вклад дают ионы, образовавшиеся в прикатодной области в сильном поле и имеющие большую энергию.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Разработанная математическая модель высоковольтного разряда учитывает кинетические эффекты. Особенности функций распределения учитываются интегралами, входящими в уравнения и в выражения для δi и δа. Кроме того, для функции распределения ионов использовалось выражение (10). Электроны, выходящие с поверхности катода, и вторичные электроны, родившиеся в слое, движутся в режиме убегания. Длина свободного пробега этих электронов при высоких напряжениях превышает размеры слоя и плазмы. Отношение плотности потока вторичных электронов к плотности тока электронов, выходящих с катода, равно y2(1) $ \ll $ 1 (таблица), поэтому функция распределения электронов по энергиям имеет сильно выраженную пучковую часть и слабо выраженный широкий спектр вторичных электронов, родившихся в слое при ионизации газа пучком электронов. Именно этим свойством ВТР отличается от аномального (и других форм) тлеющего разряда, спектр электронов в котором перекрывает весь диапазон энергии без явно выраженной пучковой части. Ионы в слое движутся в режиме подвижности (Мi $ \gg $ 1). Отметим, что и в скорости дрейфа Vi (2), и в энергии ионов ε учтены кинетические поправки, уменьшающие Vi в (2/π)1/2 раза, а ε – в два раза. Факт уменьшения ε при кинетическом рассмотрении существенен, поскольку он влияет на значение коэффициента вторичной электронной эмиссии, а следовательно, на параметры разряда. Быстрые атомы движутся в кинетическом режиме, так как их длина свободного пробега заметно превышает длину перезарядки. Поскольку энергия быстрого атома при перезарядке равна энергии иона, то кинетическая поправка к энергии иона передается быстрому атому. Таким образом, разработанная кинетическая математическая модель, корректно учитывающая основные физические процессы, вполне пригодна для выбора режимов генерации электронных пучков для различных технологических применений. Проведение расчетов с применением этой модели доступно широкому кругу пользователей, при этом значительно уменьшается время проведения расчетов по сравнению с другими кинетическими программами, использующими гораздо более сложные математические модели [10].

Таким образом, можно сделать следующие выводы.

1. Разработана достаточно простая математическая модель, учитывающая основные физические процессы, влияющие на параметры высоковольтного разряда.

2. Показано, что в разряде с комбинированной эмиссией электронов с катода увеличение отношения плотности термотока к плотности тока вторичной электронной эмиссии сдвигает ВАХ разряда в область более низких напряжений.

3. Для конкретных случаев приведены значения напряжения разряда φ1, распределения электрического поля, плотности тока ионов и атомов в слое, рассчитаны эффективные коэффициенты вторичной электронной эмиссии для ионов γi и атомов γa, размеры слоя x1, доли вторичных электронов, выходящих с катода под действием ионов δi и атомов δа, а также другие параметры разряда с учетом ионизации первичными и вторичными электронами, ионами и быстрыми атомами.

Список литературы

  1. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. М.: Наука, 1971. 543 с.

  2. Новиков А.А. Источник электронов высоковольтного тлеющего разряда с анодной плазмой. М.: Энергоатомиздат, 1983. 215 с.

  3. Ульянов К.Н. Теория высоковольтного тлеющего разряда // ТВТ. 1978. Т. 16. № 6. С. 1121.

  4. Каган Ю.М., Перель В.И. О движении положительных ионов в собственном газе // ДАН СССР. 1954. Т. 38. С. 575.

  5. McClure G.W., Granzow K.D. High-Voltage Glow Discharges in D2 Gas. II. Cathode Fall Theory // Phys. Rev. 1962. V. 125. P. 3.

  6. Пустынский Л.Н. Численное моделирование высоковольтного тлеющего разряда в дейтерии // ТВТ. 1983. Т. 25. № 3. С. 441.

  7. Каминский М. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967. 506 с.

  8. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. М.: Гостехиздат, 1952. 432 с.

  9. Смирнов Б.М. Атомные столкновения и элементарные процессы в плазме. М.: Атомиздат, 1968. 363 с.

  10. Коваленко Ю.А. Физические принципы построения и методы расчета газонаполненных ускоряющих систем с плазменными эмиторами заряженных частиц. Дис. … докт. физ.-мат. наук. М.: ГНЦ РФ ФГУП ВЭИ им. В.И. Ленина, 1995. 443 с.

Дополнительные материалы отсутствуют.