Радиотехника и электроника, 2020, T. 65, № 2, стр. 165-168

Управление диаграммой направленности многоэлементных плазменных антенн вибраторного типа

О. В. Тихоневич a*, Ю. Е. Векшин b, И. М. Минаев a**, Г. П. Кузьмин a, А. А. Рухадзе

a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН
119991 Москва, ул. Вавилова, 38, Российская Федерация

b 16 Центральный научно-исследовательский испытательный институт МО РФ им. маршала А.И. Белова
141006 Московской обл., Мытищи-6, Российская Федерация

* E-mail: tichon@kapella.gpi.ru
** E-mail: minaev1945@mail.ru

Поступила в редакцию 01.08.2018
После доработки 11.01.2019
Принята к публикации 21.01.2019

Полный текст (PDF)

Аннотация

Проведен анализ возможностей управления диаграммой направленности многоэлементных плазменных вибраторных антенн типа волновой канал. Показано, что плазменная вибраторная антенна в рабочем диапазоне является узкополосным частотным фильтром. В многоэлементной линейной плазменной вибраторной антенне, отключение пассивного плазменного вибратора позволяет производить управление шириной диаграммы направленности электронным способом.

ВВЕДЕНИЕ

В ряде прикладных задач возникает необходимость управления электродинамическими параметрами антенн (например, обеспечение электромагнитной совместимости антенн различного частотного диапазона, управление диаграммой направленности, управление эффективной площадью рассеяния антенн и т.п.). Такая возможность появляется, если в качестве токонесущего элемента, вместо металлического проводника, использовать плазму.

Вибраторные антенны используются в миллиметровом, сантиметровом, дециметровом, метровом и в более длинноволновых диапазонах волн вплоть до сверхдлинных волн и представляют собой прямолинейные проводники (одиночные вибраторные антенны) или системы прямолинейных проводников (антенные решетки), возбуждаемые в определенных точках. Вибраторные антенны применяются в системах радиосвязи, радионавигации, телевидении, телеметрии и других областях радиотехники.

Одиночные вибраторные антенны являются слабонаправленными. Для увеличения коэффициента направленного действия и получения диаграммы направленности (ДН) требуемой формы применяют многовибраторные антенны. Теория построения многоэлементных вибраторных (металлических) антенн разработана и широко представлена в литературе [13]. Возможность построения многоэлементных плазменных вибраторных антенн, насколько известно авторам, в печати не рассматривалась. Как показано в [49], характеристики плазменных одновибраторных антенн при плотности электронов в плазме ne $ \gg $ nкр (nкр – концентрация электронов, при которой рабочая частота ω равна плазменной частоте ωp, где ${{\omega }_{p}} = \sqrt {{{4\pi {{n}_{e}}{{e}^{2}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{4\pi {{n}_{e}}{{e}^{2}}} m}} \right. \kern-0em} m}} ,$ e – заряд, m – масса электрона, nе – концентрация электронов) практически не отличаются от характеристик металлических одновибраторных антенн. Поэтому для указанных выше целей плазменные антенны могут полностью заменить металлические антенны. Однако в силу того, что параметрами плазмы можно управлять, возможности плазменных антенн могут быть шире, чем у металлических. Так, например, у многовибраторной антенной решетки за счет отключения плазменных рефлекторов можно менять число элементов антенны. При этом в отличие от металлических антенн отключенные элементы практически не будут влиять на диаграмму направленности, формируемую оставшимися элементами. Кроме режима “включен-выключен” имеется возможность управлять величиной комплексного сопротивления вибраторной антенны, которое определяется рабочей частотой ω и плазменной частотой ωp (концентрацией электронов в плазме ne).

Плазменная вибраторная антенна представляет собой диэлектрическую трубку, заполненную инертным газом, в которой тем или иным способом зажигается разряд, например, с помощью поверхностной волны [4, 10, 11]. Длина плеча у плазменных антенн ~λ/4…λ/2, такая же как и у металлических. Плотность плазмы, создаваемой электрическим разрядом, определяется параметрами источника и в таких устройствах может достигать значений ne $ \gg $ nкр. Если плазменная антенна попадает в переменное электромагнитное поле, то возбуждаемые в плазме токи приводят к возникновению рассеянного плазменной антенной электромагнитного поля, амплитуда и фаза которого зависят от плотности плазмы ne и, как в металлической антенне, от длины антенны l и диаметра a. Представляет интерес рассмотреть возможность управления параметрами плазменной многоэлементной вибраторной антенной решетки за счет изменения ne (величины комплексного сопротивления).

1. КОМПЛЕКСНЫЙ ИМПЕДАНС И МОЩНОСТЬ ИЗЛУЧЕНИЯ ПЛАЗМЕННОЙ ВИБРАТОРНОЙ АНТЕННЫ

Для расчета характеристик плазменной вибраторной антенны представим диэлектрическую трубку в виде конденсатора, который в отсутствие диэлектрического заполнения имеет емкость С0.

Конденсатор, заполненный веществом с диэлектрической проницаемостью ε(ω), соответствующей плазме

(1)
$\varepsilon ~\left( \omega \right) = 1 - \frac{{\omega _{p}^{2}}}{{\omega \left( {~\omega + i{{\nu }_{e}}~} \right)}}$
(где ${{{\nu }}_{e}}$ – частота столкновений электронов с нейтральными частицами), будет иметь импеданс такой же, как двухполюсник [12, 13] (рис. 1).

Рис. 1.

Эквивалентная схема плазменного вибратора.

Комплексный импеданс двухполюсника (плазменного конденсатора) можно представить в виде

(2)

При расчете характеристик плазменного конденсатора положим, что можно пренебречь краевыми эффектами и считать плазму однородной в поперечном направлении (перпендикулярно оси трубки). При параллельном соединении емкости Сp и индуктивности Lp, когда активное сопротивление Rp включено последовательно с индуктивностью (см. рис. 1), комплексный импеданс рассчитывается по формуле

(3)
$Z = ~\frac{{{{Z}_{c}}\left( {{{Z}_{L}} + {{R}_{p}}} \right)}}{{{{Z}_{c}} + {{Z}_{L}} + {{R}_{p}}}} = \frac{i}{{\omega C}}\frac{{\omega \left( {\omega + {{i{{R}_{p}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{i{{R}_{p}}} {{{L}_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{L}_{p}}}}} \right)}}{{\omega \left( {\omega + {{i{{R}_{p}}} \mathord{\left/ {\vphantom {{i{{R}_{p}}} {{{L}_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{L}_{p}}}}} \right) - \omega _{p}^{2}}}.$

Подставляя ${{R}_{p}} = \nu {{L}_{p}}$ и $~{{L}_{p}} = {1 \mathord{\left/ {\vphantom {1 {\omega _{p}^{2}{{C}_{0}}~}}} \right. \kern-0em} {\omega _{p}^{2}{{C}_{0}}~}}$ [12, 13] получим

(4)
$Z = i\frac{1}{{\omega {{C}_{0}}}}\frac{{\omega \left( {\omega + i\nu } \right)}}{{\omega \left( {\omega + i\nu } \right) - \omega _{p}^{2}}}.$

Выделяя действительную и мнимую части из (4), имеем

(5)
$\begin{array}{*{20}{c}} {{{R}_{p}}\left( {\omega } \right) = \frac{1}{{{{C}_{0}}}}\frac{{\nu \omega _{p}^{2}}}{{{{{\left( {{{\omega }^{2}} - \omega _{p}^{2}} \right)}}^{2}} + {{\omega }^{2}}{{\nu }^{2}}}},} \\ {{{C}_{p}}\left( \omega \right)~ = ~{{C}_{0}}\left( {\frac{{{{{\left( {{{\omega }^{2}} - \omega _{p}^{2}} \right)}}^{2}} + {{\omega }^{2}}{{\nu }^{2}}}}{{{{\omega }^{2}}\left( {{{\omega }^{2}} - \omega _{p}^{2} + {{\nu }^{2}}} \right)}}} \right).} \end{array}$

Графики зависимости ${{R}_{p}}\left( {\omega } \right)~$ и ${{C}_{p}}\left( {\omega } \right){\text{\;}}$ представлены на рис. 2. При ${\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}\sim 1$ действительная часть импеданса ${{R}_{p}}\left( {\omega } \right)$ всегда положительна, а мнимая часть меняет знак. В цитируемых работах исследование характеристик плазменной вибраторной антенны проводилось при условии ω > ωp. Так, например, исследование условий излучения плазменного слоя в [10, 11] проводилось при $\omega _{p}^{2} > 2{{\omega }^{2}}.$

Рис. 2.

Зависимости ${{R}_{p}}\left( {\omega } \right)~$ (сплошная кривая) и ${{C}_{p}}\left( {\omega } \right){\text{\;}}$ (штриховая) от отношения $~{\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}$ в области плазменной частоты $\left( {{\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}} = 1} \right).$

Из рис. 2 видно, что наиболее сильно электротехнические параметры меняются в области плазменной частоты ω ~ ωp. При снижении величины отношения ${\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}$ отрицательная мнимая часть растет, а характеристики плазменного вибратора приближаются к характеристикам металлического вибратора [4]. При росте величины отношения ${\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}$ плазма становится прозрачной для излучения (величина ε(ω) стремится к 1 на рабочей частоте) и эффективность возбуждения плазменного вибратора падает.

Для оценки мощности излучения, представим плазменную антенну в виде диполя с длиной плеча l. Мощность излучения P диполя можно представить в виде [14]

(6)
$P = \frac{{{{\omega }^{4}}}}{{3{{с}^{3}}}}~2p_{0}^{2},$

где ${{p}_{0}}$ – дипольный момент, с – скорость света.

Преобразуем формулу для мощности так, чтобы в нее входил ток в вибраторе $~{{I}_{{\text{В}}}}$, для чего воспользуемся соотношением [14]

(7)
${{p}_{0}} = {{\left( {{{I}_{{\text{В}}}}l} \right)} \mathord{\left/ {\vphantom {{\left( {{{I}_{{\text{В}}}}l} \right)} \omega }} \right. \kern-0em} \omega },$

где ${{I}_{{\text{В}}}} = {U \mathord{\left/ {\vphantom {U {{{R}_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{R}_{p}}}}.$

При $U \approx El$ [13] получаем

(8)
$P = \frac{{2{{\omega }^{2}}}}{{3{{с}^{3}}}}\frac{1}{{R_{p}^{2}}}{{E}^{2}}{{l}^{2}}.$

Величина тока, протекающего в плазменном столбе в области резонанса, определяется сопротивлением $~{{R}_{p}}\left( {\omega } \right).~$Таким образом, изменение величины отношения ${\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}$ на 10%, как видно из рис. 2, приведет к изменению мощности излучения более чем на порядок (8).

В многоэлементных вибраторных антеннах возбуждение пассивных элементов происходит за счет токов, индуцируемых электрическим полем Е излучателя. Влияние излучения пассивного излучателя на форму ДН определяется величиной и фазой тока в пассивном вибраторе. Изменение концентрации ne в плазменной антенне позволяет управлять фазой (за счет изменения мнимой части импеданса) и амплитудой (за счет изменения действительной части импеданса) тока в плазменных вибраторах. Наиболее сильно эти зависимости проявляются при ω ~ ωp. Полученные результаты показывают (см. рис. 2), что в области ω ~ ωp плазменная вибраторная антенна является узкополосным частотным фильтром. При использовании плазменных вибраторов в многоэлементной вибраторной антенне, когда рабочая частота лежит в области ωp, любое отклонение отношения ${\omega \mathord{\left/ {\vphantom {\omega {{{\omega }_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{\omega }_{p}}}}$ от единицы будет приводить к расстройке по частоте всей системы.

Для иллюстрации возможности работы в режиме “включен–выключен” на рис. 3 приведен вид восьмиэлементной линейной плазменной вибраторной антенны и на рис. 4 – картина изменения ДН (MMANA http://gal-ana.de/promm/index.htm): за счет отключения пассивных элементов начиная с 8-го. Из рис. 4 видно, как меняется ширина главного лепестка ДН при последовательном отключении пассивных плазменных элементов антенны.

Рис. 3.

Многоэлементная вибраторная линейная решетка: активный излучатель (1) и пассивные излучатели – рефлектор (2), директоры (3–8).

Рис. 4.

Диаграмма направленности восьмиэлементной плазменной антенны при отключении отдельных элементов (для наглядности не показаны ДН при отключении 8-го, 7-го и 6-го элементов).

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Полученные результаты показывают, что плазменная вибраторная антенна в рабочем диапазоне ω ~ ωp является узкополосным частотным фильтром. При использовании плазменных вибраторов в многоэлементной вибраторной антенне, когда рабочая частота лежит в области ωp, любое отклонение отношения ${{\omega } \mathord{\left/ {\vphantom {{\omega } {{{{\omega }}_{p}}}}} \right. \kern-0em} {{{{\omega }}_{p}}}}$ от единицы за счет изменения электротехнических параметров плазменного вибратора приводит к частотной расстройке всей системы, в области ω $ \ll $ ωp отключение пассивного плазменного вибратора позволяет производить управление шириной ДН электронным способом.

Список литературы

  1. Марков Л.Н. Антенные системы радиоэлектронной техники. М.: Воениздат, 1993.

  2. Айзенберг Г.З., Белоусов С.П., Журбенко Э.М. и др. Коротковолновые антенны. 2-е изд. М.: Радио и связь, 1985.

  3. Айзенберг Г.З., Ямпольский В.Г., Терешин О.Н. Антенны УКВ. М.: Связь, 1977.

  4. Истомин Е.Н., Карфидов Д.М., Минаев И.М. и др. // Физика плазмы. 2006. Т. 32. № 5. С. 423.

  5. Коновалов В.Н., Кузьмин Г.П., Минаев И.М. и др. // РЭ. 2015. Т. 60. № 7. С. 742.

  6. Гусейн-заде Н.Г., Минаев И.М., Рухадзе К.З., Рухадзе А.А. // РЭ. 2011. Т. 56. № 10. С. 1345.

  7. Кирсанов Н.А., Коновалов В.Н., Минаев И.М., Рухадзе А.А. // Радиотехника. 2012. № 10. С. 1611.

  8. Кузьмин Г.П., Минаев И.М., Тихоневич О.В. и др. // РЭ. 2012. Т. 57. № 5. С. 590.

  9. Богачев Н.Н., Богданкевич И.Л., Гусейн-заде Н.Г., Рухадзе А.А. // Физика плазмы. 2015. Т. 41. № 10. С. 860.

  10. Kиpичeнкo Ю.B. // PЭ. 2017. T. 62. № 2. C. 165.

  11. Kиpичeнкo Ю.B. // PЭ. 2017. T. 62. № 12. C. 1215.

  12. Вайнштейн Л.А. Электромагнитные волны. М.: Радио и связь, 1988.

  13. Александров А.Ф., Кузелев М.В. Теоретическая плазменная электротехника. М., 2011.

  14. Корбанский И.Н. Теория электромагнитного поля. М.: Наука, 1964.

Дополнительные материалы отсутствуют.