1. На главную
  2. Электронные версии
  3. Химия высоких энергий
  4. T. 57, № 6, 2023

Химия высоких энергий, 2023, T. 57, № 6, стр. 490-494

Влияние нетермической плазменной струи на изменение поверхностных свойств семян пшеницы

Б. Б. Балданов a, *, Ц. В. Ранжуров a

a Институт физического материаловедения СО РАН
670031 Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 6, Россия

* E-mail: baibat@mail.ru

Поступила в редакцию 21.04.2023
После доработки 10.07.2023
Принята к публикации 14.07.2023

Аннотация

Показано изменение поверхностных свойств семян пшеницы при воздействии нетермической плазменной струи атмосферного давления. После плазменной обработки поверхность семян пшеницы становится гидрофильной и характеризуется снижением контактного угла смачивания, повышением поверхностной энергии и увеличением водопоглощения семян.

Ключевые слова: нетермическая плазменная струя, пшеница, смачиваемость, контактный угол, микроструктура поверхности

Список литературы

  1. Tendero C., Tixier C., Tristant P., et al. // Spectrochim. Acta B. 2006. V. 61. P. 2.

  2. Nehra V., Kumar A., Dwivedi H.K. // Int. J. Eng. 2008. V. 2. P. 53.

  3. Schutze A., Jeong J.Y., Babayan S.E., et al. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1998. V. 26. P. 1685.

  4. Lu X., Laroussi M., Puech V. // Plasma Sources Sci. Technol. 2012. V. 21. P. 1.

  5. Jiang J., He X., Li L., et al. // Plasma Sci. Technol. 2014. V. 16. P. 54.

  6. Zhao C., Piao S., Huang Y., et al. // Nat. Commun. 2016. V. 7. P. 13530.

  7. Zahoranová A., Henselová M., Hudecová D., et al. // Plasma Chem. Plasma Process. 2016. V. 36. P. 397.

  8. Dobrin D., Magureanu M., Mandache N.B., et al. // Innovative Food Science and Emerging Technologies. 2015. V. 29. P. 255.

  9. Bormashenko E., Shapira Y., Grynyov R., et al. // J. Exp. Bot. 2015. V. 66. P. 4013.

  10. Moisan M., Barbeau J., Moreau S., et al. // Int. J. Pharm. 2001. V. 226. P. 1.

  11. Liu H.X., Chen J.R., Yang L.Q., et al. // Appl. Surf. Sci. 2008. V. 254. P. 1815.

  12. Zhang X., Huang J., Liu X. et al. // J. Appl. Phys. 2009. V. 105(6). P. 063302.

  13. Deng X.T., Shi J.J., Chen H.L., et al. // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90(1). P. 013903.

  14. Ji Y.Y., Hong Y.C., Lee S.H., et al. // Surf. Coat. Technol. 2008. V. 202 (22–23). P. 5663.

  15. Shashurin A., Keidar M., Bronnikov S., et al. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 93(18) P. 181501.

  16. Hong Y.C., Uhm H.S. // Appl. Phys. Lett. 2006. V. 89(22). P. 221504.

  17. Kolb J.F., Mohamed A.A.H., Price R.O., et al. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 92. P. 1.

  18. Lu X.P., Jiang Z.H., Xiong Q., et al. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 92. P. 081502.

  19. Hong Y.C., Uhm H.S. // Appl. Phys. Lett. 2006. V. 89. P. 221504.

  20. Zhang X., Li M., Zhou R., et al. // Applied Phys. Lett. 2008. V. 93. P. 021502.

  21. Hong Y.C., Uhm H.S., Yi W.J. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 93. P. 051504.

  22. Nie Q.Y., Ren C.S., Wang D.Z., et al. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 93. P. 011503.

  23. Hong Y.C., Cho S.C., Kim J.H., et al. // Phys. Plasmas. 2007. V. 14. P. 074502.

  24. Hong Y.C., Cho S.C., Uhm H.S. // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90. P. 141501.

  25. Lotfy K // J. Mod. Phys. 2017. V. 8. P. 1901.

  26. Bormashenko E., Grynyov R., Bormashenko Y., et al. // Scientific Reports. 2012. V. 2. P. 741.

  27. Henselova M., Slovakova L., Martinka M., et al. // Biologia. 2012. V. 67. P. 490.

  28. Randeniya L.K., de Groot G.J.J.B. // Plasma Processes and Polymers. 2015. V. 12. P. 608.

  29. Kitazaki S., Koga K., Shiratani M., et al. // Japanese Journal of Applied Physics. 2012. V. 51. 01AE01.

  30. Baldanov B.B., Ranzhurov Ts.V., Sordonova M.N., et al. // Plasma Physics Reports. 2020. V. 46. P. 110.

  31. Filatova I., Azharonok V., Shik A., et al. // Plasma for Bio-Decontamination, Medicine and Food Security. NATO Science for Peace and Security, Ser. A: Chemistry and Biology. 2012. P. 469.

  32. Dhayal M., Lee S.Y., Park S.U. // Vacuum. 2006. V. 80. P. 499.

  33. Семенов А.П., Балданов Б.Б., Ранжуров Ц.В. // Приборы и техника эксперимента. 2019. № 3. С. 130.

  34. Stalder A.F., Melchior T., Müller M., et al. // Colloids Surfaces A Physicochem Eng Asp. 2010. V. 364. № 1. P. 72.

  35. Deshmukh R.R., Shetty A.R. // Journal of Applied Polymer Science. 2008. V. 107. P. 3707.

  36. Šerá B., Špatenka P., Šerý M., et al. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2010. V. 38. P. 2963.

  37. Балданов Б.Б., Ранжуров Ц.В. // Химия высоких энергий. 2022. Т. 56. № 4. С. 310.

  38. Zahoranova A., Henselova M., Hudecova D., et al. // Plasma Chem. Plasma Process. 2015. V. 36. P. 397.

  39. Adebe A.T., Modi A.T. // Res. J. Seed Sci. 2009. V. 2. P. 23.

  40. Lee K.H., Kim H.-J., Woo K.S., et al. // LWT – Food Sci. Technol. 2016. V. 73. P. 442.

  41. Ulbin-Figlewicz N., Brychcy E., Jarmoluk A. // J. Food Sci. Technol. 2015. V. 52. P. 1228.

Дополнительные материалы отсутствуют.

Инструменты

следующая статья выпуска предыдущая статья выпуска содержание выпуска

Химия высоких энергий

Архивы выпусков Информация о журнале Отправить рукопись в журнал