1. На главную
  2. Электронные версии
  3. Химия высоких энергий
  4. T. 57, № 5, 2023

Химия высоких энергий, 2023, T. 57, № 5, стр. 400-403

Толщина модифицированного слоя полимеров, образующегося под воздействием низкотемпературной плазмы

А. Б. Гильман a, *, **, М. С. Пискарев a, А. А. Кузнецов a

a Институт Синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук
117393 Москва, ул. Профсоюзная, 70, Россия

* E-mail: plasma@ispm.ru
** E-mail: gilmanab@gmail.com

Поступила в редакцию 28.04.2023
После доработки 16.05.2023
Принята к публикации 19.05.2023

Аннотация

Рассмотрены представленные в литературе экспериментальные данные по глубине обработки полимерных пленок с использованием низкотемпературной плазмы. Изменение химического состава и структуры по глубине образцов исследовали с помощью современных экспериментальных методов – рентгенофотоэлектронной спектроскопии, вторичной ионной эмиссии и трансмиссионной электронной микроскопии; прецизионное травление осуществляли с помощью кластерного пучка Ar+2500, глубину кратера измеряли методом профилометрии. Было установлено, что толщина модифицированного слоя составляет ≤50 нм и сравнительно мало зависит от природы полимеров.

Ключевые слова: модифицирование поверхности, низкотемпературная плазма, глубина обработки, рентгенофотоэлектронная спектроскопия, вторичная ионная эмиссия. трансмиссионная электронная микроскопия, прецизионное травление кластерным пучком Ar+2500, профилометрия

Список литературы

  1. Oehr C., Wertheimer M.R. // Plasma Proc. Polym. 2022. V. 19. 2277025.

  2. Tudoran C., Roşu M-C., Coroş M. // Plasma Proc. Polym. 2020. V. 17. № 8. 2000046.

  3. Weltmann K.-D., Kolb J.F., Holub M., Uhrlandt D. et al. // Plasma Proc Polym: Spec. Iss. The Future of Plasma Science, 2019. V. 16. № 1. 1800118.

  4. Cvelbar U., Walsh J.L., Černák M., de Vries H.W. et al. // Plasma Proc Polym: Spec. Iss. The Future of Plasma Science, 2019. V. 16. № 1. 1700228.

  5. Bekeschus S., Favia P., Robert E., Von Woedtke T. // Plasma Proc Polym: Spec. Iss. The Future of Plasma Science. 2019. V. 16. № 1. 1800033.

  6. Iqbal M., Dinh D.K., Abbas Q., Imran M., Sattar H., Ahmad A.U. // Surfaces. 2019. V. 2. P. 349.

  7. Modification of Polymer Properties / Eds. C.F. Jasso-Gastinel, J.M. Kenny, 2017. William Andrew. 232 p.

  8. Plasma Science and Technology – Progress in Physical States and Chemical Reactions / Ed. by Mieno T., 2016. InTech. 574 p.

  9. Desmet T., Morent R., De Geyter N., Leys C., Schacht E., Dubruel P. // Biomacromolecules. 2009. V. 10. P. 2351.

  10. Кутепов А.М., Захаров А.Г., Максимов А.И. Вакуумно-плазменное и плазменно-растворное модифицирование полимерных материалов. 2004. Москва: Наука. 496р.

  11. Энциклопедия низкотемпературной плазмы. / Вводный том IV. Под ред. Фортова В.Е., 2000. Москва: Наука. С. 393.

  12. Nakayama Y., Soeda F., Ishitani A., Ikegami T. // Polym. Eng. Sci. 1991. V. 31. № 11. P. 812.

  13. Яблоков М.Ю., Соколов И.И., Малиновская О.С., Гильман А.Б., Кузнецов А.А. // Химия высоких энергий. 2013. Т. 47. № 1. С. 76. [Yablokov M.Yu., Sokolov I.V., Malinovskaya O.S., Gilman A.B., Kuznetsov A. A. // High Energy Chem. 2013. V. 47. № 1. P. 32.]

  14. Cristaudo V., Collette S., Tuccitto N., Poleunis C., Melchiorre L.C., Licciardello A., Reniers F., Delcorte A. // Plasma Proc. Polym. 2016. V. 13. № 11. P. 1106.

  15. Corbella C., Pranda A., Portal S., delos Arcos T., Grundmeier G., Oehrlein G.S., von Keudell A. // Plasma Proc. Polym. 2019. V. 16. № 6. 1900019.

  16. Luan P., Oehrlein G.S. // Plasma Proc. Polym. 2019. V. 16. № 11. 1900053.

  17. Пискарев М.С., Скрылева Е.А., Сенатулин Б.Р., Гильман А.Б., Кузнецов А.А. // Химия высоких энергий. 2020. Т. 54. № 4. С. 325. [Piskarev M.S., Skry-leva E.A., Senatulin B.R., Gilman A.B., Kuznetsov A.A. // High Energy Chemistry. 2020. V. 54. № 4. P. 299.]

  18. Piskarev M., Skryleva E., Gilman A., Senatulin B., Zinoviev A., Syrtsova D., Teplyakov V., Kuznetsov A. // Coatings. 2021. V. 11. P. 1317.

Дополнительные материалы отсутствуют.

Инструменты

следующая статья выпуска предыдущая статья выпуска содержание выпуска

Химия высоких энергий

Архивы выпусков Информация о журнале Отправить рукопись в журнал